加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)，為一腔體結(jié)構(gòu)，所述腔體結(jié)構(gòu)內(nèi)部為高真空，所述濺射腔內(nèi)置有一被鍍物，所述濺射腔內(nèi)還設(shè)有一濺鍍槍，由所述濺鍍槍對(duì)被鍍物進(jìn)行濺射；所述濺射腔的其中一面為支撐面，所述支撐面上有一開(kāi)口；一石英玻璃，所述石英玻璃置放于所述開(kāi)口內(nèi)；一加熱器，所述加熱器置于所述濺射腔外側(cè)，及所述石英玻璃的后方，對(duì)所述石英玻璃進(jìn)行加熱動(dòng)作。本實(shí)用新型的有益效果為：（1）因?yàn)轶w積縮小所以在真空作業(yè)上的操作相當(dāng)方便，而且也減少裝置整體的制作成本；（2）另外，加熱的操作系在濺射腔外部進(jìn)行，所以不會(huì)影響所述濺射腔的真空度，保證了良好的濺鍍質(zhì)量。
【專利說(shuō)明】加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于一種濺鍍機(jī)構(gòu)，尤其涉及一種加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]請(qǐng)參考圖1，現(xiàn)有技術(shù)中的濺射腔I’為一腔體結(jié)構(gòu)，用于容納本實(shí)用新型的其它組件；由于濺射程序必須在高度真空下進(jìn)行，因此所述濺射腔I’為一高真空的腔體。一般濺射腔內(nèi)有一濺鍍槍(圖中未示，可參考圖2)，另外可配置一被鍍物2’。由所述濺鍍槍對(duì)內(nèi)部的被鍍物2’進(jìn)行濺射，因此可以在被鍍物上鍍上一層鍍膜，濺鍍的效果遠(yuǎn)比一般電鍍佳，其鍍膜質(zhì)地細(xì)膩而且均勻，因此濺鍍必須在高真空的環(huán)境下進(jìn)行，而且不能有任何破壞真空的動(dòng)作，否則要再恢復(fù)真空時(shí)，須耗費(fèi)相當(dāng)長(zhǎng)的時(shí)間。
[0003]還包括一加熱器5’，所述加熱器置于所述濺射腔I’內(nèi)側(cè)，所述被鍍物2’的后方，其中所述加熱器5’包含鹵素?zé)?0’，所述鹵素?zé)羲椛涞墓饩€，恰可照射所述被鍍物2’，而使所述被鍍物2’產(chǎn)生加熱效果。所述加熱作業(yè)有助于使得所述被鍍物上的鍍膜的顆粒更細(xì)致更均勻，且鍍膜表面更平滑，進(jìn)而提升濺射的質(zhì)量，這是一般濺射程序所不能缺少的步驟。
[0004]還包括一真空電極6 ’，安裝在所述內(nèi)側(cè)，所述真空電極透過(guò)絕緣引線連結(jié)所述加熱器5’，用于控制加熱器5’加熱的時(shí)間及溫度等各種操作。
[0005]現(xiàn)有技術(shù)中所述加熱器5’、所述真空電極6’及相關(guān)的絕緣引線均位在所述濺射腔I’的內(nèi)部，因此所述濺射腔I’整體的體積以容納所述加熱器及相關(guān)的結(jié)構(gòu)較大。另外，有關(guān)于加熱的操作系在濺射腔內(nèi)部進(jìn)行，所以頻繁的操作會(huì)影響所述濺射腔I’的真空度。一方面使得濺鍍質(zhì)量不佳，另一方面，為了維持真空度，還必須反復(fù)的進(jìn)行抽真空作業(yè)，相當(dāng)不便。
[0006]鑒于對(duì)于對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的了解，本實(shí)用新型提出一種嶄新的結(jié)構(gòu)，因此構(gòu)思具有新穎性的本案以解決上述現(xiàn)有技術(shù)中的缺點(diǎn)。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0007]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)，其加熱器、真空電極及相關(guān)的絕緣引線均位在所述濺射腔的外部，可以減少所述濺射腔整體的體積到原有體積的1/5。
[0008]本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:
[0009]一種加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)，包括:
[0010]一濺射腔，為一腔體結(jié)構(gòu)，所述腔體結(jié)構(gòu)內(nèi)部為高真空，所述濺射腔內(nèi)置有一被鍍物，所述濺射腔內(nèi)還設(shè)有一濺鍍槍，由所述濺鍍槍對(duì)被鍍物進(jìn)行濺射；
[0011]所述濺射腔的其中一面為支撐面，所述支撐面上有一開(kāi)口 ；
[0012]一石英玻璃，所述石英玻璃置放于所述開(kāi)口內(nèi)；
