沉積掩模組件的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種沉積掩模組件，該沉積掩模組件包括：掩模，其中形成有沉積圖案；以及掩模框架，固定到掩模的邊緣，開口形成在掩?？蚣艿闹行?。彼此面對(duì)的掩模的邊緣的第一表面和掩?？蚣艿泥徑谒鲩_口的第一表面彼此焊接。
【專利說明】沉積掩模組件

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本公開涉及沉積掩模組件。

【背景技術(shù)】
[0002]諸如有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器的顯示裝置是通過在基底上沉積薄膜來制造的。用于沉積顯示裝置的薄膜的沉積掩模組件通常通過使用運(yùn)用光刻的蝕刻法以及使用光刻和電解的電成型法來制造。這樣的沉積掩模組件位于諸如顯示元件的目標(biāo)對(duì)象將要形成在其上的基底處，并且沉積對(duì)象通過沉積掩模轉(zhuǎn)移到基底，從而在基底上沉積期望類型的圖案。
[0003]該背景部分中公開的以上信息只是為了增強(qiáng)對(duì)本發(fā)明的背景的理解，因此以上信息可能包含不形成本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在本國(guó)已經(jīng)知道的現(xiàn)有技術(shù)的信息。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了提供一種沉積掩模組件，已經(jīng)做出了本發(fā)明的實(shí)施例，該沉積掩模組件具有以下優(yōu)點(diǎn):能夠防止由向掩模的頂表面突出的焊縫所導(dǎo)致的附著到掩模的頂表面的基底的損壞，和/或由掩模和掩模框架之間的焊接所導(dǎo)致的形成在掩模中的沉積圖案的損壞。
[0005]一個(gè)實(shí)施例提供了一種沉積掩模組件，該沉積掩模組件包括:掩模，其中形成有沉積圖案；以及掩?？蚣?，固定到掩模的邊緣，開口形成在掩模框架的中心，其中，掩模的邊緣的第一表面和掩模框架的鄰近于所述開口的第一表面彼此焊接，其中，掩模的邊緣的第一表面和掩?？蚣艿泥徑谒鲩_口的第一表面彼此面對(duì)。
[0006]多個(gè)焊孔可被形成為延伸穿過掩?？蚣艿牡谝槐砻?。
[0007]焊孔可沿著開口的周邊形成。
[0008]開口可具有四邊形的形狀。
[0009]掩?？蚣苓€可包括從掩?？蚣艿牡谝槐砻嫦蛳卵由斓牡诙砻?。
[0010]第二表面可沿著開口的周邊形成封閉曲線。
[0011]掩?？蚣苓€可包括面對(duì)掩?？蚣艿牡诙砻娴牡谌砻妗?br> [0012]當(dāng)在遠(yuǎn)離開口的方向上觀看時(shí)，第三表面可形成在第二表面的外側(cè)。
[0013]用于容納焊條的焊條插入槽可形成在掩?？蚣艿牡诙砻婧偷谌砻嬷g，其中，第二表面和第三表面彼此面對(duì)。
[0014]根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的沉積掩模組件可防止由向掩模的頂表面突出的焊縫所導(dǎo)致的附著到掩模的頂表面的基底的損壞，和/或由掩模和掩?？蚣苤g的焊接所導(dǎo)致的形成在掩模中的沉積圖案的損壞。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]圖1是根據(jù)實(shí)施例的沉積掩模組件的俯視圖。
[0016]圖2是根據(jù)實(shí)施例的沉積掩模組件的側(cè)視圖。
[0017]圖3至圖5示出了圖2中示出的掩模和掩?？蚣艿慕Y(jié)合工藝。
[0018]圖6是示出了如何使用根據(jù)實(shí)施例的沉積掩模組件執(zhí)行沉積工藝的狀態(tài)圖。

【具體實(shí)施方式】
[0019]在下文中，將參照附圖詳細(xì)地描述本發(fā)明的某些實(shí)施例，使得本發(fā)明可以容易地被本領(lǐng)域技術(shù)人員實(shí)施。如本領(lǐng)域技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到的，在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，可以用各種方式修改所描述的實(shí)施例。在附圖和本說明書中，為了清楚地描述本發(fā)明，省略了與本發(fā)明的描述無(wú)關(guān)的部件或元件，在整個(gè)說明書中通常用相同的附圖標(biāo)記指示相同或相似的構(gòu)成元件。
[0020]另外，為了更好地理解和便于描述，任意地示出圖中示出的每個(gè)組件的尺寸和厚度，但是本發(fā)明不限于此。
