一種掩模板及掩模組件的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種掩模板及掩模組件，涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，可以提高蒸鍍的均勻性，從而改善顯示效果。該掩模板包括第一子掩模板和第二子掩模板；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板均包括掩模板本體和設(shè)置在所述掩模板本體上的蒸鍍孔；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板上的所述蒸鍍孔尺寸相等且完全重疊；其中，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的所述掩模板本體的材料均為具有預(yù)定剛性的塑膠材料，且厚度為5～150μm。用于制備顯示器中的有機(jī)材料層。
【專利說明】一種掩模板及掩模組件

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種掩模板及掩模組件。

【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light Emitting D1de,簡稱OLED)是一種有機(jī)薄膜電致發(fā)光器件，其具有易形成柔性結(jié)構(gòu)、視角寬等優(yōu)點(diǎn)；因此，利用有機(jī)發(fā)光二極管的顯示技術(shù)已成為一種重要的顯示技術(shù)。
[0003]OLED的全彩顯示一般包括R(紅)G(綠)B (藍(lán))子像素獨(dú)立發(fā)光、或白光OLED結(jié)合彩色濾光膜等方式。其中，RGB子像素獨(dú)立發(fā)光是目前采用最多的彩色模式，其是利用子像素單元中的有機(jī)發(fā)光材料獨(dú)立發(fā)光。
[0004]目前，有機(jī)發(fā)光材料層一般都是通過對(duì)有機(jī)材料進(jìn)行真空蒸發(fā)鍍膜形成。其中，對(duì)于RGB子像素獨(dú)立發(fā)光的0LED，由于每個(gè)RGB子像素單元采用不同的有機(jī)發(fā)光材料，因而RGB子像素單元的有機(jī)發(fā)光層需要分別進(jìn)行蒸鍍，在此過程中一般采用金屬材料的掩模板來控制有機(jī)材料在基板上的鍍膜位置，然后依次在每個(gè)子像素單元中蒸鍍相應(yīng)的有機(jī)材料。
[0005]然而，由于金屬材料的掩模板有其厚度的限制，當(dāng)有機(jī)材料顆粒以較小的傾斜角度入射時(shí)，該部分有機(jī)材料顆粒會(huì)被蒸鍍孔壁遮蔽而無法到達(dá)基板，從而使得每個(gè)子像素單元的邊緣蒸鍍厚度會(huì)明顯低于子像素單元中間的蒸鍍厚度，此稱為“陰影效應(yīng)”。
[0006]在此基礎(chǔ)上，由于金屬材料的掩模板材料的特性，在制作上述掩模板的蒸鍍孔的過程中，只有在能量聚集到一定程度時(shí)，才能在其上形成蒸鍍孔，在此過程中，如圖1所示，通常會(huì)由于能量的聚集，使得蒸鍍孔1012的表面不是完全垂直的，而是會(huì)存在夾角的問題，這就進(jìn)一步加重“陰影效應(yīng)”的產(chǎn)生。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0007]本實(shí)用新型的實(shí)施例提供一種掩模板及掩模組件，可以提高蒸鍍的均勻性，從而改善顯示效果。
[0008]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0009]—方面，提供一種掩模板，包括:第一子掩模板和第二子掩模板；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板均包括掩模板本體和設(shè)置在所述掩模板本體上的蒸鍍孔；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板上的所述蒸鍍孔尺寸相等且完全重疊；
[0010]其中，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的所述掩模板本體的材料均為具有預(yù)定剛性的塑膠材料，且厚度為5?150 μ m。
[0011]優(yōu)選的，所述掩模板本體的材料包括聚酰亞胺、聚碳酸酯、聚醚酰亞胺中的至少一種。
[0012]優(yōu)選的，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的厚度相等。
[0013]進(jìn)一步優(yōu)選的，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的厚度為5?20μπι。
[0014]基于上述，優(yōu)選的，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板之間的間距為O?5 μ m0
[0015]另一方面，提供一種掩模組件，包括上述的掩模板、以及用于固定拉平所述掩模板的掩模框。