[0013]一加熱器，所述加熱器置于所述濺射腔外側(cè)，及所述石英玻璃的后方，對(duì)所述石英玻璃進(jìn)行加熱動(dòng)作。
[0014]上述的加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)，所述加熱器包含鹵素?zé)?，所述鹵素?zé)羲椛涞墓饩€至少照射到所述石英玻璃，且光線能穿過(guò)所述石英玻璃，而輻射到所述被鍍物上。
[0015]上述的加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)，所述加熱器包含:
[0016]一真空電極，安裝在所述濺鍍腔外側(cè)，所述真空電極透過(guò)絕緣引線連接所述加熱器，用于控制加熱器加熱的時(shí)間及溫度。
[0017]上述的加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)，一 O型環(huán)配置在所述石英玻璃的外緣與開(kāi)口的內(nèi)緣之間，使所述濺射腔形成氣密結(jié)構(gòu)；所述被鍍物安裝在所述濺射腔內(nèi)，位于所述石英玻璃的下方。
[0018]上述的加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)，在所述O型環(huán)的周緣加上用于冷卻所述O型環(huán)的水冷機(jī)構(gòu)。
[0019]本實(shí)用新型的有益效果為:
[0020](I)因?yàn)轶w積縮小所以在真空作業(yè)上的操作相當(dāng)方便，而且也減少裝置整體的制作成本；
[0021](2)另外，加熱的操作系在濺射腔外部進(jìn)行，所以不會(huì)影響所述濺射腔的真空度，保證了良好的濺鍍質(zhì)量。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0022]圖1為目前現(xiàn)有技術(shù)中示意圖。
[0023]圖2是本實(shí)用新型所述加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0024]圖3是本實(shí)用新型所述加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)的應(yīng)用示意圖。
[0025]其中:
[0026]1、濺射腔；10、支撐面；11、開(kāi)口 ；2、被鍍物；3、石英玻璃；4、0型環(huán)；5、加熱器；50、
鹵素?zé)簦?、真空電極。
【具體實(shí)施方式】
[0027]如圖2及圖3所示，顯示本實(shí)用新型的加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)，包含下列組件:
[0028]一濺射腔1，為一腔體結(jié)構(gòu)，用于容納本實(shí)用新型的其它組件；濺射程序必須在高度真空下進(jìn)行，因此所述濺射腔I為一高真空的腔體。一般濺射腔內(nèi)有一濺鍍槍(圖中未示)，另外可配置一被鍍物2。由所述濺鍍槍對(duì)內(nèi)部的被鍍物2進(jìn)行濺射，因此可以在被鍍物上鍍上一層鍍膜。
[0029]其中所述濺射腔的一面為支撐面10，而所述支撐面上有一開(kāi)口 11 ；
[0030]一石英玻璃3，所述石英玻璃置放于所述開(kāi)口內(nèi)，另外使用一 O型環(huán)4，所述O型環(huán)4系配置在所述石英玻璃3的外緣與開(kāi)口 11的內(nèi)緣的間，而使得所述濺射腔I形成氣密的結(jié)構(gòu)。所述被鍍物2系安裝在所述濺射腔I內(nèi)，所述石英玻璃3的下方
[0031]一加熱器5，所述加熱器5置于所述濺射腔I外側(cè)，及所述石英玻璃3的后方，對(duì)所述石英玻璃3進(jìn)行加熱動(dòng)作，其中所述加熱器5包含鹵素?zé)?0，所述鹵素?zé)?0所輻射的光線，恰可照射所述石英玻璃，且穿過(guò)所述石英玻璃，而輻射到所述被鍍上。使用時(shí)所述鹵素?zé)?0以輻射照射的方式，照射所述石英玻璃3，所述石英玻璃3過(guò)濾所述鹵素?zé)?0所輻射的光線，然后使部分光線穿透后，照射下方的被鍍物2，而使所述被鍍物2產(chǎn)生加熱效果。此加熱的作業(yè)有助于使得所述被鍍物2上的鍍膜的顆粒更細(xì)致更均勻，且鍍膜表面更平滑。進(jìn)而提升濺射的質(zhì)量。
[0032]一真空電極6，為安裝在所述濺射腔I夕卜側(cè)，所述真空電極6透過(guò)絕緣引線連結(jié)所述加熱器5，用于控制加熱器5加熱的時(shí)間及溫度等各種操作。
[0033]本實(shí)用新型中所述加熱器5、所述真空電極6及相關(guān)的絕緣引線均位于所述濺射腔I的外部，所以可以減少所述濺射腔I整體的體積，一般可減少到1/5。因?yàn)轶w積縮小所以真空作業(yè)上的操作過(guò)程相當(dāng)方便，而且也減少整體的制作成本。另外，有關(guān)于加熱的操作系在濺射腔外部進(jìn)行，所以不會(huì)影響所述濺射腔I的真空度。這是現(xiàn)有技術(shù)的濺射腔無(wú)法達(dá)到的效果。