[0021]在附圖中，為了清晰起見，可夸大層、膜、面板、區(qū)域等的厚度。在附圖中，為了更好地理解和便于描述，可夸大某些層和區(qū)域的厚度。此外，當(dāng)層、膜、板等的第一部件被描述為布置“在”第二部件“上”或“上方”時(shí)，這表明第一部件直接地布置在第二部件上或上方，或者具有在其之間的第三部件，而不限于基于重力方向的其上側(cè)。
[0022]此外,在整個(gè)該說明書中，當(dāng)部件被描述為“包括”或“包含”構(gòu)成元件時(shí)，這表示該部件還可以包括其他構(gòu)成元件，除非另有具體限定。
[0023]通常，在掩模組件中掩模和掩模框架被焊接以彼此固定，焊縫向掩模的上側(cè)突出。因此，在沉積工藝中，當(dāng)基底附著到掩模的上表面時(shí)，基底會(huì)被突出的焊縫損壞。此外，在焊接掩模和掩模框架的操作中，沉積圖案會(huì)被焊渣損壞。
[0024]參照?qǐng)D1和圖2，根據(jù)實(shí)施例的沉積掩模組件可防止形成在掩模中的沉積圖案在掩模組件的制造操作中損壞。也可防止由焊接掩模和掩?？蚣芩纬傻暮缚p所導(dǎo)致的基底(用作將要在其上進(jìn)行沉積的目標(biāo)對(duì)象)的損壞。
[0025]本發(fā)明的實(shí)施例的沉積掩模組件包括掩模100和掩?？蚣?00。
[0026]參照?qǐng)D1，掩模100可具有類似四邊形板的形狀。然而，掩模100可具各種形狀，而不限于此。
[0027]在這種情況下，沉積圖案110形成在掩模100中。在沉積圖案110中，穿過掩模表面延伸的多個(gè)開口以預(yù)定的形式形成在掩模表面中。通過經(jīng)由沉積圖案在基底上沉積精細(xì)的沉積對(duì)象，可在基底(用作將要在其上進(jìn)行沉積的目標(biāo)對(duì)象)上以期望類型的圖案形成薄膜。
[0028]在這種情況下，掩模100的邊緣120固定到掩?？蚣?00。在沉積工藝中，掩模100穩(wěn)固地固定到掩?？蚣?00，以不允許形成在掩模100中的沉積圖案110移動(dòng)。
[0029]根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，掩模100的邊緣120的第一表面121結(jié)合到掩模框架200的第一表面231。具體地，掩模100的邊緣120的第一表面121結(jié)合到掩模框架200的面對(duì)掩模100的邊緣120的第一表面121的第一表面231。
[0030]掩模100的邊緣120通過焊接結(jié)合到掩?？蚣?00。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，掩模100的邊緣120的第一表面121焊接到掩?？蚣?00的第一表面231。
[0031]多個(gè)焊孔210沿著掩?？蚣?00的第一表面231形成在掩?？蚣?00中。
[0032]參照?qǐng)D3和圖4，焊孔210被形成為延伸穿過掩?？蚣?00的第一表面231。通過焊孔210暴露的掩模100的邊緣120的第一表面121通過使用焊條600來焊接在掩?？蚣?00的上側(cè)。
[0033]如圖2所示，焊縫300通過焊接被形成為向掩模框架200的下側(cè)突出。
[0034]參照?qǐng)D1和圖2，掩?？蚣?00可具有類似四邊形框架的形狀。換言之，掩?？蚣?00可以為具有在其中心處的四邊形開口 130的框架型。
[0035]掩模100的邊緣120固定到掩?？蚣?00，使得掩模100的沉積圖案110通過掩模框架200的開口 130暴露。換言之，掩模100的邊緣120固定到開口 130的邊緣230。
[0036]參照?qǐng)D2,第二表面232被形成為從掩模框架200的第一表面231向下延伸。
[0037]掩?？蚣?00的第二表面232用于防止在焊接時(shí)產(chǎn)生的火花對(duì)沉積圖案110的損壞。換言之，掩?？蚣?00的第二表面232用作防止焊接火花散落到沉積圖案110的圍欄。
[0038]具體地，通過形成掩?？蚣?00的第二表面232，可以防止焊接產(chǎn)生的焊接火花通過掩?？蚣?00的開口 130飛到掩模100的沉積圖案110。
[0039]在這種情況下，掩?？蚣?00的第二表面232可形成沿著開口 130的周邊的閉合曲線。具體地，第二表面232被形成為圍繞開口 130的周邊。因此，可以防止焊接火花通過開口飛到沉積圖案110。
[0040]根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，掩模框架200還可包括面對(duì)第二表面232的第三表面233。在這種情況下，第三表面233形成在第二表面232的外側(cè)。
[0041]與第二表面232相似，第三表面233可沿著第二表面232的周邊形成閉合曲線。
[0042]如圖2所示，通過使得第二表面232和第三表面233彼此面對(duì)，焊條插入槽220可被形成為容納焊條600。
[0043]通過形成焊條插入槽220，可防止焊接產(chǎn)生的焊接火花等散落在側(cè)方向上，例如在掩?？蚣?00的外側(cè)方向上。
