一種具有封閉表層的熱障涂層材料及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明屬于熱障涂層表面處理及改性【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種具有封閉表層的熱障涂層材料及其制備方法。該涂層材料包括金屬粘結(jié)層、粗糙多孔的陶瓷面層及表層封閉的柱狀晶重熔層。本發(fā)明還公開了一種具有封閉表層的熱障涂層材料的制備方法：利用等離子噴涂方法在高溫合金基體表面沉積金屬粘結(jié)層，然后在粘結(jié)層表面沉積陶瓷層，最后利用強流脈沖電子束技術(shù)對陶瓷層進行輻照處理，形成封閉的柱狀晶重熔層。采用該種復(fù)合技術(shù)制備而成的具有封閉表層的熱障涂層材料能夠有效地阻擋外界有害氣體的侵入，提高涂層的應(yīng)變?nèi)菹夼c熱震性能，具有良好的高溫服役性能，是一種理想的熱障涂層材料。
【專利說明】一種具有封閉表層的熱障涂層材料及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于熱障涂層表面處理及改性【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種具有封閉表層的熱障涂層材料及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在當(dāng)今航空航天【技術(shù)領(lǐng)域】，隨著航空燃?xì)鉁u輪機向高流量比、高推重比、高渦輪進口溫度方向的發(fā)展，燃燒室的燃?xì)鉁囟群腿細(xì)鈮毫Σ粩嗵岣撸鄬τ陂_發(fā)新型高溫耐熱合金材料來講，在高溫?zé)岫瞬考┘訜嵴贤繉邮亲钣行У姆椒ā?br> [0003]在實際應(yīng)用中，典型航空用熱障涂層(TBCs)大都采用雙層結(jié)構(gòu):起隔熱作用的陶瓷面層(TC)和改善基體與陶瓷層物理相容性的金屬粘結(jié)層(Be)。許多研究表明，6^8%Y203-Zr02是目前綜合性能最好的熱障涂層陶瓷材料，該種材料熔點高，耐高溫氧化，具有低而穩(wěn)定的熱導(dǎo)率和優(yōu)良的抗熱沖擊性能。目前，這類涂層的制備方法主要是電子束物理氣相沉積(EB-PVD)和大氣等離子噴涂(APS)。其中，電子束物理氣相沉積制備的涂層表面光潔，涂層內(nèi)形成垂直表面的柱狀晶結(jié)構(gòu)，柱狀晶之間界面結(jié)合弱，存在大量的垂直裂紋，極大地緩解了熱失配應(yīng)力，降低了熱應(yīng)力強度，因而有效提高了涂層的循環(huán)壽命。但其設(shè)備投資大，涂層的隔熱性能相對較差且生產(chǎn)效率較低，因而極大地限制的其在實際生產(chǎn)中的應(yīng)用。等離子噴涂由于具有較高的噴涂沉積效率及結(jié)合強度、低的材料要求、良好的經(jīng)濟效益、簡易的工藝過程，且制備的涂層具有層狀結(jié)構(gòu)，熱障效果較好，因而，被廣泛應(yīng)用于制備熱障涂層。
[0004]然而，由等 離子噴涂制備的熱障涂層具有以下缺點:涂層內(nèi)部含有較多的連通孔隙，組織較為疏松且內(nèi)部存在大量的微裂紋結(jié)構(gòu)。因此，在高溫服役過程中這些缺陷結(jié)構(gòu)難以阻擋外界氧氣、熔融鹽和腐蝕氣體向陶瓷層和粘結(jié)層界面快速擴散，形成所謂的熱生長氧化物(TGO)，從而加速TGO的非受控生長，形成較大的生長應(yīng)力，進而在涂層界面和TGO層內(nèi)部萌生裂紋，最終導(dǎo)致涂層過早失效。因而，降低大氣等離子噴涂熱障涂層中的熱匹配應(yīng)力和熱生長應(yīng)力是提聞大氣等尚子噴涂熱障涂層壽命的關(guān)鍵因素之一。
