一種漿料傳送裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種漿料傳送裝置，包括本體和輸出件，本體具有施放端，該本體可受帶動而于一研磨平面上方原地偏擺；輸出件設(shè)有通道與復數(shù)連通該通道的噴孔，通道沿中心軸延伸，噴孔沿排列于輸出件，且各噴孔朝向研磨平面，該輸出件樞設(shè)于施放端，使?jié){料流動于通道，且自各該噴孔流向該研磨平面，由此，其結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，可于研磨過程中均勻地分布漿料，可適當?shù)乜刂茲{料的使用量、漿料的分布方向與范圍，而且便于清洗與維修。
【專利說明】一種漿料傳送裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及漿料傳送裝置，尤其涉及一種用于化學機械研磨的漿料傳送裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)在的半導體晶片都是以立體或是多層布線方式架構(gòu)出成千上萬個電晶體，因此利用化學機械研磨(CMP)處理半導體晶圓表面，進而讓晶圓表面平坦化，成為半導體晶圓制程的重要步驟。
[0003]目前的化學機械研磨設(shè)備主要是把大量的漿料直接注入至旋轉(zhuǎn)的研磨墊表面，漿料再隨著研磨墊的轉(zhuǎn)動進入晶圓與研磨墊之間，以達成研磨、清洗以及潤滑晶圓的作用，使晶圓表面被研磨出適當?shù)谋砻嫫焚|(zhì)狀態(tài)。
[0004]但是，由于上述以單一注入漿料于研磨墊的方式，容易讓大量的漿料散布在無法被研磨的范圍，漿料的分布狀態(tài)非常不均勻，因此使?jié){料的使用過于浪費，增加成本與環(huán)保問題，同時也無法提升半導體晶圓的研磨效果。
實用新型內(nèi)容
[0005]本實用新型的目的提供一種漿料傳送裝置，其可于研磨過程中均勻地分布漿料，可適當?shù)乜刂茲{料的使用量、漿料的分布方向與范圍，而且便于清洗與維修。
[0006]根據(jù)本實用新型的一個方面，提供一種漿料傳送裝置，包括本體和輸出件，本體具有施放端，該本體可受帶動而于一研磨平面上方原地偏擺；輸出件設(shè)有通道與復數(shù)連通該通道的噴孔，通道沿中心軸延伸，噴孔沿排列于輸出件，且各噴孔朝向研磨平面，該輸出件樞設(shè)于施放端，使?jié){料流動于通道，且自各該噴孔流向該研磨平面。
[0007]在一些實施方式中:輸出件為管體，噴孔呈直線排列于輸出件的管壁。
[0008]在一些實施方式中:施放端具有頂部，該頂部具有第一邊，該第一邊凹設(shè)有凹陷部，該頂部下方形成出兩相互間隔的側(cè)壁，輸出件樞設(shè)于兩側(cè)壁之間。
[0009]在一些實施方式中:本體還包括有定位端，施放端與定位端之間設(shè)有身部，該身部底面設(shè)有復數(shù)朝向研磨平面的噴嘴。
[0010]在一些實施方式中:輸出件可拆卸地樞設(shè)于施放端。
[0011]本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，其可于研磨過程中均勻地分布漿料，可適當?shù)乜刂茲{料的使用量、漿料的分布方向與范圍，而且便于清洗與維修。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1是本實用新型一種漿料傳送裝置的俯視圖；
[0013]圖2是本實用新型一種漿料傳送裝置的立體圖；
[0014]圖3是本實用新型一種漿料傳送裝置的施放端結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖4是本實用新型一種漿料傳送裝置的輸出件結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]圖5是本發(fā)明一種漿料傳送裝置的應(yīng)用于化學機械研磨設(shè)備的俯視圖。

【具體實施方式】
[0017]下面結(jié)合【專利附圖】

【附圖說明】，對本實用新型作進一步詳細說明。
[0018]如圖1-5所示，一種漿料傳送裝置，包括本體10與輸出件60，本體10具有施放端20與定位端30,施放端20與定位端30之間具有身部40,本體10通過定位端30設(shè)于研磨機臺(圖未示)，使本體10可受帶動而于研磨平面50上方原地偏擺。施放端20具有頂部22，頂部22具有第一邊24，第一邊24凹設(shè)有凹陷部26，使頂部22下方形成出兩相互間隔的側(cè)壁28。身部40底面另設(shè)有復數(shù)噴嘴42，而且其中噴嘴42位于凹陷部26。本體10內(nèi)部可導通用以洗滌、清潔半導體晶圓與研磨墊的清洗液，使清洗液經(jīng)由各噴嘴42朝研磨平面50噴灑。