[0016]優(yōu)選的，所述掩?？虬ㄎ挥谙鄬?duì)兩側(cè)的夾緊部分，所述夾緊部分夾緊所述掩模板的相對(duì)兩側(cè)邊緣。
[0017]本實(shí)用新型實(shí)施提供了一種掩模板及掩模組件，該掩模板包括第一子掩模板和第二子掩模板；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板均包括掩模板本體和設(shè)置在所述掩模板本體上的蒸鍍孔；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板上的所述蒸鍍孔尺寸相等且完全重疊；其中，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的所述掩模板本體的材料均為具有預(yù)定剛性的塑膠材料，且厚度為5?150 μ m。
[0018]一方面，通過將掩模板本體的材料選定為具有一定剛性的塑膠材料，并合理設(shè)置掩模板本體的厚度，相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中金屬材料的掩模板，可以改善形成所述蒸鍍孔時(shí)，由于能量的聚集而產(chǎn)生的夾角以及掩模板厚度的問題而產(chǎn)生的“陰影效應(yīng)”；另一方面，通過設(shè)置兩個(gè)子掩模板并將兩個(gè)子掩模板的蒸鍍孔的尺寸設(shè)置為相等且完全重疊，可以使遠(yuǎn)離蒸鍍基板的一個(gè)子掩模板例如第一子掩模板來保證僅能使較大傾斜角(例如接近垂直角度)入射的蒸鍍材料進(jìn)入并通過第二子掩模板的蒸鍍孔，在此過程中由于避免了其余小角度傾斜角入射的蒸鍍材料對(duì)蒸鍍均勻性的影響，從而可以提高蒸鍍的均勻性，進(jìn)而改善了顯示效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0019]為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0020]圖1為現(xiàn)有技術(shù)提供的掩模板的蒸鍍孔的示意圖；
[0021]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖一；
[0022]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖二；
[0023]圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種掩模組件的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的制作掩模板的流程示意圖。
[0025]附圖標(biāo)記:
[0026]10-掩模板；101-第一子掩模板；102_第二子掩模板；1011_第一掩模板本體；1012-蒸鍍孔；1021-第二掩模板本體；201_掩?？虻膴A緊部分。

【具體實(shí)施方式】
[0027]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0028]本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種掩模板10，如圖2和圖3所示，該掩模板10包括:第一子掩模板101和第二子掩模板102 ;所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102均包括掩模板本體和設(shè)置在所述掩模板本體上的蒸鍍孔1012 ;所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102上的所述蒸鍍孔1012尺寸相等且完全重疊。
[0029]其中，所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102的所述掩模板本體的材料均為具有預(yù)定剛性的塑膠材料，且厚度為5?150 μ m。
[0030]這里，可將所述第一子掩模板101的掩模板本體稱為第一掩模板本體1011,將所述第二子掩模板102的掩模板本體稱為第二掩模板本體1021。
[0031]需要說明的是，第一，位于所述第一子掩模板101的所述蒸鍍孔1012和位于所述第二子掩模板102的所述蒸鍍孔1012 —一對(duì)應(yīng)。
[0032]第二，本實(shí)用新型實(shí)施例中，所述第一掩模板本體1011和所述第二掩模板本體1021的材料為，不宜在進(jìn)行有機(jī)材料蒸鍍時(shí)，使該掩模板10產(chǎn)生形變的塑膠材料，即:具有低熱膨脹系數(shù)且具有一定剛性的材料。
[0033]第三，不對(duì)所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102之間的間距(可以直接接觸，也可以具有一定的間距)進(jìn)行限定，以能使通過所述蒸鍍孔1012蒸鍍到基板上的有機(jī)材料層均勻?yàn)闇?zhǔn)。
