一種在電子裝置上連續(xù)進(jìn)行真空鍍防水膜的裝置及方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及真空鍍膜制作領(lǐng)域，尤其涉及一種真空鍍防水膜的裝置及方法。一種在電子裝置上連續(xù)進(jìn)行真空鍍防水膜的裝置，包括彼此依次連結(jié)的第一低真空室、等離子輝光清洗室、防水膜沉積室、氟化物沉積室和第二低真空室。依賴上述裝置進(jìn)行真空鍍防水膜的方法，主要是通過一鏈條帶動(dòng)電子裝置在上述各室內(nèi)工作以完成真空鍍防水膜，由于鏈條上設(shè)有多個(gè)用于裝載電子裝置的制具籃，因而可以連續(xù)鍍膜生產(chǎn)，生產(chǎn)效率得以提高，節(jié)省了抽真空時(shí)間、裝料時(shí)間和料加熱時(shí)間，節(jié)省能源，且可使得產(chǎn)品的質(zhì)量相統(tǒng)一，且鍍成的防水膜致密，結(jié)合力強(qiáng)，膜層硬度高，適合工業(yè)化生產(chǎn)。
【專利說明】一種在電子裝置上連續(xù)進(jìn)行真空鍍防水膜的裝置及方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及真空鍍膜制作領(lǐng)域，尤其涉及一種真空鍍防水膜的裝置及方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著電子產(chǎn)品的廣泛使用，人們對(duì)電子產(chǎn)品的防水性能要求也越來越高，目前的電子產(chǎn)品常采用的是采用化學(xué)氣相沉積聚對(duì)二甲苯膜的方式進(jìn)行真空鍍防水膜，其具體步驟為:首先，將粉末狀的聚對(duì)二甲苯置于蒸發(fā)室中，并加熱到150°C以使粉末狀的聚對(duì)二甲苯汽化；然后，將聚對(duì)二甲苯氣體傳送至裂解室，并加熱到650°C以進(jìn)行裂解；之后，將裂解后的聚對(duì)二甲苯單體傳送沉積室，并沉積在需進(jìn)行真空鍍防水膜的電子裝置上。
[0003]傳統(tǒng)真空鍍防水膜裝置，均與專利號(hào)為201110035066.0公布的《一種聚對(duì)二甲基苯沉積系統(tǒng)》類似，其系統(tǒng)包括彼此依次連結(jié)的一蒸發(fā)管、一裂解管、一純化儲(chǔ)氣槽、一沉積腔體、一冷凝機(jī)以及一真空泵。該聚對(duì)二甲基苯沉積系統(tǒng)，是間歇式而非連續(xù)式鍍膜，因而這類設(shè)備具有以下缺點(diǎn):1)抽真空時(shí)間、裝料占用時(shí)間及料加熱時(shí)間較長；2)每周期鍍膜參數(shù)難以保證一致，產(chǎn)品質(zhì)量參差不齊；3)裂解室及蒸發(fā)室曝露大氣后有一定程度的氧化及污染，影響膜層質(zhì)量；4)與基材的結(jié)合力較差。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為克服上述現(xiàn)有技術(shù)中存有的缺陷，本發(fā)明的目的在于提供一種在電子裝置上連續(xù)進(jìn)行真空鍍防水膜的裝置，使用該裝置可對(duì)電子裝置長時(shí)間連續(xù)進(jìn)行真空鍍防水膜，而非間歇性鍍膜，因而能節(jié)省制作時(shí)間，提高工作功率，使得產(chǎn)品的質(zhì)量相統(tǒng)一，適合工業(yè)化生產(chǎn)，且鍍成的防水膜致密，結(jié)合力強(qiáng)，防水效果更強(qiáng)，并且具有超疏水效果。
[0005]為克服上述現(xiàn)有技術(shù)中存有的缺陷，本發(fā)明的目的在于提供一種在電子裝置上連續(xù)進(jìn)行真空鍍防水膜的方法，利用該方法可高效率地實(shí)現(xiàn)真空鍍防水膜，且鍍成的防水膜質(zhì)量良好，防水膜與基材可緊密結(jié)合，防水膜的質(zhì)量統(tǒng)一，并且具有超疏水效果。
[0006]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案為:
一種在電子裝置上連續(xù)進(jìn)行真空鍍防水膜的裝置，包括彼此依次連結(jié)的第一低真空室、等離子輝光清洗室、防水膜沉積室、氟化物沉積室和第二低真空室，上述各室內(nèi)設(shè)有一用于傳動(dòng)電子裝置的鏈條，鏈條上設(shè)有多數(shù)個(gè)用于裝置電子裝置的制具籃，且上述各室內(nèi)均連接有抽真空泵組，所述防水膜沉積室上還連接有低溫冷凝器。
[0007]依上述結(jié)構(gòu)，所述第一低真空室、等離子輝光清洗室、防水膜沉積室、氟化物沉積室、第二低真空室的兩側(cè)均設(shè)有翻板閥。
[0008]依上述結(jié)構(gòu)，所述防水膜沉積室的數(shù)量為I飛個(gè)。
[0009]依上述結(jié)構(gòu)，所述防水膜沉積室為聚對(duì)二甲苯沉積室。
[0010]一種在電子裝置上連續(xù)進(jìn)行真空鍍防水膜的方法，包括以下步驟:
(I)將電子裝置安裝在制具籃上，再將制具籃置于鏈條上，打開第一低真空室外側(cè)的翻板閥，之后通過鏈條傳動(dòng)將制具籃帶入第一低真空室，再關(guān)閉第一低真空室外側(cè)的翻板閥，開啟第一低真空室的抽真空泵抽真空，使得第一低真空室達(dá)到50torr的壓力；
(2)開啟第一低真空室與等離子輝光清洗室之間的翻板閥，通過鏈條將制具籃從第一低真空室傳動(dòng)到等離子輝光清洗室，再關(guān)閉第一低真空室與等離子輝光清洗室之間的翻板閥，之后開啟等離子輝光清洗室的抽真空泵抽真空，使得等離子輝光清洗室達(dá)到Itorr的壓力，然后開始等離子輝光清洗；
(3)開啟等離子輝清洗室與防水膜沉積室之間的翻板閥，再通過鏈條將制具籃從等離子輝光清洗室傳動(dòng)到防水膜沉積室，然后關(guān)閉等離子輝清洗室與防水膜沉積室之間的翻板閥，打開防水膜沉積室的抽真空泵及低溫冷凝室開始抽真空，使防水膜沉積室達(dá)到0.1torr的壓力，之后開始對(duì)制具籃內(nèi)的電子裝置鍍防水膜；
(4)開啟防水膜沉積室與氟化物沉積室之間的翻板閥，通過鏈條將制具籃從防水膜沉積室傳動(dòng)到氟化物沉積室，而后關(guān)閉防水膜沉積室與氟化物沉積室之間的翻板閥，打開氟化物沉積室上的抽真空泵抽真空，使氟化物沉積室達(dá)到Itorr的壓力，然后開始對(duì)制具籃上的電子裝置進(jìn)行化學(xué)氣相沉積氟化物膜；
(5)開啟氟化物沉積室與第二低真空室之間的翻板閥，通過鏈條將制具籃從氟化物沉積室到第二低真空室，再關(guān)閉氟化物沉積室與第二低真空室之間的翻板閥，然后對(duì)第二真空室進(jìn)行放氣，使得第二低真空室達(dá)到常壓，然后開啟第二低真空室連接外側(cè)的翻板閥，通過鏈條傳動(dòng)將制具籃帶出第二低真空室，完成鍍膜。
[0011]與以往技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果在于:
可以在電子裝置上連續(xù)沉積防水膜，生產(chǎn)效率得以提高，因而節(jié)省了抽真空時(shí)間、裝料時(shí)間和料加熱時(shí)間，節(jié)省能源，且可使得產(chǎn)品的質(zhì)量統(tǒng)一，適合工業(yè)化生產(chǎn)，且鍍成的防水膜致密，結(jié)合力強(qiáng)，最外層氟化硅膜具有超疏水性能，使產(chǎn)品具有更強(qiáng)的防水效果。
[0012]下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說明:
【專利附圖】

【附圖說明】:
圖1為本發(fā)明之較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]【具體實(shí)施方式】:
如圖1所示，本發(fā)明有關(guān)一種在電子裝置上連續(xù)進(jìn)行真空鍍防水膜的裝置，該裝置包括有彼此依次連結(jié)的第一低真空室1、等離子輝光清洗室2、防水膜沉積室3、氟化物沉積室4和第二低真空室5，上述各室內(nèi)設(shè)有一用于傳動(dòng)電子裝置的鏈條100，鏈條100上設(shè)有多數(shù)個(gè)用于裝置電子裝置的制具籃(在圖中未畫出)，各室的兩側(cè)均設(shè)有可開啟及關(guān)閉的翻板閥，且第一低真空室1、等離子輝光清洗室2、防水膜沉積室3、氟化物沉積室4和第二低真空室5均連接有一抽真空泵，所述各抽真空泵通過一閥門與各室連接，防水膜沉積室3上還連接有一低溫冷凝器9，當(dāng)各室的翻板閥關(guān)閉時(shí)，抽真空泵可對(duì)各室進(jìn)行抽真空。
