本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種研磨墊修整裝置及研磨墊修整方法。

背景技術(shù)：

在晶圓制造過程中，隨著集成度的增加、半導(dǎo)體器件工藝尺寸的縮小，光刻技術(shù)對晶圓表面的平坦程度的要求相應(yīng)的越來越高，其中，化學(xué)機(jī)械研磨(CMP，Chemical Mechanical Polishing)是一種常見的用于使晶圓表面平坦化的工藝手段，其是化學(xué)腐蝕作用和機(jī)械去除作用相結(jié)合的加工技術(shù)。由于CMP能較為精確并均勻的將晶圓研磨至需要的厚度和平坦度，因此，在半導(dǎo)體器件制作過程中起到了越來越重要的作用。

如圖1和圖2所示，現(xiàn)有的CMP裝置包括多個(gè)研磨站100，每個(gè)研磨站100包括表面承載有研磨墊102的旋轉(zhuǎn)工作臺101、研磨臂103和位于研磨臂103一端的研磨頭104；在對晶圓110進(jìn)行研磨時(shí)，所述研磨頭104利用研磨臂103以抽真空的方式吸附晶圓110的背面，并帶動晶圓110旋轉(zhuǎn)，同時(shí)，所述研磨臂103可以對晶圓110施加壓力，使晶圓110的正面壓在研磨墊102上，以使晶圓110的正面與研磨墊102相互接觸以進(jìn)行研磨，其中，所述研磨墊102與研磨頭104順著同一方向旋轉(zhuǎn)，與此同時(shí)，所述研磨液106通過研磨液供應(yīng)管路噴灑在研磨墊102上，以使晶圓110的表面平坦化。

由于CMP制程是將晶圓110的表面與研磨墊102的研磨表面接觸，然后，通過晶圓110表面與研磨墊102的研磨表面之間的相對運(yùn)動將晶圓110表面平坦化。因此，所述研磨墊102的研磨表面的平整度對于晶圓110表面形態(tài)的控制是至關(guān)重要的。為了調(diào)整研磨墊102的研磨表面的平整度，目前，通常利用研磨墊修整器(Pad Conditioner)105，來調(diào)整研磨墊102的平整度，其中，所述研磨墊修整裝置105包括調(diào)整臂105-1以及連接于調(diào)整臂105-1一端的調(diào)整頭 105-2，所述調(diào)整頭105-2通過調(diào)整臂105-1壓抵研磨墊102的研磨表面并修整研磨墊102，以使研磨墊102的研磨表面的平整狀態(tài)符合工藝要求。

在現(xiàn)有的化學(xué)機(jī)械研磨過程中，晶圓發(fā)生比例最高的一種表面缺陷就是劃傷。發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，大多數(shù)情況下，研磨液結(jié)晶以及或反應(yīng)副產(chǎn)物是造成晶圓表面劃傷的最主要原因。一方面，化學(xué)機(jī)械研磨機(jī)臺連續(xù)研磨時(shí)間過長(通常約30～45個(gè)小時(shí))，研磨墊上的研磨液會發(fā)生結(jié)晶，具體的，所述研磨液結(jié)晶的微觀形態(tài)如圖3a和圖3b中虛線圈內(nèi)所示，繼而在后續(xù)晶圓的研磨過程中，研磨墊會因?yàn)槠渥陨頂y帶的研磨液結(jié)晶，而對后續(xù)的晶圓表面造成劃傷。另一方面，化學(xué)機(jī)械研磨過程中化學(xué)腐蝕作用產(chǎn)生的反應(yīng)副產(chǎn)物也容易導(dǎo)致晶圓表面劃傷。若不及時(shí)清除研磨墊上的研磨液結(jié)晶以及反應(yīng)副產(chǎn)物，這些研磨液結(jié)晶以及反應(yīng)副產(chǎn)物會導(dǎo)致晶圓表面產(chǎn)生劃傷，降低產(chǎn)品的良率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種研磨墊修整裝置及研磨墊修整方法，以及時(shí)清除研磨墊上的研磨液結(jié)晶以及反應(yīng)副產(chǎn)物，從而使研磨墊時(shí)刻保持最佳清潔狀態(tài)，進(jìn)而降低晶圓表面劃傷缺陷發(fā)生的比例，提高產(chǎn)品的良率。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種研磨墊修整裝置，包括驅(qū)動裝置、連桿以及用于修整研磨墊的調(diào)整頭，所述連桿的一端與所述驅(qū)動裝置連接，所述連桿的另一端與所述調(diào)整頭連接，其特征在于，所述研磨墊修整裝置還包括用于清潔所述研磨墊的清潔頭，所述清潔頭套設(shè)于所述連桿上并與所述驅(qū)動裝置連接，所述調(diào)整頭上設(shè)置有通孔，所述清潔頭能夠在所述驅(qū)動裝置驅(qū)動下沿所述連桿的軸向運(yùn)動，以穿過所述調(diào)整頭上的通孔清潔所述研磨墊。

