平板型太陽(yáng)能金屬吸收板與中高溫集熱管鍍膜裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型涉及平板型太陽(yáng)能金屬吸收板與中高溫集熱管鍍膜裝置，其特征在于鍍膜室內(nèi)設(shè)置有工件架和工件卷筒，工件卷筒設(shè)置在工件架上，下轉(zhuǎn)盤(pán)的下面設(shè)置有公轉(zhuǎn)盤(pán)，上轉(zhuǎn)盤(pán)與下轉(zhuǎn)盤(pán)之間通過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)聯(lián)接桿連接在一起，工件卷筒設(shè)置成圓柱形，工件卷筒的上端與上轉(zhuǎn)盤(pán)連接，工件卷筒的下端與下轉(zhuǎn)盤(pán)連接，下轉(zhuǎn)盤(pán)上中間設(shè)置有一個(gè)十字形的屏蔽板和四個(gè)濺射靶，相鄰的濺射靶通過(guò)十字形的屏蔽板分隔開(kāi)，濺射靶和屏蔽板的頂端與上轉(zhuǎn)盤(pán)接觸，在鍍膜室的背面設(shè)置有真空排氣孔，鍍膜室內(nèi)設(shè)置真空，鍍膜室的一側(cè)還設(shè)置有前圓弧門(mén)。本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)：1、為間歇式鍍膜，設(shè)備簡(jiǎn)單易操作；2、設(shè)備價(jià)低，滿足大企業(yè)生產(chǎn)需求；3、也可用于中高溫集熱管(不銹鋼管)鍍膜。
【專(zhuān)利說(shuō)明】平板型太陽(yáng)能金屬吸收板與中高溫集熱管鍍膜裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及新能源(太陽(yáng)能)行業(yè)，具體的說(shuō)是一種平板型太陽(yáng)能金屬吸收板與中高溫集熱管鍍膜裝置，應(yīng)用于家庭用、商用太陽(yáng)能熱水器。
【背景技術(shù)】
[0002]目前平板型太陽(yáng)能吸熱板制備方法為電鍍、陽(yáng)極氧化，這些方法對(duì)環(huán)境、人體有很大危害。最近幾年從國(guó)外引進(jìn)“藍(lán)鈦板”，采用真空磁控濺射鍍膜方法制備，但設(shè)備價(jià)格昂貴，國(guó)內(nèi)也有臥式卷繞鍍膜，設(shè)備價(jià)格也高，工藝難控制，產(chǎn)品質(zhì)量不穩(wěn)定，很難滿足中小企業(yè)要求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種平板型太陽(yáng)能金屬吸收板與中高溫集熱管鍍膜裝置，本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)包括前圓弧門(mén)、鍍膜室、工件架、真空排氣孔、上轉(zhuǎn)盤(pán)、下轉(zhuǎn)盤(pán)、公轉(zhuǎn)盤(pán)、轉(zhuǎn)盤(pán)聯(lián)接桿、濺射靶、工件卷筒、屏蔽板，其特征在于鍍膜室內(nèi)設(shè)置有工件架和工件卷筒，工件卷筒設(shè)置在工件架上，工件架由上轉(zhuǎn)盤(pán)、下轉(zhuǎn)盤(pán)、公轉(zhuǎn)盤(pán)、轉(zhuǎn)盤(pán)聯(lián)接桿、濺射靶和屏蔽板組成，下轉(zhuǎn)盤(pán)的下面設(shè)置有公轉(zhuǎn)盤(pán)，上轉(zhuǎn)盤(pán)與下轉(zhuǎn)盤(pán)之間通過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)聯(lián)接桿連接在一起，在下轉(zhuǎn)盤(pán)上的圓周邊緣處設(shè)置有7個(gè)工件卷筒，工件卷筒設(shè)置成圓柱形，工件卷筒的上端與上轉(zhuǎn)盤(pán)連接，工件卷筒的下端與下轉(zhuǎn)盤(pán)連接，下轉(zhuǎn)盤(pán)上中間設(shè)置有一個(gè)十字形的屏蔽板和四個(gè)濺射靶，相鄰的濺射靶通過(guò)十字形的屏蔽板分隔開(kāi)，濺射靶和屏蔽板的頂端與上轉(zhuǎn)盤(pán)接觸，在鍍膜室的背面設(shè)置有真空排氣孔，鍍膜室內(nèi)設(shè)置真空，鍍膜室的一側(cè)還設(shè)置有前圓弧門(mén)。