[0019]輸出件60為管體，輸出件60內(nèi)部具有通道62，通道62沿中心軸63延伸于輸出件60，輸出件60設(shè)有復數(shù)自外周面連通于通道62的噴孔64，噴孔64沿著預定路徑延伸于輸出件60的管壁，噴孔64沿平行于輸出件60的中心軸63直線排列于管壁66，而且各噴孔64朝向研磨平面50。需要說明的是，噴孔64也可依非直線方式，例如曲線狀排列于管壁66。輸出件60兩端樞設(shè)于施放端20的兩側(cè)壁28,使輸出件60形成橫設(shè)于施放端20的頂部22下方，同時鄰近且平行于第一邊24。輸出件60的通道62連通至本體10內(nèi)部導引的漿料，通道62用以供漿料流動，且自各噴孔64流向研磨平面50。
[0020]由于本體10可偏轉(zhuǎn)地設(shè)于研磨機臺，當本體10偏轉(zhuǎn)且施放端20位于研磨平面50上方，由于噴孔64與傳統(tǒng)衆(zhòng)料輸出管體之間存在尺寸上的差異，噴孔64的孔徑尺寸小于傳統(tǒng)漿料輸出管體的孔徑，復數(shù)噴孔64所流出的漿料即可呈線狀朝研磨平面50方向噴灑，再透過旋轉(zhuǎn)的研磨平面50使?jié){料均勻涂布在研磨平面50，不會如習用化學機械研磨設(shè)備將大量漿料噴在研磨平面般地浪費。
[0021]此外，由于輸出件60樞設(shè)于施放端20，輸出件60可以依據(jù)使用需要而調(diào)整角度，甚至是拆卸于施放端20，讓噴孔64能夠隨著輸出件60相對于施放端20的位置調(diào)整涂布方向與區(qū)域，增加化學機械研磨制程的適用范圍，以及便于維修的增進功效。
[0022]綜上所述，本新型結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，其可于研磨過程中均勻地分布漿料，可適當?shù)乜刂茲{料的使用量、漿料的分布方向與范圍，而且便于清洗與維修。
[0023]以上所述僅是本實用新型的一種實施方式，應(yīng)當指出，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出若干相似的變形和改進，這些也應(yīng)視為本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種漿料傳送裝置，其特征在于:包括本體和輸出件，所述本體具有施放端，該本體可受帶動而于一研磨平面上方原地偏擺；所述輸出件設(shè)有通道與復數(shù)連通該通道的噴孔，所述通道沿中心軸延伸，所述噴孔沿排列于所述輸出件，且各噴孔朝向所述研磨平面，該輸出件樞設(shè)于所述施放端，使?jié){料流動于所述通道，且自各該噴孔流向該研磨平面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種漿料傳送裝置，其特征在于:所述輸出件為管體，所述噴孔呈直線排列于所述輸出件的管壁。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種漿料傳送裝置，其特征在于:所述施放端具有頂部，該頂部具有第一邊，該第一邊凹設(shè)有凹陷部，該頂部下方形成出兩相互間隔的側(cè)壁，所述輸出件樞設(shè)于兩側(cè)壁之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種漿料傳送裝置，其特征在于:所述本體還包括有定位端，所述施放端與定位端之間設(shè)有身部，該身部底面設(shè)有復數(shù)朝向所述研磨平面的噴嘴。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種漿料傳送裝置，其特征在于:所述輸出件可拆卸地樞設(shè)于所述施放端。
【文檔編號】B24B57/02GK203936803SQ201420318513
【公開日】2014年11月12日 申請日期:2014年6月16日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月16日
【發(fā)明者】陳一馳, 廖景苒, 張逸翀, 曾國繁 申請人:陳一馳, 廖景苒, 張逸翀, 曾國繁