[0044]在這種情況下，焊條插入槽220可被形成為與焊孔210平行。如圖2所示，焊條插入槽220被形成為具有預(yù)定的深度。具體地，焊條插入槽220具有足夠的深度，以防止焊條產(chǎn)生的火花等散落到掩模100的沉積圖案110。
[0045]圖3至圖5示出了將掩模100固定到掩?？蚣?00的操作。
[0046]在圖3和圖4中，使掩模100的邊緣120位于掩模框架200的開口 130的邊緣230的上側(cè)。
[0047]接下來，如圖5所示，通過經(jīng)由焊孔210執(zhí)行焊接，將掩模100的邊緣120的第一表面結(jié)合到鄰近于開口 130的第一表面231。
[0048]在這種情況下，當(dāng)焊接掩模100的第一表面121時(shí)，焊縫300被形成為向掩模100的下側(cè)突出。換言之，如圖6所示，焊縫300被形成為在與掩模100的頂表面(與基底400接觸)相反的方向上突出。
[0049]參照?qǐng)D6，在基底上形成薄膜的工藝包括使基底400與掩模100的頂表面接觸的步驟，以及從掩模100下側(cè)處的沉積裝置500將精細(xì)的沉積材料沉積在基底400上的步驟。
[0050]在這種情況下，因?yàn)楹缚p300不存在于基底400和掩模100的頂表面之間，所以由焊縫300導(dǎo)致的基底的這種損壞可以被防止。
[0051]在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的沉積掩模組件中，當(dāng)掩模100焊接到掩模框架200時(shí)，焊縫被形成為向掩模100的下側(cè)突出，從而在沉積操作中可防止基底的損壞。此外，可防止掩模100的沉積圖案110受到焊接產(chǎn)生的火花等的損壞。
[0052]盡管已經(jīng)結(jié)合某些實(shí)施例描述了本發(fā)明，但應(yīng)理解的是，本發(fā)明不限于公開的實(shí)施例，而是相反，意圖覆蓋包括在所附權(quán)利要求的精神和范圍內(nèi)的各種修改和等同布置。
[0053]〈附圖標(biāo)記的說明>
[0054]100:掩模 110:沉積圖案
[0055]120:邊緣 200:掩模框架
[0056]210:焊孔 220:焊條插入槽
[0057]230:邊緣 300:焊縫
[0058]400:基底 500:沉積裝置
【權(quán)利要求】
1.一種沉積掩模組件，其特征在于，所述沉積掩模組件包括: 掩模，其中形成有沉積圖案；以及 掩模框架，固定到掩模的邊緣； 開口形成在掩?？蚣艿闹行模? 其中，彼此面對(duì)的掩模的邊緣的第一表面和掩模框架的鄰近于所述開口的第一表面彼此焊接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積掩模組件，其特征在于，其中，多個(gè)焊孔被形成為延伸穿過掩?？蚣艿牡谝槐砻?。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積掩模組件，其特征在于，其中，焊孔沿著所述開口的周邊形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的沉積掩模組件，其特征在于，其中，所述開口具有四邊形的形狀。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積掩模組件，其特征在于，其中，掩?？蚣苓€包括從掩模框架的第一表面向下延伸的第二表面。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的沉積掩模組件，其特征在于，其中，第二表面沿著所述開口的周邊形成封閉曲線。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的沉積掩模組件，其特征在于，其中，掩模框架還包括面對(duì)掩模框架的第二表面的第三表面。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的沉積掩模組件，其特征在于，其中，當(dāng)在遠(yuǎn)離所述開口的方向上觀看時(shí)，第三表面形成在第二表面的外側(cè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的沉積掩模組件，其特征在于，其中，用于容納焊條的焊條插入槽形成在掩?？蚣艿牡诙砻婧偷谌砻嬷g，第二表面和第三表面彼此面對(duì)。
【文檔編號(hào)】C23C14/04GK104233188SQ201410274708
【公開日】2014年12月24日 申請(qǐng)日期:2014年6月19日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月19日
【發(fā)明者】韓政洹 申請(qǐng)人:三星顯示有限公司