一種增強金屬基擋板吸附薄膜態(tài)物質(zhì)的工藝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種吸附薄膜態(tài)物質(zhì)的工藝，一種增強金屬基擋板吸附薄膜態(tài)物質(zhì)的工藝，首先是采用石英砂對金屬基擋板進(jìn)行噴砂清洗、用于增加金屬基擋板表面粗糙度，然后將呈熔化或半熔化狀態(tài)的高純度的金屬鋁采用電弧噴涂制備到金屬基擋板表面，最后將制備有鋁涂層的金屬基擋板進(jìn)行溫水浴超聲清洗，清洗后使用高壓氮氣吹干，用于提高鋁涂層的表面活性。本發(fā)明制備有鋁涂層的金屬基擋板在真空環(huán)境下對薄膜態(tài)物質(zhì)具有較強的吸附能力，一方面大大地減小了薄膜態(tài)物質(zhì)對真空室內(nèi)壁的污染、保證了產(chǎn)品質(zhì)量，另一方面也延長了金屬基擋板的使用壽命、提高了生產(chǎn)效率。
【專利說明】一種增強金屬基擋板吸附薄膜態(tài)物質(zhì)的工藝
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種吸附薄膜態(tài)物質(zhì)的工藝，更具體地說，涉及一種增強金屬基擋板吸附薄膜態(tài)物質(zhì)的工藝。
【背景技術(shù)】
[0002]真空技術(shù)是建立低于大氣壓力的物理環(huán)境，以及在此環(huán)境中進(jìn)行工藝制作、物理測量和科學(xué)試驗等所需的技術(shù)。在真空環(huán)境下進(jìn)行生產(chǎn)制造可獲得高質(zhì)量產(chǎn)品，產(chǎn)品也多以薄膜形式為主。例如，近年來備受人們關(guān)注的太陽能電池、柔性顯示器、光學(xué)影像器件，光感記錄材料等產(chǎn)品的核心部件都是在真空環(huán)境下進(jìn)行制造。
[0003]隨著制造技術(shù)的日益完善與發(fā)展，真空設(shè)備的不斷改良與升級，真空制造技術(shù)也被更多的領(lǐng)域所應(yīng)用。目前，真空狀態(tài)下薄膜態(tài)物質(zhì)生產(chǎn)主要依附于物理氣相沉積技術(shù)及化學(xué)氣相沉積技術(shù)。這兩種技術(shù)都具有一個相同的特點，材料在沉積過程不具有方向性，粒子態(tài)的沉積材料會充斥整個真空腔，因此，在產(chǎn)品高效率生產(chǎn)的同時也出現(xiàn)了一些問題。真空環(huán)境下的連續(xù)不間斷生產(chǎn)，除產(chǎn)品外，真空室內(nèi)壁及其它部位也出現(xiàn)了厚度不均的薄膜態(tài)物質(zhì)。薄膜態(tài)物質(zhì)在真空室內(nèi)壁或其它部位由于經(jīng)過長時間沉積，最終導(dǎo)致脫落，這不僅影響真空狀態(tài)，而且產(chǎn)品質(zhì)量也受到影響。如果及時對真空室進(jìn)行真空放氣清洗，一定程度上會解決脫落的薄膜態(tài)物質(zhì)對真空狀態(tài)及產(chǎn)品質(zhì)量的影響，但從另一個角度來看，頻繁的清洗也會降低生產(chǎn)效率，從而增加生產(chǎn)成本。
[0004]目前，生產(chǎn)廠家多采用在產(chǎn)品周圍或真空室內(nèi)壁處安置金屬基擋板用以吸附薄膜態(tài)物質(zhì)，減少對真空室內(nèi)壁及其它部件的污染，保持真空室內(nèi)清潔，具有一定的效果。但是，表面光滑金屬基擋板其吸附薄膜態(tài)物質(zhì)能力較差、長時間連續(xù)工作后會出現(xiàn)薄膜態(tài)物質(zhì)脫落的現(xiàn)象，從而影響產(chǎn)品質(zhì)量及真空狀態(tài)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，本發(fā)明目的是提供一種增強金屬基擋板吸附薄膜態(tài)物質(zhì)的工藝。該工藝是將高純度鋁絲采用電弧噴涂制備在金屬基擋板表面，制備有鋁涂層的金屬基擋板在真空環(huán)境下對薄膜態(tài)物質(zhì)具有較強的吸附能力，一方面大大地減小了薄膜態(tài)物質(zhì)對真空室內(nèi)壁的污染、保證了產(chǎn)品質(zhì)量，另一方面也延長了金屬基擋板的使用壽命、提高了生產(chǎn)效率。