[0005]為解決這一問題，采用激光束與熱噴涂復(fù)合技術(shù)改善熱障涂層性能和壽命已經(jīng)成為研究熱點。中國專利201210520934.9公開了一種大氣等離子噴涂熱障涂層表面的新型激光處理方法。這種激光處理方法可以誘導(dǎo)陶瓷層內(nèi)部產(chǎn)生垂直于基體的一定數(shù)量的表面裂紋，從而大幅度提高涂層的使用壽命。此外，中國專利201310193147.2公開了一種熱障涂層激光表面改性方法，采用這種方法能夠獲得一種具有樁釘結(jié)構(gòu)特征的熱障涂層材料，從而提高了涂層的結(jié)合強度和使用壽命。兩種公開的激光表面改性方法雖然都能有效地延長熱障涂層的使用壽命，但是，由于激光束束斑直徑小，能量集中在小范圍區(qū)域，容易導(dǎo)致涂層在處理過程中脫落；此外，激光束在加熱時，其入射電子束的能量大約僅有59TlO%可被金屬表面吸收而直接轉(zhuǎn)換為熱能，其余部分基本上被完全反射掉，因而能量利用率很低。因此，熱障涂層材料迫切需要在結(jié)構(gòu)設(shè)計思想和制備方法上取得創(chuàng)新與突破。
[0006]強流脈沖電子束(HCPEB)是近年來發(fā)展起來的一種高能束表面改性技術(shù)，利用這種改性技術(shù)可以使得材料表層瞬間重熔甚至蒸發(fā)，從而改性材料表層結(jié)構(gòu)和性能；中國專利201410046125.8公開了一種高壽命耐氧化熱障涂層材料及其制備方法，即利用HCPEB技術(shù)轟擊等離子噴涂制備的熱障涂層粘結(jié)層材料，在粘結(jié)層與陶瓷面層之間引入一層晶體重熔層，該層的引入能夠有效地消除金屬粘結(jié)層表面疏松多孔等微觀缺陷，產(chǎn)生表層富Al的超細(xì)晶結(jié)構(gòu)，因此在氧化初期能夠快速形成一層較為致密的TGO層，從而有效地抑制TGO的非受控生長，提高涂層的高溫抗氧化性能；但是該種方法在樣品制備上存在一定困難，一是等離子噴涂粘結(jié)層后為避免涂層表面氧化，需要在最短的時間內(nèi)進行陶瓷面層噴涂，然而再加上一道電子束工藝必然會延長兩層之間的噴涂時間；二是電子束轟擊粘結(jié)層后，表面粗糙度增加，但局部光滑，因此陶瓷面層沉積的成功率不高。此外，由于陶瓷面層表面疏松多孔等缺陷而滲入外界有害氣體仍然不可避免，進而會損害界面處TGO的生長，最終導(dǎo)致TC層的脫落。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]為了解決【背景技術(shù)】中存在的技術(shù)問題，本發(fā)明提出了一種具有封閉表層的熱障涂層材料及其制備方法。利用“大氣等離子噴涂(APS) +強流脈沖電子束(HCPEB)”復(fù)合技術(shù)制備具有封閉表層的熱障涂層材料，通過結(jié)構(gòu)設(shè)計和制備方法設(shè)計，解決了離子噴涂方法制備陶瓷涂層時表面疏松多孔等結(jié)構(gòu)缺陷，形成垂直裂紋和柱狀晶重熔層，提高了涂層的應(yīng)變?nèi)菹夼c熱震性能，從而有效地延長了熱障涂層的使用壽命。
[0008]本發(fā)明提出的一種具有封閉表層的熱障涂層材料，包括金屬基體，在所述金屬基體表面形成金屬粘結(jié)層，在所述的金屬粘結(jié)層表面形成陶瓷面層，在所述的陶瓷面層表面形成封閉的柱狀晶重熔層；原始涂層表面疏松多孔，電子束轟擊后表層有明顯的封孔效果，因此稱之為表層封閉(即密封)的組織結(jié)構(gòu)。
[0009]所述的粘結(jié)層及陶瓷層均采用等離子噴涂方法獲得，所述的柱狀晶重熔層采用強流脈沖電子束重熔技術(shù)制備而成。
[0010]所述的金屬基體優(yōu)選采用鎳基高溫合金，先采用噴砂粗化處理后再沉積金屬粘結(jié)層。
