一種改進的多晶制絨rena的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種改進的多晶制絨RENA機，其包括制絨槽，制絨槽內底部設有均流管組，均流管組包括位于制絨槽各道內的平行于硅片傳動方向的均流管，均流管沿其長度方向分布有朝向水平或斜向制絨槽底部進液口；各道均流管的一端與位于制絨槽內一側的分配管相聯(lián)通；制絨槽還設有溢流口，溢流口連接用于收集溢流液體的溢液收集箱，溢液收集箱與分配管通過連接管聯(lián)通，連接管上設有循環(huán)泵。本實用新型制絨機可提高單道間單片的絨面的穩(wěn)定性，降低制絨機各道之間的減重差異和破片率，提高多晶硅片的腐蝕均勻性，降低鍍膜崗位返工片的比率,提高電池片的外觀質量。
【專利說明】-種改進的多晶制絨RENA機

【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及一種改進的多晶制絨RENA機。

【背景技術】
[0002] 娃片在切割過程中會在表面形成大約10 μ m厚的損傷層，這一層與娃片基體的性 質不同，會嚴重影響太陽能電池的性能。清洗工序制絨工藝就是利用硅片的這一層損傷層， 通過硝酸對其氧化制絨，形成高低不平的表面，大大增加電池片表面的受光面積，減少反 射，從而提高太陽能電池的轉換效率。在多晶制絨時，需要控制硅片的減薄量，尤其是需要 控制硅片整面膜的減薄均勻性。
[0003] 目前RENA制絨機臺存在設計上的缺陷，制絨槽的進液方式存在缺陷，進液集中在 整個槽體的一端，導致制絨機臺道與道之間腐蝕程度存在差異，最終導致每道之間減重差 異較大，且液體循環(huán)均勻性較差，得到的絨面均勻性、穩(wěn)定性差，進而導致鍍膜崗位的返工 片和色差片等不良片的比率大大增加。 實用新型內容
[0004] 本實用新型的目的在于對目前鏈式RENA多晶制絨機的進液方式進行研究，克服 現(xiàn)有技術中存在的缺陷，提供一種可以均勻腐蝕硅片的多晶硅片制絨機。
[0005] 為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型的技術方案是一種改進的多晶制絨RENA機，其包 括制絨槽，制絨槽內底部設有均流管組，均流管組包括位于制絨槽各道內的平行于硅片傳 動方向的均流管，均流管沿其長度方向分布有朝向水平或斜向制絨槽底部的進液口；各道 均流管的一端與位于制絨槽內一側的分配管相聯(lián)通；制絨槽還設有溢流口，溢流口連接用 于收集溢流液體的溢液收集箱，溢液收集箱與分配管通過連接管聯(lián)通，連接管上設有循環(huán) 栗。
[0006] 為了盡可能提高腐蝕液的使用效率，優(yōu)選地，所述均流管上的進液口為水平朝向， 使均流管上的進液口能更1?效地接觸娃片，從而提1?制續(xù)效率。
[0007] 為了提高制絨槽的腐蝕率的混合均勻性，各所述均流管的左右兩側沿所述均流管 的長度方向各分布有至少兩列、互相交錯的進液口。交錯分布進液口還可以降低各列的開 孔密度，降低均流管的加工難度。
[0008] 優(yōu)選地，所述分配管也設有進液口。
[0009] 最好所述分配管的進液口至少為兩行，且各行進液口相互錯開。
[0010] 在腐蝕液進入均流管的瞬間及腐蝕液停止流動的瞬間，突然改變運動狀態(tài)的腐蝕 液會對均流管產(chǎn)生沖擊力，易造成均流管的扭動與腐蝕液的流出方向改變，進而使待處理 的硅片產(chǎn)生晃動而破片。為此優(yōu)選地，所述制絨槽的底部設有用于固定所述均流管的固定 機構。所述固定機構可以為與所述均流管外輪廓相卡合的U形夾
[0011] 本實用新型的優(yōu)點和有益效果在于：本實用新型制絨機通過對設備進行改造，將 單一的進液方式變更為更為均勻的進液方式，提高了單道間單片的絨面的穩(wěn)定性；同時將 進液口朝向水平或斜向槽底設置，產(chǎn)生了更為均勻的腐蝕液混合效果，降低制絨機各道之 間的減重差異；從上述兩個方面提高了多晶硅片的腐蝕均勻性，從而降低了鍍膜崗位返工 片的比率，提高電池片的外觀質量。另外，進液口方向的改進設置和槽底U形夾的設置，還 降低了多晶硅片因腐蝕液的沖刷產(chǎn)生的晃動而發(fā)生破片的機率，最終提高企業(yè)利潤。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0012] 圖1是本實用新型改進的多晶制絨RENA機的剖視結構示意圖；
[0013] 圖2是圖1的俯視結構示意圖；
[0014] 圖3是圖1中均流管的立體結構示意圖；
[0015] 圖4是圖3中均流管的一種截面結構示意圖；
[0016] 圖5是圖3中均流管的另一種截面結構示意圖；
[0017] 圖6是圖1中A處的局部放大示意圖。
[0018] 圖中：1、制絨槽；2、均流管；3、分配管；4、溢液收集箱；5、連接管；6、循環(huán)泵；7、U 形夾；11、溢流口；20和30、進液口。