[0006]為了實現(xiàn)上述發(fā)明目的，解決現(xiàn)有技術(shù)中所存在的問題，本發(fā)明采取的技術(shù)方案是:一種增強金屬基擋板吸附薄膜態(tài)物質(zhì)的工藝，包括以下步驟:
[0007](a)噴砂清洗，使用顆粒尺寸為35~45目的石英砂對金屬基擋板進(jìn)行噴砂清洗、用于增加金屬基擋板表面粗糙度，所述噴砂清洗工藝參數(shù)為:壓縮空氣壓力控制在0.6~
0.8MPa、噴射距離控制在180~200mm、噴射角度控制在60。~90。；
[0008](b)電弧噴涂，將原材料金屬呈熔化或半熔化狀態(tài)制備到金屬基擋板表面、得到涂層厚度為480~520 μ m、涂層粗糙度為100~120 μ m，的金屬涂層，所述電弧噴涂工藝參數(shù)為:電壓控制在30~35V、電流控制在180~200A、壓縮空氣壓力控制在50~60ps1、噴涂工作距離控制在150~200mm ；
[0009](c)水浴清洗，將步驟(b)制備有金屬涂層的金屬基擋板進(jìn)行27~33°C溫水浴超聲清洗，清洗后使用高壓氮氣吹干，用于提高金屬涂層的表面活性。
[0010]所述金屬基擋板材質(zhì)選自鋁、銅或不銹鋼中的一種。
[0011]所述原材料金屬選自低熔點、無磁性、純度為99.9%~99.99%的金屬鋁。
[0012]本發(fā)明有益效果是:一種增強金屬基擋板吸附薄膜態(tài)物質(zhì)的工藝，首先是采用石英砂對金屬基擋板進(jìn)行噴砂清洗、用于增加金屬基擋板表面粗糙度，然后將呈熔化或半熔化狀態(tài)的高純度的金屬鋁采用電弧噴涂制備到金屬基擋板表面，最后將制備有鋁涂層的金屬基擋板進(jìn)行溫水浴超聲清洗，清洗后使用高壓氮氣吹干，用于提高鋁涂層的表面活性。與已有技術(shù)相比，本發(fā)明制備有鋁涂層的金屬基擋板在真空環(huán)境下對薄膜態(tài)物質(zhì)具有較強的吸附能力，一方面大大地減小了薄膜態(tài)物質(zhì)對真空室內(nèi)壁的污染、保證了產(chǎn)品質(zhì)量，另一方面也延長了金屬基擋板的使用壽命、提高了生產(chǎn)效率。
【具體實施方式】
[0013]下面結(jié)合實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
[0014]實施例1
[0015]Ca)噴砂清洗，使用顆粒尺寸為35目的石英砂對金屬基擋板進(jìn)行噴砂清洗、用于增加金屬基擋板表面粗糙度，所述噴砂清洗工藝參數(shù)為:壓縮空氣壓力控制在0.6MPa、噴射距離控制在180mm、噴射角度控制在60° ;
[0016](b)電弧噴涂，將純度為99.9%~99.99%的金屬鋁呈熔化狀態(tài)制備到金屬基擋板表面、得到鋁涂層厚度為480 μ m、鋁涂層粗糙度為120 μ m，所述電弧噴涂工藝參數(shù)為:電壓控制在31V、電流控制在180A、壓縮空氣壓力控制在50ps1、噴涂工作距離控制在150mm ；
[0017](C)水浴清洗，將制備有鋁涂層的金屬基擋板進(jìn)行27°C溫水浴超聲清洗，清洗后使用高壓氮氣吹干，用于提高金屬涂層的表面活性。
[0018]實施例2
[0019](a)噴砂清洗，使用顆粒尺寸為40目的石英砂對金屬基擋板進(jìn)行噴砂清洗、用于增加金屬基擋板表面粗糙度，所述噴砂清洗工藝參數(shù)為:壓縮空氣壓力控制在0.7MPa、噴射距離控制在190mm、噴射角度控制在75° ；