[0011]所述的等離子噴涂方法制備的金屬粘結(jié)層優(yōu)選采用MCrAlY，M為Co、Ni或Co和Ni的混合物，厚度在150~200 μ m之間。
[0012]所述的等離子噴涂方法制備的陶瓷面層優(yōu)選采用質(zhì)量百分含量為6%~8% Y2O3穩(wěn)定的ZrO2,厚度在200-300 μ m之間。
[0013]所述的強流脈沖電子束重熔技術(shù)制備的柱狀晶重熔層表面光滑致密，重熔層厚度在2~30 μ m之間。
[0014]本發(fā)明中，上述公開的具有封閉表層的熱障涂層材料與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點:利用電子束對等離子噴涂方法制備的氧化鋯陶瓷層進行轟擊處理，涂層表面形成均勻致密的重熔層，厚度可達幾到幾十微米不等；重熔層表面完整致密且粗糙度降低，有明顯的封孔效果，能夠有效地阻擋外界有害氣體的侵入；在重熔層內(nèi)部出現(xiàn)大量的網(wǎng)狀垂直裂紋；重熔層表層分布著大量的超細(xì)晶結(jié)構(gòu)且在重熔層截面觀察到致密的柱狀晶結(jié)構(gòu)，網(wǎng)狀垂直裂紋見圖2和4，超細(xì)晶粒 結(jié)構(gòu)見圖3，柱狀晶見圖4 ;表層超細(xì)晶結(jié)構(gòu)能夠增加涂層的硬度和韌性；大量的文獻報道表明，網(wǎng)狀裂紋和柱狀晶的形成能夠有效地提高涂層的應(yīng)變?nèi)菹夼c熱震性能；此外，電子束轟擊后，能夠有效地降低H1-ZrO2的體積分?jǐn)?shù)，從而減小在高溫下由于相轉(zhuǎn)變而引起的體積增加，有效避免了高壓應(yīng)力，從而延長工件的使用壽命。
[0015]本發(fā)明還提出了一種具有封閉表層的熱障涂層材料的制備方法，技術(shù)方案如下:
(1)對高溫合金基體進行預(yù)磨、清洗、噴砂粗化處理；
(2)利用等離子噴涂的方法在高溫合金基體表面沉積金屬粘結(jié)層，完成金屬粘結(jié)層的制備；
(3)利用等離子噴涂的方法在制備好的金屬粘結(jié)層表層沉積陶瓷面層，完成熱障涂層的制備；
(4)利用強流脈沖電子束(HCPEB)技術(shù)轟擊處理熱障涂層陶瓷層，進行表層封閉處理，完成具有封閉表層的熱障涂層制備。
[0016]所述步驟(1)中采用的噴砂材料為50-200目白剛玉，噴砂壓強為0.2^0.5MPa，噴砂距離為100~150mm。
[0017]所述步驟(2)和(3)中采用的等離子噴涂技術(shù)為，大氣等離子噴涂技術(shù)，選擇電壓為30~50V，電流為700~900Α，噴槍速率為20(T500mm/s，噴涂距離為7(T100mm。
[0018]所述步驟(4)中采用的HCPEB重熔技術(shù)，選擇真空度P≤8X10_3 Pa，束斑直徑為50cm，脈沖電子束能量為 2(T40KeV，能量密度為r20J/cm2，轟擊次數(shù)為廣50次，靶源距離15~20cmo
[0019]本發(fā)明中，上述公開的具有封閉表層的熱障涂層材料的制備方法與現(xiàn)有技術(shù)相t匕，具有以下優(yōu)點:采用“APS+HCPEB”復(fù)合技術(shù)，可以有效地消除由APS制備產(chǎn)生的表層疏松、多孔等結(jié)構(gòu)缺陷，獲得表層致密的柱狀晶重熔層；此外，HCPEB輻照是純能量運輸過程，與激光束、脈沖離子束的作用相比具有以下優(yōu)點:(1)克服了脈沖離子束輻照帶來的離子雜質(zhì)對材料的影響，并且電子束在真空中進行，可以有效地避免材料表面氧化和污染問題，真空工作條件無特殊要求；(2)由于電子的質(zhì)量很小，因此比離子束的改性層深度大很多；
