蒸鍍裝置、蒸鍍設備及蒸鍍方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一蒸鍍裝置、蒸鍍設備及蒸鍍方法，蒸鍍裝置包括：至少一蒸鍍源；以及，一動力裝置，接設于所述蒸鍍源，所述動力裝置驅動所述蒸鍍源往復搖擺。本發(fā)明將現(xiàn)有線性蒸鍍源直線掃描生產方式，改為搖擺方式來達成成膜目的。利用蒸鍍源的搖擺，減少其中一個或多個噴口出氣率不良時的影響，提高蒸鍍氣體均勻性，從而提高成膜均勻性。
【專利說明】蒸鍍裝置、蒸鍍設備及蒸鍍方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及蒸鍍技術，特別涉及一種能利用搖擺式蒸鍍裝置提高成膜均勻性的蒸鍍裝置、蒸鍍設備及蒸鍍方法。
【背景技術】
[0002]如圖1所示,為現(xiàn)有技術蒸鍍機構簡化結構示意圖。該蒸鍍機構在一個蒸鍍腔體60內，通過一移載機構61載置一組線性蒸鍍源62。
[0003]現(xiàn)有技術蒸鍍機構實施蒸鍍時，在基板進行鍍膜前，移載機構61先位于基板保護臺65 —側，利用一組鍍率感測器63確認線性蒸鍍源62鍍率穩(wěn)定后；再依照鍍率，根據所述需成膜厚度，計算出蒸鍍源62掃描通過次數與直線運行速度；然后，按照預算的次數和速度，以移載機構61移動線性蒸鍍源62進行掃描鍍膜。
[0004]現(xiàn)有技術蒸鍍機構存在的技術問題在于，線性蒸鍍源62在掃描蒸鍍時，因無法再實時感測鍍率的變化，所以不能在線調整修正線性掃描蒸鍍速度，會造成同一基板上成膜厚度的大幅變化，成膜均勻性的不穩(wěn)定。
[0005]現(xiàn)有技術蒸鍍機構需要解決的技術問題在于，使用這種掃描蒸鍍方式時，由于移載機構61需要先在基板保護臺5 —側進行鍍率測試，并等待鍍率穩(wěn)定。這樣，會大量浪費蒸鍍源中昂貴的有機原料，使成本居高不下。同時，這種結構也使蒸鍍設備的體積龐大，也會增加其維持真空狀態(tài)的成本，不利于降低制造成本，影響廠區(qū)空間擺放效率。其運作發(fā)展受到相當大的限制與不便。

【發(fā)明內容】

[0006]為解決現(xiàn)有技術的問題，本發(fā)明的主要目的在于提供一種成膜均勻性更高的蒸鍍
>J-U ρ?α裝直。
[0007]本發(fā)明的次要目的在于提供一種降低蒸鍍設備體積與制造成本的蒸鍍裝置。
[0008]本發(fā)明的再一目的在于提供一種成膜均勻性更高的蒸鍍設備。
[0009]本發(fā)明的再一目的在于提供一種降低蒸鍍設備體積與制造成本的蒸鍍設備。
[0010]本發(fā)明的再一目的在于提供一種成膜均勻性更高的蒸鍍方法。
[0011]本發(fā)明的再一目的在于提供一種降低蒸鍍設備體積與制造成本的蒸鍍方法。
[0012]為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明提供一種蒸鍍裝置包括:至少一蒸鍍源，具有多個噴口；以及，一動力裝置，接設于所述蒸鍍源，所述動力裝置驅動所述蒸鍍源致使所述蒸鍍源往復搖擺。
[0013]本發(fā)明相較于現(xiàn)有技術的有益技術效果在于:本發(fā)明將現(xiàn)有線性蒸鍍源直線掃描生產方式，改為搖擺方式來達成成膜目的。利用蒸鍍源的搖擺，減少其中一個或多個噴口出氣率不良時的影響，提高上升后蒸鍍氣體均勻性，從而提高成膜均勻性。