[0014]所述防水膜沉積室3的數(shù)量為1飛個(gè)，作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，如圖1所示，本實(shí)施例中防水膜沉積室3包括有依次連接的第一防水膜沉積室31、第二防水膜沉積室32和第三防水膜沉積室33，所述第一防水膜沉積室31、第二防水膜沉積室32和第三防水膜沉積室33均與低溫冷凝器9、抽真空泵73連接。本實(shí)施例中，所述防水膜沉積室3為聚對(duì)二甲苯沉積室。
[0015] 如圖1所示，所述第一低真空室I外側(cè)設(shè)有一翻板閥61，第一低真空室I上連接有抽真空泵71，第一低真空室I與等離子輝光清洗室2之間設(shè)有翻板閥62，等離子輝光清洗室2上連接有抽真空泵72，所述等離子輝光清洗室2與防水膜沉積室3之間設(shè)有翻板閥63，防水膜沉積室3上連接有抽真空泵73及低溫冷凝器9，所述防水膜沉積室3與氟化物沉積室4之間設(shè)有翻板閥64，氟化物沉積室4上連接有抽真空泵74，所述氟化物沉積室4與第二低真空室5之間設(shè)有翻板閥65，第二低真空室5上連接有抽真空泵75，所述第二低真空室5通過一翻板閥66與外界相隔。
[0016]所述第一低真空室I處第二低真空室5內(nèi)處于低真空狀態(tài)；所述等離子輝光清洗室2可對(duì)電子裝置進(jìn)行等離子輝光清洗，進(jìn)而使得電子裝置表面更潔凈，以增強(qiáng)電子裝置與防水膜的結(jié)合力；所述防水膜沉積室3可對(duì)電子裝置進(jìn)行化學(xué)氣相沉積聚對(duì)二甲苯膜，由于防水膜沉積室3可為多個(gè)，鏈條100上也設(shè)有多個(gè)存放電子裝置的制具籃，因而可進(jìn)行連續(xù)鍍膜生產(chǎn)；所述氟化物沉積室4可對(duì)電子裝置進(jìn)行化學(xué)沉積氟化物膜，以增加防水膜的穩(wěn)定性，提聞防水I旲的質(zhì)量。
[0017]本發(fā)明還有關(guān)一種在電子裝置上連續(xù)進(jìn)行真空鍍防水膜的方法，包括以下步驟:
(1)將電子裝置安裝在制具籃上，再將制具籃置于鏈條100上，打開翻板閥61，之后通過鏈條100傳動(dòng)將制具籃帶入第一低真空室I內(nèi)，再關(guān)閉翻板閥61，開啟第一低真空室I的抽真空泵71抽真空，使得第一低真空室I達(dá)到50torr的壓力；
(2)開啟翻板閥62，通過鏈條100將制具籃從第一低真空室I傳動(dòng)到等離子輝光清洗室2，再關(guān)閉翻板閥62，之后開啟等離子輝光清洗室2的抽真空泵72進(jìn)行抽真空，當(dāng)?shù)入x子輝光清洗室2達(dá)到Itorr的壓力時(shí)，然后開始對(duì)電子裝置進(jìn)行等離子輝光清洗；
(3)開啟翻板閥63，再通過鏈條100將制具籃從等離子輝光清洗室2傳動(dòng)到防水膜沉積室3，然后翻板閥63，打開防水膜沉積室3的抽真空泵73及低溫冷凝室9開始抽真空，使防水膜沉積室3達(dá)到0.1torr的壓力，之后開始對(duì)制具籃內(nèi)的電子裝置鍍防水膜，由于本實(shí)施例中防水膜沉積室3包括有第一防水膜沉積室31、第二防水膜沉積室32和第三防水膜沉積室33，因而可同時(shí)對(duì)三個(gè)電子裝置進(jìn)行鍍膜，提高工作效率，節(jié)省資源；
(4)開啟翻板閥64，通過鏈條100將制具籃從防水膜沉積室3傳動(dòng)到氟化物沉積室4內(nèi)，而后關(guān)閉翻板閥64，打開氟化物沉積室4上的抽真空泵74抽真空，使氟化物沉積室4達(dá)到Itorr的壓力，然后開始對(duì)制具籃上的電子裝置進(jìn)行化學(xué)氣相沉積氟化物膜；
(5)開啟翻板閥65，通過鏈條100將制具籃從氟化物沉積室4到第二低真空室5，再關(guān)閉翻板閥65，然后對(duì)第二真空室5進(jìn)行放氣，使得第二低真空室5達(dá)到常壓，然后開啟翻板閥66，通過鏈條傳動(dòng)將制具籃帶出第二低真空室5，完成鍍膜。
[0018]上述制作防水膜的過程中，由于防水膜沉積室3 —直保持在0.ritorr的真空狀態(tài)，因而與防水膜沉積室3相連接的裂解室及蒸發(fā)室也處于0.ritorr的真空狀態(tài)，因而不會(huì)曝露大氣被氧化污染，因而防水膜的質(zhì)量更好。