可選的，在所述的研磨墊修整裝置中，所述清潔頭包括氣囊、底座以及設(shè)置在所述底座面向所述研磨墊的表面上的多個(gè)毛刷，所述氣囊和所述底座套設(shè)于所述連桿上，并且，所述氣囊的一端與所述連桿固定連接，所述氣囊的另一端與所述底座背向所述研磨墊的表面固定連接。

可選的，在所述的研磨墊修整裝置中，所述底座為一圓盤，所述多個(gè)毛刷陣列分布在所述底座面向所述研磨墊的表面上。

可選的，在所述的研磨墊修整裝置中，所述連桿包括相互連接的第一連桿 以及第二連桿，所述驅(qū)動裝置與所述第一連桿連接，所述調(diào)整頭與所述第二連桿連接，所述清潔頭套設(shè)于所述第二連桿上。

可選的，在所述的研磨墊修整裝置中，所述第二連桿為一異型軸。

可選的，在所述的研磨墊修整裝置中，所述研磨墊修整裝置還包括與所述連桿連接的橫臂，所述驅(qū)動裝置通過所述橫臂和所述連桿帶動所述調(diào)整頭與所述清潔頭轉(zhuǎn)動和擺動，以對所述研磨進(jìn)行修整或清潔。

可選的，在所述的研磨墊修整裝置中，所述調(diào)整器圓盤面向所述研磨墊的表面上設(shè)置有多個(gè)弧形溝槽。

可選的，在所述的研磨墊修整裝置中，所述多個(gè)毛刷中，每個(gè)毛刷包括多根刷毛。

此外，本發(fā)明還提供了一種如上所述研磨墊修整裝置之研磨墊修整方法，所述調(diào)整頭修整所述研磨墊后，所述清潔頭在所述驅(qū)動裝置驅(qū)動下沿所述連桿的軸向運(yùn)動，以穿過所述調(diào)整頭上的通孔清潔所述研磨墊。

可選的，在所述的研磨墊修整方法中，所述調(diào)整頭修整所述研磨墊的過程包括：

所述驅(qū)動裝置控制所述連桿帶動所述調(diào)整頭向下運(yùn)動，以使所述調(diào)整頭壓抵所述研磨墊表面并修整所述研磨墊；以及所述驅(qū)動裝置控制所述連桿帶動所述調(diào)整頭向上運(yùn)動以遠(yuǎn)離所述研磨墊。

可選的，在所述的研磨墊修整方法中，所述調(diào)整頭修整所述研磨墊時(shí)，所述驅(qū)動裝置還控制所述連桿帶動所述調(diào)整頭轉(zhuǎn)動和擺動。

可選的，在所述的研磨墊修整方法中，所述清潔頭清潔所述研磨墊時(shí)，所述驅(qū)動裝置還控制所述連桿帶動所述清潔頭轉(zhuǎn)動和擺動。

可選的，在所述的研磨墊修整方法中，所述調(diào)整頭修整所述研磨墊之前，所述驅(qū)動裝置還控制所述清潔頭沿所述連桿向下運(yùn)動，以使所述清潔頭接近所述研磨墊。