[0014]根據一實施例，多個所述蒸鍍源順待蒸鍍基板長度或寬度方向排布為一排或多排；同一排的所述蒸鍍源安裝于一搖擺軸件，所述動力裝置通過所述搖擺軸件致使所述蒸鍍源往復搖擺。
[0015]根據一實施例，所述蒸鍍源具有多個坩堝，各所述坩堝分別設有一個所述噴口 ；所述多個坩堝垂直于所述搖擺軸件的軸線排布。。
[0016]根據一實施例，所述搖擺軸件為一傳動軸，所述蒸鍍源固定于所述搖擺軸件上，且各所述蒸鍍源固定于所述搖擺軸件角度錯開分布；所述動力裝置得以帶動所述搖擺軸件在一定角度內往復轉動。
[0017]根據一實施例，所述搖擺軸件為一多級套組軸，各所述蒸鍍源分別固定于其所處的所述搖擺軸件各級軸上；所述動力裝置通過所述搖擺軸件能分別帶動所述各蒸鍍源在一定角度內往復轉動。
[0018]根據一實施例，所述蒸鍍源為多個，多個所述蒸鍍源順待蒸鍍基板長度或寬度方向排布為一排或多排；所述各蒸鍍源分別連接于一動力裝置。
[0019]根據一實施例，各所述坩堝都分別具有加熱裝置。
[0020]從另一角度來看，本公開提供一種應用如前所述蒸鍍裝置的蒸鍍設備，還包括一移載機構、多個鍍率感應器及一蒸鍍控制器；其中:所述移載機構可移動地承載所述蒸鍍裝置；所述鍍率感應器設置于所述蒸鍍源，位于所述蒸鍍源排放范圍內；所述蒸鍍控制器連接控制所述蒸鍍裝置的動力裝置，所述鍍率感應器信號連接至所述蒸鍍控制器；所述蒸鍍控制器根據所述鍍率感應器測得數據控制所述蒸鍍裝置的搖擺動作。
[0021]本發(fā)明相較于現(xiàn)有技術的有益技術效果在于:本發(fā)明將多個蒸鍍源分為不同角度上的多個，分別安裝在轉 動軸上，以驅動裝置帶動轉動軸來分別帶動這些蒸鍍源進行搖擺。這些蒸鍍源中都具有各自的電加熱裝置。并根據鍍率感應器的實時反饋，控制蒸鍍源位置與搖擺速度的調整。從而獲得均勻膜厚的薄膜。
[0022]根據一實施例，更包括一基板保持臺位于所述蒸鍍裝置上方，其內固定待蒸鍍基板，所述基板保持臺上也設置有多個鍍率感應器，這些鍍率感應器位于所述基板待蒸鍍區(qū)域外周側，所述鍍率感應器位于所述蒸鍍裝置排放范圍內。
[0023]根據一實施例，所述移載機構具有推動機構，所述蒸鍍控制器連接控制所述推動機構，所述蒸鍍控制器根據所述保持臺面上多個鍍率感應器所測數據，控制所述推動機構將所述移載機構與所述保持臺面對中或偏移補正。
[0024]本公開還提出一種蒸鍍方法，包括步驟:
[0025]在保持臺面上放置待蒸鍍基板，并將所述基板置于蒸鍍源在下方；
[0026]對所述蒸鍍源進行加熱；
[0027]所述蒸鍍源達到蒸鍍溫度后，打開所述蒸鍍源噴口 ；
[0028]快速搖擺所述蒸鍍源，并感測鍍率，依照感測到的所述鍍率變化換算搖擺速度，待所述蒸鍍源蒸發(fā)量穩(wěn)定后，修正所述蒸鍍源之所述搖擺速度；
[0029]根據所述蒸鍍源噴口側的鍍率感應器及所述基板四周的鍍率感應器感測鍍率變化調整所述搖擺速度，通過控制所述蒸鍍源的偏擺和區(qū)域內的速度變化進行補正；以及
[0030]在所述基板上成膜，并關閉所述蒸鍍源噴口。
[0031]本發(fā)明將現(xiàn)有線性蒸鍍源直線掃描生產方式，改為搖擺方式來達成成膜目的。其中蒸鍍源搖擺的幅度，有關于成膜范圍的大小。搖擺的速度，依照膜厚監(jiān)測后調整的速度來進行，能即時監(jiān)控膜厚的變化，進行鍍率的監(jiān)控搭配搖擺的速度來調整膜厚，使其均勻性更佳化。本發(fā)明也解決了原先線性蒸鍍源機臺設備過于龐大的問題，有效縮減體積，提升機臺設備可適配性與空間利用率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0032]圖1為現(xiàn)有技術蒸鍍機構簡化結構示意圖；