[0034]第四，本實(shí)用新型所有實(shí)施例的附圖均示意性的繪示出與發(fā)明點(diǎn)有關(guān)的圖案層，對(duì)于與發(fā)明點(diǎn)無關(guān)的圖案層不進(jìn)行繪示或僅繪示出部分。
[0035]本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種掩模板10，包括:第一子掩模板101和第二子掩模板102 ;所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102均包括掩模板本體和設(shè)置在所述掩模板本體上的蒸鍍孔1012 ;所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102上的所述蒸鍍孔1012尺寸相等且完全重疊。其中，所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102的所述掩模板本體的材料均為具有預(yù)定剛性的塑膠材料，且厚度為5?150 μ m。
[0036]一方面，通過將掩模板本體的材料選定為具有一定剛性的塑膠材料，并合理設(shè)置掩模板本體的厚度，相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中金屬材料的掩模板，可以避免形成所述蒸鍍孔1012時(shí)，由于能量的聚集而產(chǎn)生的夾角的問題，從而改善上述的“陰影效應(yīng)”；另一方面，通過設(shè)置兩個(gè)子掩模板并將兩個(gè)子掩模板的蒸鍍孔1012的尺寸設(shè)置為相等且完全重疊，可以使遠(yuǎn)離蒸鍍基板的一個(gè)子掩模板例如第一子掩模板101來保證僅能使較大傾斜角(例如接近垂直角度)入射的蒸鍍材料進(jìn)入并通過第二子掩模板102的蒸鍍孔1012，在此過程中由于避免了其余小角度傾斜角入射的蒸鍍材料對(duì)蒸鍍均勻性的影響，從而可以提高蒸鍍的均勻性，進(jìn)而改善了顯示效果。
[0037]優(yōu)選的，所述第一掩模板本體1011和所述第二掩模板本體1021的材料包括聚酰亞胺、聚碳酸酯、聚醚酰亞胺中的至少一種。
[0038]其中，聚酰亞胺具有熱膨脹系數(shù)低(可在2X10_5?3X10_5/°C之間)、耐高溫(可達(dá)400°C )，并且其具有優(yōu)良的機(jī)械性能、高剛性等特性。
[0039]聚碳酸酯的具有熱膨脹系數(shù)低(3.8X10_5/°C )，135°C的熱變形溫度，高強(qiáng)度，高剛性等特性。
[0040]聚醚酰亞胺具有熱膨脹系數(shù)低(5.6X10_5/°C )，200°C的熱變形溫度，高強(qiáng)度，高剛性等特性。
[0041]由于蒸鍍過程中溫度一般不會(huì)超過60°C度，因此，上述材料均可滿足蒸鍍過程中，對(duì)所述掩模板10不宜變形的需求。
[0042]優(yōu)選的，如圖3所示，所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102的厚度相坐寸ο
[0043]這樣，可以通過相同的工藝條件，以相同的方法在所述第一掩模板本體1011和所述第二掩模板本體1021的相同位置形成所述蒸鍍孔1012，從而形成相同的兩塊第一子掩模板101和第二子掩模板102，使得制作過程更為簡化。
[0044]進(jìn)一步優(yōu)選的，所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102的厚度為5?20 μ m0
[0045]金屬材料的掩模板目前能做到70 μ m的厚度，而本實(shí)用新型實(shí)施例采用具有一定剛性的塑膠材料作為掩模板時(shí)，可以將其厚度設(shè)定為5?20μπι，這可以大大減小由于掩模板的厚度而導(dǎo)致的“陰影效應(yīng)”，從而可以進(jìn)一步提高蒸鍍的均勻性。
[0046]基于上述，由于塑膠材料的所述第一子掩模板101和第二子掩模板102的表面比較粗糙，所述第一子掩模板101和第二子掩模板102不容易無間隙的完全貼合在一起，因此，本實(shí)用新型實(shí)施例優(yōu)選為，所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102之間具有間距，且所述間距優(yōu)選為O?5 μ m。
[0047]這樣，既可以避免由于第一子掩模板101和第二子掩模板102的表面比較粗糙而不能完全貼合的問題，也可以避免由于該間距太大而使部分進(jìn)入第一子掩模板101的蒸鍍孔1012的蒸鍍材料無法到達(dá)第二子掩模板101，從而造成蒸鍍材料的浪費(fèi)。
[0048]本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了一種掩模組件，該掩模組件包括上述的掩模板10、以及用于固定拉平所述掩模板的掩?？?。
[0049]需要說明的是，第一，此處不對(duì)所述掩?？虻木唧w形狀進(jìn)行限定，以能將所述掩模板10的第一子掩模板101和第二子掩模板102固定并拉平，且在使用過程中不使位于所述第一子掩模板101上的所述蒸鍍孔1012和位于所述第二子掩模板102上的所述蒸鍍孔1012發(fā)生相對(duì)移動(dòng)即可。