(3)脈沖電子束以加速電子為能量載體，與材料表面相互作用時能量轉(zhuǎn)化效率可達到80%以上，因此比激光束的能量利用率要高出很多；利用HCPEB的上述優(yōu)點對大氣等離子噴涂的熱障涂層陶瓷層表面進行重熔處理，調(diào)整電子束參數(shù)使得涂層表面重熔后獲得不同深度的柱狀晶重熔層，這種表層封閉的熱障涂層具有良好的高溫服役性能。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0020]圖1為本發(fā)明中采用該種復(fù)合技術(shù)制備的具有封閉表層的熱障涂層結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021]圖2為圖1中涂層表面SEM分析圖。
[0022]圖3為圖1中涂層表面超細(xì)晶結(jié)構(gòu)的SEM分析圖。
[0023]圖4為圖1中涂層截面柱狀晶重熔層的SEM分析圖。
【具體實施方式】
[0024]下面結(jié)合具體實施實例對本發(fā)明做進一步說明。
[0025]實施例1:
S1、對高溫合金基體進行預(yù)磨、清洗、噴砂粗化處理；根據(jù)噴砂設(shè)備的技術(shù)要求選擇噴砂材料為60目白剛玉,壓強為0.4MPa,噴砂距離為120mm。[0026]S2、利用大氣等離子噴涂的方法在粗化處理后的高溫合金基體表面沉積金屬粘結(jié)層Co23Crl3A10.5Y，完成金屬粘結(jié)層的制備，粘結(jié)層厚度為160 μ m ;根據(jù)大氣等離子噴涂設(shè)備要求，選擇電壓為38V，電流為750A，噴槍速率為450mm/s，噴涂距離為85mm。
[0027]S3、利用大氣等離子噴涂的方法在金屬粘結(jié)層表層沉積8% Y2O3穩(wěn)定的ZrO2陶瓷面層，完成熱障涂層的制備，陶瓷面層厚度在240 μ m ;根據(jù)大氣等離子噴涂設(shè)備要求，選擇電壓為39V，電流為860A，噴槍速率為250mm/s，噴涂距離為72mm。
[0028]S4、利用HCPEB設(shè)備對熱障涂層進行轟擊處理，完成表層封閉處理；根據(jù)HCPEB設(shè)備的技術(shù)要求選擇電子束能量為27KeV，能量密度為4J/cm2，靶源距離為15cm，對試樣進行I次輻照處理。
[0029]對熱障涂層表面 及截面進行SEM觀察；結(jié)果顯示，I次輻照處理后涂層表面發(fā)生重熔，且均勻分布著大量的超細(xì)晶結(jié)構(gòu)，尺寸在20(T400nm之間；此外，在材料表層形成大量的熔坑及網(wǎng)狀垂直裂紋；重熔層厚度在2~3μπι左右。
[0030]利用三維激光掃描顯微鏡分析熱該種熱障涂層的表面粗糙度；結(jié)果表明，I次輻照處理后，涂層表面粗糙度為10.447ym；
利用X射線衍射分析技術(shù)分析該種熱障涂層的結(jié)構(gòu)變化；結(jié)果表明，I次輻照處理后，涂層由大量的非平衡t'相及少量的m相構(gòu)成，m相所含體積分?jǐn)?shù)為4.8%，較轟擊前等離子噴涂的陶瓷層中m相體積分?jǐn)?shù)(10%)明顯降低。
[0031]實施例2:
同實施例1，僅改變S4中電子束參數(shù)，根據(jù)HCPEB設(shè)備的技術(shù)要求選擇電子束能量為27KeV，能量密度為4J/cm2，靶源距離為15cm，對試樣進行5次輻照處理。
[0032]對熱障涂層表面及截面進行SEM觀察；結(jié)果顯示，5次輻照處理后表層發(fā)生蒸發(fā)，晶粒長大，形成了較大的晶粒組織，尺寸在0.6~1.3μπι之間；在超細(xì)晶表層可以觀察到大量的氣體沉積顆粒；此外，5次轟擊后僅觀察到個別熔坑的存在；網(wǎng)狀垂直裂紋數(shù)量和寬度較I次有所增加；重熔層厚度在2.5^4 μ m之間。