綜上所述，本發(fā)明提供的研磨墊修整裝置及研磨墊修整方法具有以下有益效果：

第一、本發(fā)明的研磨墊修整裝置，通過設(shè)置套設(shè)于連桿上并與驅(qū)動裝置連接的清潔頭，使得清潔頭能夠在驅(qū)動裝置驅(qū)動下沿連桿的軸向運(yùn)動，以穿過調(diào) 整頭上的通孔清潔研磨墊，進(jìn)而使得研磨墊上的研磨液結(jié)晶以及反應(yīng)副產(chǎn)物能夠得到及時(shí)清理，減少了晶圓表面劃傷缺陷的形成，提高了產(chǎn)品的良率；

第二、所述清潔頭采用氣囊、底座以及設(shè)置在底座面向研磨墊的表面上的多個(gè)毛刷，所述氣囊和底座均套設(shè)于連桿上，并且氣囊的兩端分別與連桿和底座背向研磨墊的表面固定連接，使得氣囊能夠帶動底座沿連桿的軸向運(yùn)動，結(jié)構(gòu)簡單，設(shè)置方便，使用成本低；

第三、本發(fā)明的研磨墊修整方法采用上述研磨墊修整裝置，并利用調(diào)整頭修整研磨墊后，所述清潔頭在驅(qū)動裝置驅(qū)動下沿連桿軸向運(yùn)動，以穿過調(diào)整頭上的通孔清潔研磨墊，使得研磨墊修整后，不但可以通過研磨墊修整裝置自帶的清潔頭對研磨墊進(jìn)行及時(shí)清潔，而且研磨墊修整裝置也無需同時(shí)做修整和清潔研磨墊的動作，提高了研磨墊的清潔效率。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有的研磨站的立體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1所示研磨站的正視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3a為現(xiàn)有的研磨液結(jié)晶的一微觀形態(tài)圖；

圖3b為現(xiàn)有的研磨液結(jié)晶的另一微觀形態(tài)圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例的研磨墊修整裝置的正視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為圖4所示研磨墊修整裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例的清潔頭的立體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為本發(fā)明實(shí)施例的調(diào)整頭的立體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8為本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的研磨墊修整裝置的正視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖9為本發(fā)明實(shí)施例的異型軸的立體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖10為圖7所示調(diào)整頭背向研磨墊一側(cè)的俯視圖；

圖11為本發(fā)明實(shí)施例的研磨墊修整裝置的清潔頭接觸研磨墊時(shí)的正視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖12為圖11所示研磨墊修整裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明提供的研磨墊修整裝置及研磨墊修整方法中，所述研磨墊修整裝置包括驅(qū)動裝置、連桿以及用于修整研磨墊的調(diào)整頭，所述連桿的一端與所述驅(qū)動裝置連接，所述連桿的另一端與所述調(diào)整頭連接，其特征在于，所述研磨墊修整裝置還包括用于清潔所述研磨墊的清潔頭，所述清潔頭套設(shè)于所述連桿上并與所述驅(qū)動裝置連接，所述調(diào)整頭上設(shè)置有通孔，所述清潔頭能夠在所述驅(qū)動裝置驅(qū)動下沿所述連桿的軸向運(yùn)動，以穿過所述調(diào)整頭上的通孔清潔所述研磨墊，從而使得研磨墊上的研磨液結(jié)晶以及反應(yīng)副產(chǎn)物能夠得到及時(shí)清理，進(jìn)而減少了晶圓表面劃傷缺陷的形成，提高了產(chǎn)品的良率。