[0050]第二，當(dāng)所述掩模板10的第一子掩模板101和第二子掩模板102之間具有間距的情況下，可以通過所述掩?？虻奶囟ńY(jié)構(gòu)來使第一子掩模板101和第二子掩模板102之間具有間距，具體根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行設(shè)定。
[0051]本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種掩模組件，包括上述的掩模板10、以及用于固定拉平所述掩模板的掩?？?。一方面，通過將掩模板本體的材料選定為具有一定剛性的塑膠材料，并合理設(shè)置掩模板本體的厚度，相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中金屬材料的掩模板，可以避免形成所述蒸鍍孔1012時(shí)，由于能量的聚集而產(chǎn)生的夾角的問題，從而改善上述的“陰影效應(yīng)”；另一方面，通過設(shè)置兩個(gè)子掩模板并將兩個(gè)子掩模板的蒸鍍孔1012的尺寸設(shè)置為相等且完全重疊，可以使遠(yuǎn)離蒸鍍基板的一個(gè)子掩模板例如第一子掩模板101來保證僅能使較大傾斜角(例如接近垂直角度)入射的蒸鍍材料進(jìn)入并通過第二子掩模板102的蒸鍍孔1012，在此過程中由于避免了其余小角度傾斜角入射的蒸鍍材料對(duì)蒸鍍均勻性的影響，從而可以提高蒸鍍的均勻性，進(jìn)而改善了顯示效果。
[0052]可選的，如圖4所示，所述掩?？虬ㄎ挥谙鄬?duì)兩側(cè)的夾緊部分201，所述夾緊部分201夾緊所述掩模板10的相對(duì)兩側(cè)邊緣。
[0053]由于掩模板通常情況下均會(huì)被制作成矩形，因此，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，僅需要通過所述掩?？虻奈挥谙鄬?duì)兩側(cè)的夾緊部分201便可以拉平固定整個(gè)第一子掩模板101和第二子掩模板102，從而使得所述掩?？虻闹谱鳌⒁约把谀＝M件的組裝更為簡便。
[0054]本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了一種掩模板10的制作方法，如圖5所示，該方法包括如下步驟:
[0055]S10、將具有預(yù)定剛性的塑膠薄膜作為第一掩模板本體1011，拉平固定在掩?？蛏?。
[0056]所述具有預(yù)定剛性的塑膠薄膜可以為聚酰亞胺薄膜，或聚碳酸酯薄膜，或聚醚酰亞胺薄膜。
[0057]所述掩模框包括位于相對(duì)兩側(cè)的夾緊部分201，所述夾緊部分201通過夾緊所述第一掩模板本體1011的相對(duì)兩側(cè)邊緣來使所述第一掩模板本體1011拉平固定。
[0058]SI 1、在所述第一掩模板本體1011的預(yù)定區(qū)域形成蒸鍍孔1012。
[0059]S12、將具有預(yù)定剛性的塑膠薄膜作為第二掩模板本體1021，拉平固定在所述掩?？蛏?，并在與位于所述第一掩模板本體1011的蒸鍍孔1012相對(duì)應(yīng)的位置，在所述第二掩模板本體1021上形成所述蒸鍍孔1012。
[0060]其中，位于所述第一掩模板本體1011上的所述蒸鍍孔1012與位于所述第二掩模板本體1021上的所述蒸鍍孔1012完全重疊，且所述第一掩模板本體1011和所述第二掩模板本體1021的厚度為5?150 μ m。
[0061]所述第二掩模板本體1021也通過上述的掩模框的夾緊部分201來固定拉平。
[0062]需要說明的是，第一，不對(duì)在所述塑膠材料的掩模板本體上形成蒸鍍孔1012的方法進(jìn)行限定，以能快速且精確的形成所述蒸鍍孔1012為準(zhǔn)。
[0063]第二，此處不對(duì)所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102之間的間距(可以直接接觸，也可以具有一定的間距)進(jìn)行限定，以能使通過所述蒸鍍孔1012蒸鍍到基板上的有機(jī)材料層均勻?yàn)闇?zhǔn)。
[0064]本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種掩模板10的制作方法，包括:將具有預(yù)定剛性的塑膠薄膜作為第一掩模板本體1011，拉平固定在掩?？蛏?；在所述第一掩模板本體1011的預(yù)定區(qū)域形成蒸鍍孔1012 ;將所述具有預(yù)定剛性的塑膠薄膜作為第二掩模板本體1021，拉平固定在所述掩?？蛏?，并在與位于所述第一掩模板本體1011的蒸鍍孔1012相對(duì)應(yīng)的位置，在所述第二掩模板本體1021上形成所述蒸鍍孔1012 ;其中，位于所述第一掩模板本體1011上的所述蒸鍍孔1012與位于所述第二掩模板本體1021上的所述蒸鍍孔1012完全重疊，且所述第一掩模板本體1011和所述第二掩模板本體1021的厚度為5?150 μ m。
