抽出口對稱式真空室的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及抽出口對稱式真空室,所述真空室呈圓筒形，其特征在于所述真空室上設(shè)有至少4個抽出口，抽出口呈左右對稱分布，抽出口呈線性排列。本實用新型同現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點及效果：真空室的抽出口采用對稱是結(jié)構(gòu)設(shè)計并呈線性排列，抽真空作業(yè)時有效保證真空室內(nèi)的線性真空度與線性鍍膜的均勻度相一致，在快速鍍膜工作時，實現(xiàn)鍍膜的均勻性提供了可能。
【專利說明】抽出口對稱式真空室

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型具體涉及抽出口對稱式真空室，用于真空鍍膜設(shè)備的真空室，屬機械制造領(lǐng)域。

【背景技術(shù)】
[0002]真空鍍膜是需要在高真空度條件下進行的鍍膜，因此鍍膜的關(guān)鍵在與真空室設(shè)計，通常真空室只設(shè)計一個抽真空的抽出口，雖然這樣的設(shè)計結(jié)構(gòu)簡單，密封問題也不必擔心，但是僅從一個抽出口抽真空，會產(chǎn)生如下問題:真空室內(nèi)真空度分布不均，在快速鍍膜時影響鍍膜的均勻度，因而嚴重影響產(chǎn)品鍍膜質(zhì)量。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足，而提供一種結(jié)構(gòu)設(shè)計合理，抽真空狀態(tài)下真空效果均勻，有效解決快速鍍膜工作條件下鍍膜均勻度問題的抽出口對稱式真空室。
[0004]本實用新型解決上述問題所采用的技術(shù)方案是:該抽出口對稱式真空室，所述真空室呈圓筒形，真空室呈水平向設(shè)置，所述抽出口的延長線與真空室的延長線相垂直，所述真空室的側(cè)壁設(shè)有至少4個抽出口，抽出口呈左右對稱分布，抽出口至少分為上下兩排，單排的抽出口呈線性排列，各排間的抽出口呈平行位置。
[0005]進一步說，所述抽出口中，位于上方的抽出口口徑大于位于下方的抽出口口徑，
[0006]進一步說，所述下方的抽出口個數(shù)大于上方的抽出口個數(shù)。
[0007]本實用新型同現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點及效果:
[0008]1、真空室的抽出口采用對稱是結(jié)構(gòu)設(shè)計并呈線性排列，抽真空作業(yè)時有效保證真空室內(nèi)的線性真空度與線性鍍膜的均勻度相一致，在快速鍍膜工作時，實現(xiàn)鍍膜的均勻性提供了可能。
[0009]2、真空室的抽出口數(shù)量相比現(xiàn)有設(shè)計數(shù)量增多，同時抽真空時，真空度更高，鍍膜質(zhì)量更有保證。
[0010]3、本實用新型所述抽出口，其中位于上方的抽出口口徑大于位于下方的抽出口口徑，上方的抽出口口徑與位于下方的抽出口口徑不一致，其目是便于調(diào)節(jié)鍍膜真空室，上方的抽出口口徑大，抽真空效率高，下方的抽出口口徑小是為了便于對真空室真空度的調(diào)節(jié)。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1是本實用新型實施例的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖2是本實用新型實施例的正視結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實施方式】
[0013]下面結(jié)合附圖并通過實施例對本實用新型作進一步說明。
[0014]實施例1:
[0015]參見圖1至圖2，該抽出口對稱式真空室，所述真空室I呈圓筒形，真空室I呈水平向設(shè)置，所述真空室I的側(cè)壁設(shè)有至少4個抽出口 2，抽出口 2呈左右對稱分布，所述抽出口 2的延長線與真空室I的延長線相垂直。
[0016]抽出口 2的延長線方向與地面平行，抽出口 2呈左右對稱分布，抽出口 2至少分為上下兩排。
[0017]單排的抽出口 2呈線性排列，抽出口 2之間均勻分布。
[0018]各排間的抽出口 2呈平行位置，所述抽出口 2中，位于上方的抽出口 2’ 口徑大于位于下方的抽出口 2’’ 口徑，所述下方的抽出口 2’’個數(shù)大于上方的抽出口 2’個數(shù)。
[0019]如:抽出口總數(shù)為8個時，下方的抽出口 2”個數(shù)為3個，3個下方的抽出口 2”為一排，各下方的抽出口 2’’之間間距均勻呈線性分布，上方的抽出口 2’個數(shù)為I個。
[0020]使用過程，真空室I 一端連接卷繞機構(gòu)，另一端連接革E材機構(gòu)，卷繞機構(gòu)和革E材機構(gòu)是整套真空鍍膜系統(tǒng)中其中兩個單元。
[0021]此外，需要說明的是，本說明書中所描述的具體實施例，其各部分名稱等可以不同，凡依本實用新型專利構(gòu)思所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效或簡單變化，均包括于本實用新型專利的保護范圍內(nèi)。本實用新型所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員可以對所描述的具體實施例做各種各樣的修改或補充或采用類似的方式替代，只要不偏離本實用新型的結(jié)構(gòu)或者超越本權(quán)利要求書所定義的范圍，均應屬于本實用新型的保護范圍。
【權(quán)利要求】
1.抽出口對稱式真空室，所述真空室呈圓筒形，其特征在于:真空室呈水平向設(shè)置，所述抽出口的延長線與真空室的延長線相垂直，所述真空室的側(cè)壁設(shè)有至少4個抽出口，抽出口呈左右對稱分布，抽出口至少分為上下兩排，單排的抽出口呈線性排列，各排間的抽出口呈平行位置，所述抽出口中，位于上方的抽出口 口徑大于位于下方的抽出口 口徑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抽出口對稱式真空室，其特征在于:所述下方的抽出口個數(shù)大于上方的抽出口個數(shù)。
【文檔編號】C23C14/56GK204224701SQ201420649980
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年11月4日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月4日
【發(fā)明者】朱家駿 申請人:嘉興中科奧度新材料有限公司