此外，本發(fā)明的研磨墊修整方法采用上述研磨墊修整裝置，并利用調(diào)整頭修整研磨墊后，所述清潔頭在驅(qū)動裝置驅(qū)動下沿連桿向下運(yùn)動，以穿過調(diào)整頭上的通孔清潔研磨墊，使得研磨墊修整后，可以通過研磨墊修整裝置自帶的清潔頭對研磨墊進(jìn)行及時(shí)清潔，而且研磨墊修整裝置也無需同時(shí)做修整和清潔研磨墊的動作，提高了研磨墊的清潔效率。

以下結(jié)合附圖4～12對本發(fā)明提出的研磨墊修整裝置及研磨墊修整方法作進(jìn)一步詳細(xì)說明。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發(fā)明實(shí)施例的目的。

參閱圖4和圖5，本發(fā)明的研磨墊修整裝置200包括用于修整研磨墊的調(diào)整頭210、用于清理研磨墊的清潔頭220、驅(qū)動裝置(圖中未示出)以及連桿230。

其中，所述連桿230的一端與所述調(diào)整頭210連接，另一端與所述驅(qū)動裝置連接，同時(shí)，所述清潔頭220套設(shè)在所述連桿230上并與所述驅(qū)動裝置連接，且所述調(diào)整頭210上設(shè)置有通孔211。當(dāng)所述調(diào)整頭210修整所述研磨墊時(shí)，所述驅(qū)動裝置將控制所述清潔頭220遠(yuǎn)離所述研磨墊(圖中未示出)，而當(dāng)所述調(diào)整頭210完成對研磨墊的修整后，所述驅(qū)動裝置控制所述清潔頭220沿所述連桿230的軸向運(yùn)動，以穿過所述調(diào)整頭210上的通孔211清潔所述研磨墊。

參閱圖6，所述清潔頭220優(yōu)選包括底座221以及設(shè)置在所述底座221面向所述研磨墊的表面上的多個(gè)毛刷222。本實(shí)施例的底座221的中央位置還設(shè)置有軸孔223，通過所述軸孔223將所述底座221套設(shè)于所述連桿230上。

可選的，所述底座221為一圓盤。更選的，多個(gè)所述毛刷222以陣列方式垂直均勻分布在所述底座221面向所述研磨墊的表面上。此外，每個(gè)毛刷222 包括多根刷毛，所述刷毛采用尼龍材質(zhì)制成。另外，每個(gè)毛刷222采用固定件或通過自身的彈力固定在所述底座221上。具體地說，每個(gè)毛刷222與所述底座221連接的一端可套一個(gè)橡膠，同時(shí)所述底座221面向所述研磨墊的表面上相應(yīng)位置處設(shè)置一個(gè)開孔，進(jìn)而每個(gè)毛刷222套有橡膠的端部可設(shè)置于所述開孔內(nèi)，并借助所述橡膠的彈性變形使每個(gè)毛刷222緊緊固定在所述底座221上。

參閱圖7，相應(yīng)的，所述調(diào)整頭210上的通孔211的數(shù)量也為多個(gè)且與多個(gè)所述毛刷222的數(shù)量及分布方式相同。而為了更好地控制研磨液的分布，所述調(diào)整頭210的面向研磨墊的表面上還設(shè)置有多個(gè)弧形溝槽214。此外，為了防止研磨墊鏡面化，所述調(diào)整頭210的面向研磨墊的表面上設(shè)置有研磨顆粒，其可選擇性地壓抵所述研磨墊，以保證所述研磨墊表面的平整度，提高所述研磨墊的使用壽命。另外，為了增強(qiáng)研磨顆粒的防鏡面效果，所述研磨顆粒優(yōu)選為鉆石等硬度較高的材料。

參閱圖8，所述連桿230可以包括相互連接的第一連桿231以及第二連桿232，所述驅(qū)動裝置與所述第一連桿連接231，所述調(diào)整頭210與所述第二連桿連接232，所述清潔頭220套設(shè)于所述第二連桿232上，以沿所述第二連桿232的軸向運(yùn)動。較佳的，所述第二連桿232為一異型軸。當(dāng)然，所述第二連桿232包括但不局限于異型軸，由于此為本領(lǐng)域技術(shù)人員容易獲知的，本實(shí)施例不再詳細(xì)敘述。