[0065]—方面，通過將第一掩模板本體1011和第二掩模板本體1021的材料選定為具有一定剛性的塑膠材料，并合理設(shè)置第一掩模板本體1011和第二掩模板本體1021的厚度,相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中金屬材料的掩模板，可以避免形成所述蒸鍍孔1012時(shí)，由于能量的聚集而產(chǎn)生的夾角的問題，從而改善上述的“陰影效應(yīng)”;另一方面，通過形成兩個(gè)子掩模板并將兩個(gè)子掩模板的蒸鍍孔1012的尺寸設(shè)定為相等且完全重疊，可以使遠(yuǎn)離蒸鍍基板的一個(gè)子掩模板例如第一子掩模板101來保證僅能使較大傾斜角(例如接近垂直角度)入射的蒸鍍材料進(jìn)入并通過第二子掩模板102的蒸鍍孔1012，在此過程中由于避免了其余小角度傾斜角入射的蒸鍍材料對(duì)蒸鍍均勻性的影響，從而可以提高蒸鍍的均勻性，進(jìn)而改善了顯示效果。
[0066]基于上述，考慮到激光打孔具有速度快、效率聞、精確度聞等特定，因而，本實(shí)用新型實(shí)施例中，優(yōu)選為，通過激光工藝，在所述第一掩模板本體1011的預(yù)定區(qū)域形成蒸鍍孔1012 ;通過激光工藝，在所述第二掩模板本體1021上形成所述蒸鍍孔1012。
[0067]基于上述的描述，本實(shí)用新型實(shí)施例通過一具體的實(shí)施例來描述通過上述的掩模板10制備OLED顯示器的有機(jī)發(fā)光材料的過程，具體包括:
[0068]S101、使所述掩模板10的蒸鍍孔1012和OLED顯示器的其中一種同色子像素單元例如紅色子像素單元對(duì)位好，并進(jìn)行有機(jī)發(fā)光材料的蒸鍍。
[0069]其中，所述蒸鍍孔1012在掩模板10上的分布需與OLED顯示器同色子像素單元的排布相同。
[0070]S102、完成SlOl后，使所述掩模板10相對(duì)所述OLED顯示器向相鄰行移動(dòng)一個(gè)子像素單元的距離，然后進(jìn)行第二種同色子像素單元例如綠色子像素單元的有機(jī)發(fā)光材料的蒸鍍。
[0071]S103、完成S102后，使所述掩模板10相對(duì)所述OLED顯不器沿同一方向向相鄰行移動(dòng)一個(gè)子像素單元的距離，然后進(jìn)行第三種同色子像素單元例如藍(lán)色子像素單元的有機(jī)發(fā)光材料的蒸鍍。
[0072]當(dāng)然，上述步驟S101-S103只體現(xiàn)了制備各子像素單元的有機(jī)發(fā)光材料的過程，對(duì)于有源矩陣型OLED顯示器來說，在步驟SlOl之前還需形成薄膜晶體管，陽極，在S103之后還需形成陰極等，在此不再進(jìn)行贅述。
[0073]以上所述，僅為本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種掩模板,其特征在于,包括:第一子掩模板和第二子掩模板； 所述第一子掩模板和所述第二子掩模板均包括掩模板本體和設(shè)置在所述掩模板本體上的蒸鍍孔；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板上的所述蒸鍍孔尺寸相等且完全重置; 其中，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的所述掩模板本體的材料均為具有預(yù)定剛性的塑膠材料，且厚度為5?150 μ m。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述掩模板本體的材料包括聚酰亞胺、聚碳酸酯、聚醚酰亞胺中的至少一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的厚度相等。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的厚度為5?20 μ m。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的掩模板，其特征在于，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板之間的間距為O?5 μ m。
6.—種掩模組件,其特征在于,包括權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的掩模板、以及用于固定拉平所述掩模板的掩?？?。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模組件，其特征在于，所述掩?？虬ㄎ挥谙鄬?duì)兩側(cè)的夾緊部分，所述夾緊部分夾緊所述掩模板的相對(duì)兩側(cè)邊緣。
【文檔編號(hào)】C23C14/24GK203834005SQ201420232300
【公開日】2014年9月17日 申請(qǐng)日期:2014年5月7日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月7日
【發(fā)明者】謝明哲, 謝春燕, 劉陸 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司