[0004]本實(shí)用新型采用真空磁控濺射鍍膜技術(shù)，在金屬板表面與不銹鋼管外表面鍍制太陽(yáng)能選擇性吸收涂層，是一種對(duì)環(huán)境無(wú)污染的采用先進(jìn)工藝技術(shù)的鍍膜設(shè)備，符合能源產(chǎn)業(yè)發(fā)展方向。該裝置由鍍膜室、前圓弧門(mén)、真空排氣孔、濺射靶、屏蔽板、工件架(包括上、下轉(zhuǎn)盤(pán)、上下轉(zhuǎn)盤(pán)聯(lián)接桿)、工件卷筒(或不銹鋼管架)組成。鍍膜室為真空室，在其背面有真空排氣孔，前面是前圓弧門(mén)，打開(kāi)前圓弧門(mén)安裝濺射靶、屏蔽板、工件架及裝卸工件卷筒(或不銹鋼管架)；關(guān)閉前圓弧門(mén)抽真空進(jìn)行磁控濺射鍍膜。使用方法:先將需鍍膜的金屬板卷繞在圓柱工件卷筒上，打開(kāi)前圓弧門(mén)圓柱工件卷筒(或不銹鋼管架)安裝在工件架上，關(guān)閉前圓弧門(mén)，抽真空，進(jìn)行濺射鍍膜。濺射靶是制備太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層的材料，為了耗材均勻靶管旋轉(zhuǎn)，工件架下轉(zhuǎn)盤(pán)為行星式公、自轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)，上下轉(zhuǎn)盤(pán)與聯(lián)接桿組成的工件架完成工件繞濺射靶公轉(zhuǎn)，同時(shí)圓柱工件卷筒(或不銹鋼管架)自轉(zhuǎn)，以得到均勻的太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層。
[0005]本實(shí)用新型的有益效果是，本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn):1、為間歇式鍍膜，設(shè)備簡(jiǎn)單易操作，工藝穩(wěn)定，質(zhì)量可靠；2、設(shè)備價(jià)低，既能滿足中小企業(yè)需求，又可根據(jù)產(chǎn)量配備機(jī)臺(tái)數(shù)量，滿足大企業(yè)生產(chǎn)需求；3、也可用于中高溫集熱管(不銹鋼管)鍍膜?！緦?zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0006]圖1:本實(shí)用新型實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖。
[0007]圖2:本實(shí)用新型實(shí)施例鍍膜室結(jié)構(gòu)示意圖。
[0008]圖3:本實(shí)用新型實(shí)施例工件架結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]圖4:本實(shí)用新型實(shí)施例工件架與工件卷筒結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖5:本實(shí)用新型實(shí)施例工件架與工件卷筒俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖中:前圓弧門(mén)1、鍍膜室2、工件架3、真空排氣孔4、上轉(zhuǎn)盤(pán)5、下轉(zhuǎn)盤(pán)6、公轉(zhuǎn)盤(pán)7、轉(zhuǎn)盤(pán)聯(lián)接桿8、濺射靶9、工件卷筒10、屏蔽板11。
【具體實(shí)施方式】
[0012]參照【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】對(duì)本實(shí)用新型作以下具體的詳細(xì)說(shuō)明。如附圖所示，本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)包括前圓弧門(mén)1、鍍膜室2、工件架3、真空排氣孔4、上轉(zhuǎn)盤(pán)5、下轉(zhuǎn)盤(pán)6、公轉(zhuǎn)盤(pán)7、轉(zhuǎn)盤(pán)聯(lián)接桿8、濺射靶9、工件卷筒10、屏蔽板11，其特征在于鍍膜室2內(nèi)設(shè)置有工件架3和工件卷筒10，工件卷筒10設(shè)置在工件架3上，工件架3由上轉(zhuǎn)盤(pán)5、下轉(zhuǎn)盤(pán)6、公轉(zhuǎn)盤(pán