[0033]圖2為本發(fā)明蒸鍍機構簡化結構示意圖；
[0034]圖3為本發(fā)明蒸鍍設備結構示意圖；
[0035]圖4為本發(fā)明蒸鍍裝置一種實施方式俯視結構示意圖；
[0036]圖5為本發(fā)明蒸鍍裝置另一種實施方式俯視結構示意圖；
[0037]圖6為本發(fā)明蒸鍍裝置中搖擺軸件一種實施方式的結構示意圖；
[0038]圖7本發(fā)明搖擺式蒸鍍源與現(xiàn)有標準線性蒸鍍源對比蒸鍍試驗數據圖。
[0039]附圖標記說明:
[0040]本發(fā)明部分
[0041]蒸鍍腔體10、基板搬運機構1、蒸鍍裝置2、蒸鍍源21、坩堝211、噴口 2111、動力裝置22、搖擺軸件221、輸入端221A、輸出端221B、芯軸2211、一級套軸2212、二級套軸2213、三級套軸2214、四級套軸2215、軸座222、變速箱223、馬達224、移載機構3、工作臺31、推動機構32、鍍率感應器4、基板保持臺5、擋板8、基板9。
[0042]現(xiàn)有技術部分
[0043]蒸鍍腔體60、移載機構61、蒸鍍源62、鍍率感測器63、基板搬運機構66。
【具體實施方式】
[0044]體現(xiàn)本公開特征與優(yōu)點的實施方式將在以下的說明中詳細敘述。應理解的是本公開能夠在不同的實施方式上具有各種的變化，其皆不脫離本公開的范圍，且其中的說明及附圖在本質上是當作說明之用，而非用以限制本公開。
[0045]如圖2、圖3所示，本發(fā)明提供一種蒸鍍設備，主要包括蒸鍍腔體10、一基板搬運機構1、至少一蒸鍍裝置2、一移載機構3、多個鍍率感應器4、基板保持臺5及一蒸鍍控制器?；灏徇\機構1、蒸鍍裝置2、移載機構3、鍍率感應器4與保持臺5設置于蒸鍍腔體10內。蒸鍍控制器可位于蒸鍍腔體10內，也可位于蒸鍍腔體10外。
[0046]如圖2所示，基板搬運機構I可為一基板搬運機械手臂，通過基板搬運機構I能將待蒸鍍基板9移至基板保持臺5，或移出已蒸鍍完成的基板9?；灏徇\機構I可采用現(xiàn)有技術搬運設備，在此不再贅述。
[0047]如圖2至圖5所示，本發(fā)明提出的蒸鍍裝置2較佳包括多個蒸鍍源21及至少一動力裝置22?？捎蓜恿ρb置22驅動一個或多個蒸鍍源21同步地往復搖擺或異步地往復搖擺。
[0048]本發(fā)明蒸鍍源21可為現(xiàn)有線性蒸鍍源，也可由點蒸鍍源組合而成。以下以組合的點蒸鍍源來進行示例進行說明，但并不以此為限。
[0049] 如圖4所示具體實施例中，蒸鍍源21可通過坩堝架固設有多個坩堝211，各坩堝211都具有一噴口 2111，每個蒸鍍源21中各坩堝211的噴口 2111指向最好統(tǒng)一，以便于在搖擺中進行精確量化控制。坩堝211在坩堝架中可以排成一排，但最好對中并垂直于搖擺軸線排布，這樣從各噴口 2111蒸發(fā)出的氣體能覆蓋更大的寬度。當然，蒸鍍源21中也可以有兩排以上坩堝211，形成陳列排布。各坩堝211可分別具有電阻加熱裝置?；蛎總€蒸鍍源21由一磁感加熱裝置進入加熱。
[0050]如圖4所示，較佳以多個蒸鍍源21順待蒸鍍基板9長度方向排布為一排；這樣可在基板9中線向兩側寬度方向搖擺蒸鍍。當然也可以排布為多排平行的蒸鍍源21。雖上述實施方式中多個蒸鍍源21順待蒸鍍基板9長度方向排布為一排，但是，多個蒸鍍源21同樣可順待蒸鍍基板9寬度方向排布為一排或多排；并不以此為限。