[0019]本發(fā)明可以在電子裝置上連續(xù)沉積防水膜，生產(chǎn)效率得以提高，節(jié)省了抽真空時(shí)間、裝料時(shí)間和料加熱時(shí)間，節(jié)省能源，且可使得產(chǎn)品的質(zhì)量統(tǒng)一，適合工業(yè)化生產(chǎn)，且鍍成的防水膜致密，結(jié)合力強(qiáng)，最外層氟化硅膜具有超疏水性能，使產(chǎn)品具有更強(qiáng)的防水效果。
【權(quán)利要求】
1.一種在電子裝置上連續(xù)進(jìn)行真空鍍防水膜的裝置，其特征在于:包括彼此依次連結(jié)的第一低真空室、等離子輝光清洗室、防水膜沉積室、氟化物沉積室和第二低真空室，上述各室內(nèi)設(shè)有一用于傳動(dòng)電子裝置的鏈條，鏈條上設(shè)有多數(shù)個(gè)用于裝置電子裝置的制具籃，且上述各室內(nèi)均連接有抽真空泵組，所述防水膜沉積室上還連接有低溫冷凝器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種在電子裝置上連續(xù)進(jìn)行真空鍍防水膜的裝置，其特征在于:所述第一低真空室、等離子輝光清洗室、防水膜沉積室、氟化物沉積室、第二低真空室的兩側(cè)均設(shè)有翻板閥。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種在電子裝置上連續(xù)進(jìn)行真空鍍防水膜的裝置，其特征在于:所述防水膜沉積室的數(shù)量為I飛個(gè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的一種在電子裝置上連續(xù)進(jìn)行真空鍍防水膜的裝置，其特征在于:所述防水膜沉積室為聚對(duì)二甲苯沉積室。
5.通過權(quán)利要求f4所述裝置在電子裝置上連續(xù)進(jìn)行真空鍍防水膜的方法，其特征在于:包括以下步驟: (1)將電子裝置安裝在制具籃上，再將制具籃置于鏈條上，打開第一低真空室外側(cè)的翻板閥，之后通過鏈條傳動(dòng)將制具籃帶入第一低真空室，再關(guān)閉第一低真空室外側(cè)的翻板閥，開啟第一低真空室的抽真空泵抽真空，使得第一低真空室達(dá)到50torr的壓力； (2)開啟第一低真空室與等離子輝光清洗室之間的翻板閥，通過鏈條將制具籃從第一低真空室傳動(dòng)到等離子輝光清洗室，再關(guān)閉第一低真空室與等離子輝光清洗室之間的翻板閥，之后開啟等離子輝光清洗室的抽真空泵抽真空，使得等離子輝光清洗室達(dá)到Itorr的壓力，然后開始等離子輝光清洗； (3)開啟等離子輝清洗室與防水膜沉積室之間的翻板閥，再通過鏈條將制具籃從等離子輝光清洗室傳動(dòng)到防水膜沉積室，然后關(guān)閉等離子輝清洗室與防水膜沉積室之間的翻板閥，打開防水膜沉積室的抽真空泵及低溫冷凝室開始抽真空，使防水膜沉積室達(dá)到0.1torr的壓力，之后開始對(duì)制具籃內(nèi)的電子裝置鍍防水膜； (4)開啟防水膜沉積室與氟化物沉積室之間的翻板閥，通過鏈條將制具籃從防水膜沉積室傳動(dòng)到氟化物沉積室，而后關(guān)閉防水膜沉積室與氟化物沉積室之間的翻板閥，打開氟化物沉積室上的抽真空泵抽真空，使氟化物沉積室達(dá)到Itorr的壓力，然后開始對(duì)制具籃上的電子裝置進(jìn)行化學(xué)氣相沉積氟化物膜； (5)開啟氟化物沉積室與第二低真空室之間的翻板閥，通過鏈條將制具籃從氟化物沉積室到第二低真空室，再關(guān)閉氟化物沉積室與第二低真空室之間的翻板閥，然后對(duì)第二真空室進(jìn)行放氣，使得第二低真空室達(dá)到常壓，然后開啟第二低真空室連接外側(cè)的翻板閥，通過鏈條傳動(dòng)將制具籃帶出第二低真空室，完成鍍膜。
【文檔編號(hào)】C23C16/54GK103898480SQ201410113096
【公開日】2014年7月2日 申請(qǐng)日期:2014年3月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月25日
【發(fā)明者】侯光輝 申請(qǐng)人:侯光輝