)7、轉(zhuǎn)盤(pán)聯(lián)接桿8、濺射靶9和屏蔽板11組成，下轉(zhuǎn)盤(pán)6的下面設(shè)置有公轉(zhuǎn)盤(pán)7，上轉(zhuǎn)盤(pán)5與下轉(zhuǎn)盤(pán)6之間通過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)聯(lián)接桿8連接在一起，在下轉(zhuǎn)盤(pán)6上的圓周邊緣處設(shè)置有7個(gè)工件卷筒10，工件卷筒10設(shè)置成圓柱形，工件卷筒10的上端與上轉(zhuǎn)盤(pán)5連接，工件卷筒10的下端與下轉(zhuǎn)盤(pán)6連接，下轉(zhuǎn)盤(pán)6上中間設(shè)置有一個(gè)十字形的屏蔽板11和四個(gè)濺射靶9，相鄰的濺射靶9通過(guò)十字形的屏蔽板11分隔開(kāi)，濺射靶9和屏蔽板11的頂端與上轉(zhuǎn)盤(pán)5接觸，在鍍膜室2的背面設(shè)置有真空排氣孔4，鍍膜室2內(nèi)設(shè)置真空，鍍膜室2的一側(cè)還設(shè)置有前圓弧門(mén)I。
[0013]上面所述的實(shí)施例僅僅是對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行描述，并非對(duì)本實(shí)用新型的構(gòu)思和范圍進(jìn)行限定，在不脫離本實(shí)用新型設(shè)計(jì)構(gòu)思的前提下，本領(lǐng)域中普通工程技術(shù)人員對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作出的各種變型和改進(jìn)，均應(yīng)落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍，本實(shí)用新型請(qǐng)求保護(hù)的技術(shù)內(nèi)容，已經(jīng)全部記載在權(quán)利要求書(shū)中。
【權(quán)利要求】
1.平板型太陽(yáng)能金屬吸收板與中高溫集熱管鍍膜裝置，包括前圓弧門(mén)(I)、鍍膜室(2)、工件架(3)、真空排氣孔(4)、上轉(zhuǎn)盤(pán)(5)、下轉(zhuǎn)盤(pán)(6)、公轉(zhuǎn)盤(pán)(7)、轉(zhuǎn)盤(pán)聯(lián)接桿(8)、濺射靶(9)、工件卷筒(10)、屏蔽板(11)，其特征在于鍍膜室(2)內(nèi)設(shè)置有工件架(3)和工件卷筒(10)，工件卷筒(10)設(shè)置在工件架(3)上，工件架(3)由上轉(zhuǎn)盤(pán)(5)、下轉(zhuǎn)盤(pán)(6)、公轉(zhuǎn)盤(pán)(7)、轉(zhuǎn)盤(pán)聯(lián)接桿(8)、濺射靶(9)和屏蔽板(11)組成，下轉(zhuǎn)盤(pán)(6)的下面設(shè)置有公轉(zhuǎn)盤(pán)(7)，上轉(zhuǎn)盤(pán)(5)與下轉(zhuǎn)盤(pán)(6)之間通過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)聯(lián)接桿(8)連接在一起，在下轉(zhuǎn)盤(pán)(6)上的圓周邊緣處設(shè)置有7個(gè)工件卷筒(10)，工件卷筒(10)設(shè)置成圓柱形，工件卷筒(10)的上端與上轉(zhuǎn)盤(pán)(5)連接，工件卷筒(10)的下端與下轉(zhuǎn)盤(pán)(6)連接，下轉(zhuǎn)盤(pán)(6)上中間設(shè)置有一個(gè)十字形的屏蔽板(11)和四個(gè)濺射靶(9)，相鄰的濺射靶(9)通過(guò)十字形的屏蔽板(11)分隔開(kāi)，濺射靶(9)和屏蔽板(11)的頂端與上轉(zhuǎn)盤(pán)(5)接觸，在鍍膜室(2)的背面設(shè)置有真空排氣孔(4)，鍍膜 室(2)內(nèi)設(shè)置真空，鍍膜室(2)的一側(cè)還設(shè)置有前圓弧門(mén)(I)。
【文檔編號(hào)】C23C14/35GK203683654SQ201420025586
【公開(kāi)日】2014年7月2日 申請(qǐng)日期:2014年1月11日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月11日
【發(fā)明者】崔世娟 申請(qǐng)人:崔世娟