[0051]關于蒸鍍源21搖擺的動力裝置22提供如下兩種實施方式:
[0052]第一種實施方式，如圖3至圖5所示的實施中，動力裝置22包括搖擺軸件221、軸座222、變速箱223及馬達224。搖擺軸件221通過兩端的兩個軸座222，樞裝于移載機構3工作臺上，馬達224能通過變速箱223帶動搖擺軸件221往復回轉。變速箱223可為定速減速器，也可為輸出速度可調的減速器。馬達224可為電動馬達、液壓馬達，或可由液壓缸、氣缸帶動的擺臂替換使用，并不以此為限。
[0053]同一排的蒸鍍源21以底部安裝于一搖擺軸件221，如圖3所示的實施方式中，搖擺軸件221可為一傳動軸，各蒸鍍源21固定安裝于其所處的搖擺軸件221上。這樣，能以噴口 2111到搖擺軸件221軸心的直線距離為半徑，由動力裝置22帶動蒸鍍源21進行搖擺蒸鍍。一般各噴口 2111噴出氣體時，會向外周擴散15至30度，所以，要讓搖擺中各噴口 2111排放氣體，上升時盡量都在待生產基板9范圍內，各蒸鍍源21偏擺角度最好控制在左右30度以內。
[0054]如圖3、圖5所示，各蒸鍍源21固定于搖擺軸件221角度最好錯開分布。這樣，能以固定模式控制各蒸鍍源21偏擺角度。以垂線為基準，最好要控制在25度以內。
[0055]本發(fā)明對于搖擺軸件221另提供一種實施方式,如圖6所不,搖擺軸件221可為一多級套組軸(類如機械鐘表中表針的中軸技術)，可包括芯軸2211、一級套軸2212、二級套軸2213、三級套軸2214及四級套軸2215，圖中以四級為例進行說明，應用中可有更多級進行使用。各蒸鍍源21分別固定于其所處的搖擺軸件221輸出端221B各級軸上。動力裝置22通過搖擺軸件221輸入端22IA能分別帶動各蒸鍍源21在一定角度內往復轉動。這樣，可分別控制各蒸鍍源21的擺動角度和速度，靈活性最大，且都是同軸線擺動，更方便對中和調整修正。當然，這個角度受基板9大小以及蒸鍍裝置2與基板9之間距離影響，但調原則是各蒸鍍源21偏擺角度最好也控制在左右30度以內。
[0056]動力裝置的第二種實施方式(未繪示)，各坩堝組在底部可分別連接有一動力裝置，通過動力裝置安裝于移載機構3上，動力裝置可為馬達，也可為液壓缸、氣缸等可實施搖擺驅動的動力。這樣，可分別控制各蒸鍍源21的擺動角度和速度，靈活性最大，更方便對中和調整修正。各蒸鍍源21偏擺角度最好也控制在左右30度以內。
[0057]當然，也可以將以上兩種方式進行結合，例如，同一排蒸鍍源21中其中間隔的幾個蒸鍍源21由一個動力裝置通過傳動軸或多級套組軸同步帶動。如此，動力裝置的形式并不進行限制，可達成蒸鍍源21的可控搖擺即可。
[0058]如圖2、圖3所示，移載機構3包括工作臺31及推動機構32，工作臺31底部以多個輪組進行支撐，可移動地 承載蒸鍍裝置2。推動機構32可以是設在工作臺31內的驅動電機，也可為如圖3所示的，由液壓缸、氣缸或電機驅動一推拉桿來實現(xiàn)。[0059]本發(fā)明中以鍍率感應器4在蒸鍍生產中實時感測鍍率，如圖2、圖3所示，多個鍍率感應器4可通過多個固定臂分別支撐于各蒸鍍源21外側的前方，鍍率感應器4要位于蒸鍍源21排放范圍內。以有效感測各蒸鍍源21噴口 2111處的鍍率。同時還可在基板保持臺5上也設置有多個鍍率感應器4，這些鍍率感應器4可均勻地安裝于基板9待蒸鍍區(qū)域外周側，這些鍍率感應器4要位于蒸鍍源21排放范圍內。以有效感測基板9待蒸鍍區(qū)域外周側各區(qū)域的鍍率。