在上述實(shí)施例的研磨墊修整裝置中，所述清潔頭220還包括套設(shè)于所述連桿230上的氣囊224，具體的，所述氣囊224的一端與所述連桿230固定連接，另一端與所述底座221背向所述研磨墊的表面固定連接，由此，可以通過所述氣囊224控制驅(qū)動所述底座221沿所述連桿230的軸向運(yùn)動，結(jié)構(gòu)簡單，設(shè)置方便，而且整個(gè)研磨墊修整裝置200的重量也得到了減輕，降低了使用成本。

可選的，所述氣囊224采用固化膠等方式固定在所述連桿230以及所述底座221背向所述研磨墊的表面上，但使用時(shí)必須保證所述氣囊224的密封性要好。在其他實(shí)施例中，所述驅(qū)動裝置也可以通過其他方式來驅(qū)動所述底座221沿所述連桿230的軸向運(yùn)動。

當(dāng)然，所述研磨墊修整裝置200還包括與所述氣囊224連接的氣體管路(圖中未示出)，以向所述氣囊224注入或排出氣體。工作時(shí)，通過向所述氣囊224 注入氣體，可以帶動所述底座221沿所述連桿230軸向運(yùn)動，進(jìn)而所述多個(gè)毛刷222可以穿過所述調(diào)整頭210的通孔211接觸所述研磨墊表面，進(jìn)一步對所述研磨墊進(jìn)行清潔。需要說明的是，所述底座221沿所述連桿230軸向運(yùn)動直至貼合所述調(diào)整頭210的背面時(shí)，還需保證多個(gè)所述毛刷222能完全伸出多個(gè)所述通孔211，否則多個(gè)所述毛刷222無法接觸到研磨墊表面。另外，每個(gè)毛刷222對研磨墊的刷力要相同，以提高多個(gè)所述毛刷222的使用壽命，降低成本。

繼續(xù)參閱圖8，所述研磨墊修整裝置200還包括與所述第一連桿231連接的橫臂240，所述驅(qū)動裝置通過所述橫臂240和所述連桿230帶動所述調(diào)整頭210與所述清潔頭220的底座221轉(zhuǎn)動和擺動，以對所述研磨墊進(jìn)行修整或清潔。本實(shí)施例的驅(qū)動裝置可以通過電機(jī)驅(qū)動所述橫臂240和所述連桿230帶動所述調(diào)整頭210與所述清潔頭220轉(zhuǎn)動和擺動。

具體地說，所述調(diào)整頭210接觸研磨墊表面后，所述驅(qū)動裝置通過所述連桿230帶動所述調(diào)整頭210與所述清潔頭220的底座221同步自轉(zhuǎn)，同時(shí)所述驅(qū)動裝置通過所述橫臂240帶動所述連桿230擺動，進(jìn)而帶動所述調(diào)整頭210與所述底座221同步擺動，以使所述調(diào)整頭210對研磨墊表面進(jìn)行修整。同理，多個(gè)所述毛刷222接觸研磨墊后，所述驅(qū)動裝置通過所述連桿230帶動所述調(diào)整頭210與所述底座221同步自轉(zhuǎn)，同時(shí)通過所述橫臂240帶動所述連桿230擺動，進(jìn)而帶動所述調(diào)整頭210與所述底座221同步擺動，以使多個(gè)所述毛刷222對研磨墊表面進(jìn)行清潔。

參閱圖9，當(dāng)所述第二連桿232為一異型軸時(shí)，所述異型軸優(yōu)選為一長方形塊體，所述長方形塊體的一端可以設(shè)置一螺紋孔。同時(shí)，參考圖10，所述調(diào)整頭210背向研磨墊的表面上設(shè)置有凹槽212，并且還設(shè)置有沉頭通孔213，使用時(shí)，可以將所述長方形塊體的一端放置在所述凹槽212內(nèi)，進(jìn)而所述調(diào)整頭210與所述長方形塊體利用所述沉頭通孔213和所述螺紋孔來進(jìn)行螺栓配合連接。當(dāng)然，所述調(diào)整頭210和所述長方形塊體也可以通過其他方式進(jìn)行連接，在此，本發(fā)明并不作具體限定。