[0033]利用三維激光掃描顯微鏡分析熱該種熱障涂層的表面粗糙度；結(jié)果表明，5次輻照處理后，涂層表面粗糙度為6.115 μ m。
[0034]利用X射線衍射分析技術(shù)分析該種熱障涂層的結(jié)構(gòu)變化；結(jié)果表明，5次輻照處理后，非平衡t'相的含量較I次有所增加且m相減少，m相所含體積分?jǐn)?shù)為3.2%。
[0035]實施例3:
同實施例1，僅改變S4中電子束參數(shù)，根據(jù)HCPEB設(shè)備的技術(shù)要求選擇電子束能量為27KeV，能量密度為4J/cm2，靶源距離為15cm，對試樣進行10次輻照處理。
[0036]對熱障涂層表面及截面進行SEM觀察；結(jié)果顯示，10次輻照處理后表層蒸發(fā)現(xiàn)象明顯，晶粒尺寸較5次轟擊有所減小，在0.5~1.5 μ m之間，在超細(xì)晶表層可以觀察到大量的氣體沉積顆粒；此外，10次轟擊后熔坑徹底消失；網(wǎng)狀垂直裂紋數(shù)量和寬度較5次有所增加；重熔層主要由柱狀晶組成，柱狀晶粒之間結(jié)合緊密；重熔層厚度在7~8μπι左右。
[0037]利用三維激光掃描顯微鏡分析熱該種熱障涂層的表面粗糙度；結(jié)果表明，10次輻照處理后，涂層表面粗糙度為5.770 μ m。
[0038]利用X射線衍射分析技術(shù)分析該種熱障涂層的結(jié)構(gòu)變化；結(jié)果表明，10次輻照處理后，非平衡t'相的含量較5次有所增加且m相減少，m相所含體積分?jǐn)?shù)為1.5%。[0039]實施例4:
同實施例1，僅改變S4中電子束參數(shù)，根據(jù)HCPEB設(shè)備的技術(shù)要求選擇電子束能量為27KeV，能量密度為4J/cm2，靶源距離為15cm，對試樣進行20次輻照處理。
[0040]對熱障涂層表面及截面進行SEM觀察；結(jié)果顯示，20次輻照處理后表層蒸發(fā)現(xiàn)象加強，晶粒尺寸較10次轟擊有所減小，在0.3^1 μ m之間，在超細(xì)晶表層可以觀察到大量的氣體沉積顆粒；此外，20次轟擊后熔坑徹底消失；網(wǎng)狀垂直裂紋數(shù)量和寬度較10次有所增加；重熔層主要由致密的柱狀晶組成，厚度在12 μ m左右；但是在20次處理后，在個別陶瓷層中，重熔層搭接處下方觀察到橫向擴展裂紋出現(xiàn)，橫向裂紋會導(dǎo)致涂層的剝落，嚴(yán)重影響熱震涂層的使用壽命；因此，電子束重熔處理時應(yīng)當(dāng)嚴(yán)格控制工藝參數(shù)，防止涂層內(nèi)出現(xiàn)橫向裂紋。
[0041]利用三維激光掃描顯微鏡分析熱該種熱障涂層的表面粗糙度；結(jié)果表明，20次輻照處理后，涂層表面粗糙度為3.213 μ m。
[0042]利用X射線衍射分析技術(shù)分析該種熱障涂層的結(jié)構(gòu)變化。結(jié)果表明，20次輻照處理后，涂層主要由非平衡t'相組成，m相所含體積分?jǐn)?shù)僅為0.8%。
[0043]在實施例1-4中獲得的熱障涂層材料具有三層結(jié)構(gòu)，分別為金屬粘結(jié)層、陶瓷面層、封閉的柱狀晶重熔層，其SEM分析圖如圖1-4所示；圖1是采用該種復(fù)合技術(shù)制備的具有封閉表層的熱障涂層結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是具有封閉表層的熱障涂層材料的表面SEM分析圖；圖3為圖2中涂層表面超細(xì)晶結(jié)構(gòu)的SEM分析圖；圖4是圖2中涂層截面重熔層的SEM分析圖；結(jié)果顯示，這種復(fù)合技術(shù)制備而成的具有封閉表層的熱障涂層材料，能夠有效地阻擋外界有害氣體的侵入，提高涂層的應(yīng)變?nèi)菹夼c熱震性能，減少H1-ZrO2的體積分?jǐn)?shù)，避免由相轉(zhuǎn)變產(chǎn)生的體積增加而帶來的高壓應(yīng)力，具有良好的高溫服役性能，是一種理想的熱障涂層材料。