[0060]如圖2、圖3所示，在蒸鍍腔體10具有一基板保持臺5，可位于蒸鍍裝置2上方，其上可具有掩膜及基板固持件，具體結構在此不再詳述?；灞３峙_5內可固定待蒸鍍基板9，并在基板9底面待蒸鍍區(qū)域設為鏤空區(qū)域。也可在基板9底面以下的位置設一個可移出的擋板8，在蒸鍍源21溫度未達生產溫度時在基板9與蒸鍍源21之間進行遮擋。達溫后，可將擋板8移走，以便于正常生產。
[0061]本發(fā)明中還設置有蒸鍍控制器，蒸鍍控制器可為一計算機，也可為單片機等智能化控制裝置，其可存儲和更新?lián)u擺蒸鍍中的數據和自動控制程序。蒸鍍控制器可連接控制蒸鍍裝置2的動力裝置22、移載機構3的推動機構32以及蒸鍍裝置2的加熱裝置。蒸鍍控制器信號連接各鍍率感應器，蒸鍍控制器根據鍍率感應器4測得數據控制蒸鍍裝置2的搖擺動作。還可根據鍍率感應器4所測數據，控制推動機構32將工作臺31對中基板9或進行偏移補正。 [0062]本發(fā)明中提供一種蒸鍍方法，具體可包括步驟:
[0063]在保持臺面上放置待蒸鍍基板9，并將蒸鍍源21在下方對中基板9 ；
[0064]對蒸鍍源21中各坩堝211進行加熱；
[0065]待蒸鍍源21達到蒸鍍溫度后，打開蒸鍍源21噴口上的蓋板(未繪示)；這里的蓋板可以單坩堝211 —個蓋板，也可以多個坩堝211共用一個蓋板，蓋板具體形式并不限制。
[0066]剛啟動時，由于各坩堝211可能存在噴出的不均，所以需要快速搖擺蒸鍍源21，以便于將不均的氣體混合充分?？筛鶕翦冊?1這側的多個鍍率感應器4測得數據的對比值來判斷各坩堝211噴出氣體是否均勻平衡。待蒸鍍源21蒸發(fā)量穩(wěn)定后，降低蒸鍍源21搖擺速度。
[0067]蒸鍍中，還可根據蒸鍍源21噴口側的鍍率感應器4及基板9四周的鍍率感應器4感測成膜厚度不均區(qū)域，通過控制蒸鍍源21的偏擺和區(qū)域內的速度變化進行補正。例如，當基板9四周的鍍率感應器4其中相鄰幾個鍍率偏低，可控制蒸鍍源21在此區(qū)域搖擺速度降低。再例如，若蒸鍍裝置2中一蒸鍍源21噴出氣體不足，可控制推動機構32將工作臺31進行補充搖動，通過相鄰蒸鍍源21進行補充。
[0068]在基板9上成膜完成后，停止蒸鍍裝置2的加熱，并關閉蒸鍍裝置2噴口。
[0069]本發(fā)明將多個蒸鍍源分為不同角度上的多個，分別安裝在轉動軸上，以驅動裝置帶動轉動軸來分別帶動這些蒸鍍裝置進行搖擺。這些蒸鍍裝置中都具有各自的電加熱裝置。并根據鍍率感應器的實時反饋，控制蒸鍍裝置位置與搖擺速度的調整。從而獲得均勻膜厚的薄膜。
[0070]本發(fā)明將現(xiàn)有線性蒸鍍裝置直線掃描生產方式，改為搖擺方式來達成成膜目的。其中蒸鍍裝置搖擺的幅度，有關于成膜范圍的大小。搖擺的速度，依照膜厚監(jiān)測后調整的速度來進行，能即時監(jiān)控膜厚的變化，進行鍍率的監(jiān)控搭配搖擺的速度來調整膜厚，使其均勻性更佳化。本發(fā)明也解決了原先線性蒸鍍裝置機臺設備過于龐大的問題，有效縮減體積，提升機臺設備可適配性與空間利用率。
[0071]如下表一所示，并參照圖7，是使用本發(fā)明搖擺式蒸鍍源與現(xiàn)有標準線性蒸鍍源對比蒸鍍試驗數據。這里使用本發(fā)明中“一動力裝置通過多級套組軸，分別帶動順基板長度方向的一排坩堝組”的實施例，參與該試驗。均要在同樣基板上形成1000埃(A)的八羥基喹啉鋁(Alq3)膜，由對比蒸鍍試驗數據可見。采用本發(fā)明搖擺式蒸鍍技術可大大提高成膜均勻性。