[0020](b)電弧噴涂，將純度為99.9%~99.99%的金屬鋁呈熔化狀態(tài)制備到金屬基擋板表面、得到鋁涂層厚度為500 μ m、鋁涂層粗糙度為110 μ m，所述電弧噴涂工藝參數(shù)為:電壓控制在33V、電流控制在190A、壓縮空氣壓力控制在55ps1、噴涂工作距離控制在170mm ；
[0021](C)水浴清洗，將制備有鋁涂層的金屬基擋板進(jìn)行30°C溫水浴超聲清洗，清洗后使用高壓氮氣吹干，用于提高金屬涂層的表面活性。
[0022]實施例3
[0023](a)噴砂清洗，使用顆粒尺寸為45目的石英砂對金屬基擋板進(jìn)行噴砂清洗、用于增加金屬基擋板表面粗糙度，所述噴砂清洗工藝參數(shù)為:壓縮空氣壓力控制在0.8MPa、噴射距離控制在200mm、噴射角度控制在90° ;
[0024](b)電弧噴涂，將純度為99.9%~99.99%的金屬鋁呈熔化狀態(tài)制備到金屬基擋板表面、得到鋁涂層厚度為520 μ m、鋁涂層粗糙度為100 μ m，所述電弧噴涂工藝參數(shù)為:電壓控制在35V、電流控制在200A、壓縮空氣壓力控制在60ps1、噴涂工作距離控制在200mm ；
[0025](c)水浴清洗，將制備有鋁涂層的金屬基擋板進(jìn)行33°C溫水浴超聲清洗，清洗后使用高壓氮氣吹干，用于提高金屬涂層的表面活性。
[0026]本發(fā)明優(yōu)點在于:本發(fā)明制備有鋁涂層的金屬基擋板在真空環(huán)境下對薄膜態(tài)物質(zhì)具有較強的吸附能力，一方面大大地減小了薄膜態(tài)物質(zhì)對真空室內(nèi)壁的污染、保證了產(chǎn)品質(zhì)量，另一方 面也延長了金屬基擋板的使用壽命、提高了生產(chǎn)效率。
【權(quán)利要求】
1.一種增強金屬基擋板吸附薄膜態(tài)物質(zhì)的工藝，其特征在于包括以下步驟: Ca)噴砂清洗，使用顆粒尺寸為35~45目的石英砂對金屬基擋板進(jìn)行噴砂清洗、用于增加金屬基擋板表面粗糙度，所述噴砂清洗工藝參數(shù)為:壓縮空氣壓力控制在0.6~0.8MPa、噴射距離控制在180~200mm、噴射角度控制在60。~90。； (b)電弧噴涂，將原材料金屬呈熔化或半熔化狀態(tài)制備到金屬基擋板表面、得到涂層厚度為480~520 μ m、涂層粗糙度為100~120 μ m，的金屬涂層，所述電弧噴涂工藝參數(shù)為:電壓控制在30~35V、電流控制在180~200A、壓縮空氣壓力控制在50~60ps1、噴涂工作距離控制在150~200mm ； (c)水浴清洗，將步驟(b)制備有金屬涂層的金屬基擋板進(jìn)行27~33°C溫水浴超聲清洗，清洗后使用高壓氮氣吹干，用于提高金屬涂層的表面活性。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種增強金屬基擋板吸附薄膜態(tài)物質(zhì)的工藝，其特征在于:所述金屬基擋板材質(zhì)選自鋁、銅或不銹鋼中的一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種增強金屬基擋板吸附薄膜態(tài)物質(zhì)的工藝，其特征在于:所述原材料金屬選自低熔點、無 磁性、純度為99.9%~99.99%的金屬鋁。
【文檔編號】C23C4/12GK103882367SQ201410096131
【公開日】2014年6月25日 申請日期:2014年3月16日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月16日
【發(fā)明者】曲文超, 郭麗娟, 孫廷芳, 徐曉東, 西澤裕, 宇佐美守 申請人:Tdk大連電子有限公司