【權(quán)利要求】
1.一種具有封閉表層的熱障涂層材料，包括金屬基體以及在所述金屬基體表面形成的金屬粘結(jié)層，其特征在于:在所述的金屬粘結(jié)層表面形成有陶瓷面層，在所述的陶瓷面層表面形成有封閉的柱狀晶重熔層。
2.如權(quán)利要求1所述的一種具有封閉表層的熱障涂層材料，其特征在于:所述的粘結(jié)層及陶瓷層均采用等離子噴涂方法獲得，所述的柱狀晶重熔層采用強流脈沖電子束重熔技術(shù)制備而成。
3.如權(quán)利要求1所述的一種具有封閉表層的熱障涂層材料，其特征在于:所述的金屬基體采用鎳基高溫合金。
4.如權(quán)利要求1所述的一種具有封閉表層的熱障涂層材料，其特征在于:所述的等離子噴涂方法制備的金屬粘結(jié)層采用MCrAlY，M為Co、Ni或Co和Ni的混合物，厚度在150~200μπι 之間。
5.如權(quán)利要求1所述的一種具有封閉表層的熱障涂層材料，其特征在于:所述的等離子噴涂方法制備的陶瓷面層采用質(zhì)量百分含量為6%~8% Y2O3穩(wěn)定的ZrO2，厚度在200-300μπι 之間。
6.如權(quán)利要求1所述的一種具有封閉表層的熱障涂層材料，其特征在于:所述的強流脈沖電子束重熔技術(shù)制備的柱狀晶重熔層表面光滑致密且均勻分布著超細(xì)晶結(jié)構(gòu)，表面粗糙度控制在2~11 μ m之間，具有明顯的封孔效果；在重熔層內(nèi)部出現(xiàn)大量的網(wǎng)狀垂直裂紋；重熔層厚度在2~30μπι之間。
7.如權(quán)利要求 1所述的一種具有封閉表層的熱障涂層材料的制備方法，其特征在于按照如下步驟進行: (1)對高溫合金基體進行預(yù)磨、清洗、噴砂粗化處理； (2)利用等離子噴涂的方法在高溫合金基體表面沉積金屬粘結(jié)層，完成金屬粘結(jié)層的制備； (3)利用等離子噴涂的方法在制備好的金屬粘結(jié)層表層沉積陶瓷面層，完成熱障涂層的制備； (4)利用強流脈沖電子束(HCPEB)技術(shù)轟擊處理熱障涂層陶瓷層，進行表層封閉處理，完成具有封閉表層的熱障涂層制備。
8.如權(quán)利要求7所述的一種具有封閉表層的熱障涂層材料的制備方法，其特征在于:所述步驟(1)中采用的噴砂材料為50-200目白剛玉，噴砂壓強為0.2^0.5MPa，噴砂距離為100~150mm。
9.如權(quán)利要求7所述的一種具有封閉表層的熱障涂層材料的制備方法，其特征在于:所述步驟(2)和(3)中采用的等離子噴涂技術(shù)為，大氣等離子噴涂技術(shù)，選擇電壓為30~50V，電流為700~900Α，噴槍速率為20(T500mm/s，噴涂距離為70~100臟。
10.如權(quán)利要求7所述的一種具有封閉表層的熱障涂層材料的制備方法，其特征在于:所述步驟(4)中采用的HCPEB重熔技術(shù)，選擇真空度P < 8 X 10_3 Pa，束斑直徑為50cm，脈沖電子束能量為2(T40KeV，能量密度為4~20J/cm2，轟擊次數(shù)為I~50次，靶源距離15~20cm。
【文檔編號】C23C4/18GK103993254SQ201410189502
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2014年5月7日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月7日
【發(fā)明者】關(guān)慶豐, 蔡杰, 呂鵬, 侯秀麗, 楊盛志, 楊珅 申請人:江蘇大學(xué)