[0072]表一:
[0073]
【權利要求】
1.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括: 至少一蒸鍍源，具有多個噴口 '及 一動力裝置，接設于所述蒸鍍源，所述動力裝置驅動所述蒸鍍源致使所述蒸鍍源往復搖擺。
2.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其中，多個所述蒸鍍源排布為一排或多排，排布方向順待蒸鍍基板長度或寬度方向；同一排的所述蒸鍍源安裝于一搖擺軸件，所述動力裝置通過所述搖擺軸件致使所述蒸鍍源往復搖擺。
3.根據權利要求2所述的蒸鍍裝置，其中，所述蒸鍍源具有多個坩堝，各所述坩堝分別設有一個所述噴口 ；所述多個坩堝垂直于所述搖擺軸件的軸線排布。
4.根據權利要求3所述的蒸鍍裝置，其中，所述搖擺軸件為一傳動軸，所述蒸鍍源固定于所述搖擺軸件上，且各所述蒸鍍源固定于所述搖擺軸件角度錯開分布；所述動力裝置得以帶動所述搖擺軸件在一定角度內往復轉動。
5.根據權利要求3所述的蒸鍍裝置，其中，所述搖擺軸件為一多級套組軸，各所述蒸鍍源分別固定于其所處的所述搖擺軸件各級軸上；所述動力裝置通過所述搖擺軸件能分別帶動所述各蒸鍍源在一定角度內往復轉動。
6.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其中，所述蒸鍍源為多個，多個所述蒸鍍源順待蒸鍍基板長度或寬度方向排布為一排或多排；所述各蒸鍍源分別連接于一動力裝置。
7.根據權利要求1至6任一項所述的蒸鍍裝置，其中，各所述坩堝都分別具有加熱裝置。
8.一種應用如權利要求1至7任一項中所述蒸鍍裝置的蒸鍍設備，還包括一移載機構、多個鍍率感應器及一蒸鍍控制器；其中: 所述移載機構可移動地承載所述蒸鍍裝置； 所述鍍率感應器設置于所述蒸鍍裝置，位于所述蒸鍍裝置排放范圍內； 所述蒸鍍控制器連接控制所述蒸鍍裝置的動力裝置，所述鍍率感應器信號連接至所述蒸鍍控制器；所述蒸鍍控制器根據所述鍍率感應器測得數據控制所述蒸鍍裝置的搖擺動作。
9.根據權利要求8所述的蒸鍍設備，更包括:一基板保持臺位于所述蒸鍍裝置上方，其內固定待蒸鍍基板，所述基板保持臺上設置有多個鍍率感應器，這些鍍率感應器位于所述基板待蒸鍍區(qū)域外周側，所述鍍率感應器位于所述蒸鍍源排放范圍內。
10.根據權利要求9所述的蒸鍍設備，其中，所述移載機構具有推動機構，所述蒸鍍控制器連接控制所述推動機構，所述蒸鍍控制器根據所述保持臺面上多個鍍率感應器所測數據，控制所述推動機構將所述移載機構與所述保持臺面對中或偏移補正。
11.一種蒸鍍方法，包括步驟: 在保持臺面上放置待蒸鍍基板，并將所述基板置于蒸鍍源在下方； 對所述蒸鍍源進行加熱； 所述蒸鍍源達到蒸鍍溫度后，打開所述蒸鍍源噴口 ； 快速搖擺所述蒸鍍源，并感測鍍率，依照感測到的所述鍍率變化換算搖擺速度，待所述蒸鍍源蒸發(fā)量穩(wěn)定后，修正所述蒸鍍源之所述搖擺速度； 根據所述蒸鍍源噴口側的鍍率感應器及所述基板四周的鍍率感應器感測鍍率變化調整所述搖擺速度，通過控制所述蒸鍍源的偏擺和區(qū)域內的速度變化進行補正；以及 在所述基板上成膜，并關閉所述蒸鍍源噴口。
【文檔編號】C23C14/54GK104004995SQ201410247239
【公開日】2014年8月27日 申請日期:2014年6月5日 優(yōu)先權日:2014年6月5日
【發(fā)明者】張耀宇 申請人:上海和輝光電有限公司