[0034]本實(shí)用新型的另一實(shí)施例中可在O型環(huán)4的周緣加上水冷機(jī)構(gòu)，用以冷卻所述O型環(huán)。由于O型環(huán)難以承受由所述石英玻璃3所傳導(dǎo)的高熱，所以必須適當(dāng)?shù)睦鋮s，避免了O型環(huán)4變形而破壞所述濺射腔I的真空度。
[0035]綜上所述，本實(shí)用新型人性化的體貼設(shè)計(jì)，符合實(shí)際市場(chǎng)以及工程現(xiàn)場(chǎng)的需求，它具體改進(jìn)現(xiàn)有技術(shù)中的缺點(diǎn)，相比于現(xiàn)有技術(shù)明顯具有突破性的進(jìn)步優(yōu)點(diǎn)，具有體積減小、保證濺鍍質(zhì)量的有益效果，也并非是現(xiàn)有技術(shù)中的常用手段。本實(shí)用新型未曾公開(kāi)或揭露于國(guó)內(nèi)與國(guó)外的文獻(xiàn)于市場(chǎng)上，符合專利法規(guī)定。
[0036]上述實(shí)施例僅僅是為清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型創(chuàng)造所作的舉例，而并非對(duì)本實(shí)用新型創(chuàng)造【具體實(shí)施方式】的限定。為了清楚地說(shuō)明各部件的組合關(guān)系，上面對(duì)各種說(shuō)明性的部件及其連接關(guān)系圍繞其功能進(jìn)行了一般地描述，至于這種部件的組合是實(shí)現(xiàn)哪種功能，取決于特定的應(yīng)用和對(duì)整個(gè)裝置所施加的設(shè)計(jì)約束條件。對(duì)于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在上述說(shuō)明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動(dòng)。這里無(wú)需也無(wú)法對(duì)所有的實(shí)施方式予以窮舉。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所引伸出的任何顯而易見(jiàn)的變化或變動(dòng)仍處于本實(shí)用新型創(chuàng)造權(quán)利要求的保護(hù)范圍之中。
【權(quán)利要求】
1.一種加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括: 一濺射腔，為一腔體結(jié)構(gòu)，所述腔體結(jié)構(gòu)內(nèi)部為高真空，所述濺射腔內(nèi)置有一被鍍物，所述濺射腔內(nèi)還設(shè)有一濺鍍槍，由所述濺鍍槍對(duì)被鍍物進(jìn)行濺射； 所述濺射腔的其中一面為支撐面，所述支撐面上有一開(kāi)口 ； 一石英玻璃，所述石英玻璃置放于所述開(kāi)口內(nèi)； 一加熱器，所述加熱器置于所述濺射腔外側(cè)，及所述石英玻璃的后方，對(duì)所述石英玻璃進(jìn)行加熱動(dòng)作。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述加熱器包含鹵素?zé)?，所述鹵素?zé)羲椛涞墓饩€至少照射到所述石英玻璃，且光線能穿過(guò)所述石英玻璃，而輻射到所述被鍍物上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述加熱器包含: 一真空電極，安裝在所述濺鍍腔外側(cè)，所述真空電極透過(guò)絕緣引線連接所述加熱器，用于控制加熱器加熱的時(shí)間及溫度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)，其特征在于，一O型環(huán)配置在所述石英玻璃的外緣與開(kāi)口的內(nèi)緣之間，使所述濺射腔形成氣密結(jié)構(gòu)；所述被鍍物安裝在所述濺射腔內(nèi)，位于所述石英玻璃的下方。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的加熱器外置的濺射結(jié)構(gòu)，其特征在于，在所述O型環(huán)的周緣加上用于冷卻所述O型環(huán)的水冷機(jī)構(gòu)。
【文檔編號(hào)】C23C14/34GK203754800SQ201320876792
【公開(kāi)日】2014年8月6日 申請(qǐng)日期:2013年12月24日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月24日
【發(fā)明者】吳金龍, 徐永桓 申請(qǐng)人:亮杰科技有限公司