緩沖氧化腐蝕液制備裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種緩沖氧化腐蝕液制備裝置，其特征在于它包括配制罐（1）、表面活性劑儲(chǔ)罐（2）、氫氟酸儲(chǔ)罐（3）、氨氣儲(chǔ)罐（4）、水洗槽（5）、過(guò)濾裝置（6）以及成品罐（7）。所述配制罐（1）的頂部設(shè)置有三個(gè)進(jìn)料口，三個(gè)進(jìn)料口分別通過(guò)管道連接表面活性劑儲(chǔ)罐（2）、氫氟酸儲(chǔ)罐（3）以及水洗槽（5）的出料口，水洗槽（5）的進(jìn)料口與氨氣儲(chǔ)罐（4）的出料口連接，所述配制罐（1）底部的出料口通過(guò)出料管道連接成品罐（7），出料管道上設(shè)置過(guò)濾裝置（6）。本實(shí)用新型緩沖氧化腐蝕液制備裝置在配制罐中通過(guò)添加表面活性劑，制備出的緩沖氧化腐蝕液具有低表面張力，使得其能夠用于腐蝕硅基片表面小孔徑。
【專利說(shuō)明】緩沖氧化腐蝕液制備裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種緩沖氧化腐蝕液制備裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]緩沖氧化腐蝕液用于LED或者半導(dǎo)體的硅基片的清洗，傳統(tǒng)的緩沖氧化腐蝕液表面張力較大，達(dá)到80多達(dá)因，對(duì)于硅基片表面的較小孔徑腐蝕效果較差，因此尋求一種制備出的緩沖氧化腐蝕液具有低表面張力，使得其能夠用于腐蝕硅基片表面小孔徑的緩沖氧化腐蝕液制備裝置尤為重要。
[0003]本實(shí)用新型的目的在于克服上述不足，提供一種制備出的緩沖氧化腐蝕液具有低表面張力，使得其能夠用于腐蝕硅基片表面小孔徑的緩沖氧化腐蝕液制備裝置。
[0004]本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的:
[0005]一種緩沖氧化腐蝕液制備裝置，它包括配制罐、表面活性劑儲(chǔ)罐、氫氟酸儲(chǔ)罐、氨氣儲(chǔ)罐、水洗槽、過(guò)濾裝置以及成品罐。所述配制罐的頂部設(shè)置有三個(gè)進(jìn)料口，三個(gè)進(jìn)料口分別通過(guò)管道連接表面活性劑儲(chǔ)罐、氫氟酸儲(chǔ)罐以及水洗槽的出料口，水洗槽的進(jìn)料口與氨氣儲(chǔ)罐的出料口連接，所述配制罐底部的出料口通過(guò)出料管道連接成品罐，出料管道上設(shè)置過(guò)濾裝置。
[0006]作為一種優(yōu)選，所述配制罐的內(nèi)壁設(shè)置有ETFE涂層。
[0007]作為一種優(yōu)選，所述配制罐的內(nèi)部設(shè)置有PTFE內(nèi)盤(pán)管。
[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:
[0009]本實(shí)用新型緩沖氧化腐蝕液制備裝置在配制罐中通過(guò)添加表面活性劑，制備出的緩沖氧化腐蝕液具有低表面張力，使得其能夠用于腐蝕硅基片表面小孔徑。且緩沖氧化腐蝕液具有耐酸、流動(dòng)性好、去金屬離子、陰離子，避免其他的Β0Ε出現(xiàn)染色不勻等問(wèn)題的優(yōu)點(diǎn)。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0010]圖1為本實(shí)用新型緩沖氧化腐蝕液制備裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]其中:
[0012]配制罐1、表面活性劑儲(chǔ)罐2、氫氟酸儲(chǔ)罐3、氨氣儲(chǔ)罐4、水洗槽5、過(guò)濾裝置6、成品 iiS 7。

【具體實(shí)施方式】
[0013]參見(jiàn)圖1，本實(shí)用新型涉及的一種緩沖氧化腐蝕液制備裝置，它包括配制罐1、表面活性劑儲(chǔ)罐2、氫氟酸儲(chǔ)罐3、氨氣儲(chǔ)罐4、水洗槽5、過(guò)濾裝置6以及成品罐7。所述配制罐1的頂部設(shè)置有三個(gè)進(jìn)料口，三個(gè)進(jìn)料口分別通過(guò)管道連接表面活性劑儲(chǔ)罐2、氫氟酸儲(chǔ)罐3以及水洗槽5的出料口，水洗槽5的進(jìn)料口與氨氣儲(chǔ)罐4的出料口連接，所述配制罐1底部的出料口通過(guò)出料管道連接成品罐7，出料管道上設(shè)置過(guò)濾裝置6。所述配制罐1的頂部還通過(guò)管道連接有水封8。所述配制罐1的內(nèi)壁設(shè)置有ETFE (乙烯-四氟乙烯共聚物)涂層，所述配制罐1的內(nèi)部設(shè)置有PTFE (聚四氟乙烯)內(nèi)盤(pán)管。
[0014]工作原理:
[0015]氫氟酸、表面活性劑以及經(jīng)過(guò)水洗后的氨氣通入配制罐進(jìn)行配置，配置后的混合液經(jīng)過(guò)過(guò)濾裝置過(guò)濾通入成品罐收集。
【權(quán)利要求】
1.一種緩沖氧化腐蝕液制備裝置，其特征在于它包括配制罐(I)、表面活性劑儲(chǔ)罐(2)、氫氟酸儲(chǔ)罐(3)、氨氣儲(chǔ)罐(4)、水洗槽(5)、過(guò)濾裝置(6)以及成品罐(7);所述配制罐(I)的頂部設(shè)置有三個(gè)進(jìn)料口，三個(gè)進(jìn)料口分別通過(guò)管道連接表面活性劑儲(chǔ)罐(2)、氫氟酸儲(chǔ)罐(3)以及水洗槽(5)的出料口，水洗槽(5)的進(jìn)料口與氨氣儲(chǔ)罐(4)的出料口連接，所述配制罐(I)底部的出料口通過(guò)出料管道連接成品罐(7)，出料管道上設(shè)置過(guò)濾裝置(6)，所述配制罐(I)的頂部還通過(guò)管道連接有水封(8)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種緩沖氧化腐蝕液制備裝置，其特征在于所述配制罐(I)的內(nèi)壁設(shè)置有ETFE涂層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種緩沖氧化腐蝕液制備裝置，其特征在于所述配制罐(I)的內(nèi)部設(shè)置有PTFE內(nèi)盤(pán)管。
【文檔編號(hào)】C23F1/08GK204237867SQ201420620111
【公開(kāi)日】2015年4月1日 申請(qǐng)日期:2014年10月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月25日
【發(fā)明者】李操 申請(qǐng)人:江陰市化學(xué)試劑廠有限公司