【具體實施方式】
[0019] 下面結合附圖和實施例，對本實用新型的【具體實施方式】作進一步描述。以下實施 例僅用于更加清楚地說明本實用新型的技術方案，而不能以此來限制本實用新型的保護范 圍。
[0020] 本實用新型是一種改進的多晶制絨RENA機，如圖1至3所示，其包括制絨槽1，制 絨槽內底部設有均流管組，均流管組包括位于制絨槽1各道內的平行于硅片傳動方向的均 流管2,均流管2沿其長度方向分布有進液口 20 ;各道均流管2的一端與位于制絨槽1內一 側的分配管3相聯(lián)通；制絨槽1還設有溢流口 11，溢流口 11連接用于收集溢流液體的溢液 收集箱4,溢液收集箱4與分配管3通過連接管5聯(lián)通，連接管5上設有循環(huán)泵6。
[0021] 均流管2上的進液口 20可以為斜向制絨槽1的底部，如圖4所示，或者均流管2 上的進液口 20為水平朝向，圖5所示；進液口 20斜向制絨槽1的底部或為水平朝向，克服 了進液口 20朝上設置時硅片底部受流體朝上的沖擊而發(fā)生晃動，降低了破片的概率。為了 盡可能提高腐蝕液的使用效率，均流管2上的進液口 20最好為水平朝向，使均流管2上的 進液口 20能更高效地接觸硅片，從而提高制絨效率。
[0022] 為了提高制絨槽1的腐蝕率的混合均勻性，各均流管2的左右兩側沿均流管2的 長度方向各分布有至少兩列、互相交錯的進液口 20,如圖3所示。交錯分布的進液口 20還 可以降低開孔密度，進而降低均流管2的加工難度。
[0023] 如圖6所示，分配管3也可設有進液口 30。分配管3的進液口 30至少為兩行，且 各行進液口 30相互錯開。
[0024] 在腐蝕液進入均流管2的瞬間及腐蝕液停止流動的瞬間，突然改變運動狀態(tài)的腐 蝕液會對均流管2產(chǎn)生沖擊力，易造成均流管2的扭動與腐蝕液的流出方向改變，進而使待 處理的硅片因受流體沖擊而產(chǎn)生晃動、破片，故最好在制絨槽1的底部設有若干用于卡合 均流管2外輪廓的U形夾7。
[0025] 以上所述僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本【技術領域】的普通技 術人員來說，在不脫離本實用新型技術原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改 進和潤飾也應視為本實用新型的保護范圍。
【權利要求】
1. 一種改進的多晶制絨RENA機，其特征在于，包括制絨槽，制絨槽內底部設有均流管 組，均流管組包括位于制絨槽各道內的平行于硅片傳動方向的均流管，均流管沿其長度方 向分布有朝向水平或斜向制絨槽底部的進液口；各道均流管的一端與位于制絨槽內一側的 分配管相聯(lián)通；制絨槽還設有溢流口，溢流口連接用于收集溢流液體的溢液收集箱，溢液收 集箱與分配管通過連接管聯(lián)通，連接管上設有循環(huán)泵。
2. 如權利要求1所述的改進的多晶制絨RENA機，其特征在于，所述均流管上的進液口 為水平朝向。
3. 如權利要求2所述的改進的多晶制絨RENA機，其特征在于，各所述均流管的左右兩 側沿所述均流管的長度方向各分布有至少兩列、互相交錯的進液口。
4. 如權利要求1所述的改進的多晶制絨RENA機，其特征在于，所述分配管也設有進液 □。
5. 如權利要求4所述的改進的多晶制絨RENA機，其特征在于，所述分配管上的進液口 至少為兩行，且各行進液口相互錯開。
6. 如權利要求1至5任意一項所述的改進的多晶制絨RENA機，其特征在于，所述制絨 槽的底部設有用于固定所述均流管的固定機構。
7. 如權利要求6所述的改進的多晶制絨RENA機，其特征在于，所述固定機構為與所述 均流管外輪廓相卡合的U形夾。
【文檔編號】C23F1/08GK203938752SQ201420221775
【公開日】2014年11月12日 申請日期:2014年4月30日 優(yōu)先權日:2014年4月30日
【發(fā)明者】楊斌, 薛小興, 黃凱, 黃賢光 申請人:江蘇愛多光伏科技有限公司