參閱圖6，當(dāng)所述第二連桿232為一異型軸且為所述長方形塊體時(shí)，所述底座221上的軸孔223為一異型孔，所述底座221通過所述異型孔套設(shè)于所述長方形塊體上。

此外，參閱圖4和圖5，并結(jié)合參閱圖11和圖12，本發(fā)明的研磨墊修整方法采用如上實(shí)施例所述的研磨墊修整裝置200，并利用所述調(diào)整頭210修整研磨墊后，所述清潔頭220在驅(qū)動裝置驅(qū)動下沿所述連桿230的軸向運(yùn)動，以穿過所述調(diào)整頭210上的通孔211清潔所述研磨墊，使得研磨墊修整后，不但可以通過研磨墊修整裝置200自帶的清潔頭220對研磨墊進(jìn)行及時(shí)清潔，而且所述研磨墊修整裝置200也無需同時(shí)做修整和清潔研磨墊的動作，提高了研磨墊的清潔效率。

所述調(diào)整頭210修整所述研磨墊的過程優(yōu)選包括：所述驅(qū)動裝置控制所述連桿230帶動所述調(diào)整頭210向下運(yùn)動，以使所述調(diào)整頭210壓抵所述研磨墊表面并修整所述研磨墊；以及所述驅(qū)動裝置控制所述連230帶動所述調(diào)整頭210向上運(yùn)動以遠(yuǎn)離所述研磨墊，以便于所述清潔頭220接觸所述研磨墊表面并清潔研磨。

可選的，所述調(diào)整頭210修整所述研磨墊之前，所述驅(qū)動裝置控制所述清潔頭220遠(yuǎn)離所述研磨墊。

具體的，參閱圖8，并結(jié)合參閱圖6～7，所述清潔頭220的底座221在所述清潔頭220的氣囊224控制下處于所述連桿230上的某一位置，以確保所述清潔頭220的多個(gè)毛刷222遠(yuǎn)離所述研磨墊。此處，所述某一位置可以理解為兩種情況，一種情況是所述底座221在所述氣囊224的控制下，使多個(gè)所述毛刷222均未伸入至所述調(diào)整頭210的多個(gè)通孔211內(nèi)，另一種情況是所述底座221在所述氣囊224的控制下，使多個(gè)所述毛刷222均伸入至所述調(diào)整頭210的多個(gè)通孔211內(nèi)，但均未伸出多個(gè)所述通孔211。

更可選的，所述調(diào)整頭210修整所述研磨墊時(shí)，所述驅(qū)動裝置還控制所述連桿230帶動所述調(diào)整頭210轉(zhuǎn)動和擺動。

具體地說，所述調(diào)整頭210修整所述研磨墊時(shí)，所述驅(qū)動裝置通過所述連桿230帶動所述調(diào)整頭210與所述清潔頭220的底座221同步自轉(zhuǎn)，同時(shí)通過所述橫臂240帶動所述連桿230擺動，進(jìn)而帶動所述調(diào)整頭210與所述底座221同步擺動，以使所述調(diào)整頭210對研磨墊表面進(jìn)行修整。

較佳的，所述清潔頭220清潔所述研磨墊時(shí)，所述驅(qū)動裝置還控制所述連桿230帶動所述清潔頭210轉(zhuǎn)動和擺動。例如，所述清潔頭220清潔所述研磨 墊時(shí)，所述驅(qū)動裝置通過所述連桿230帶動所述調(diào)整頭210與所述清潔頭220的底座221同步自轉(zhuǎn)，同時(shí)通過所述橫臂240帶動所述連桿230擺動，進(jìn)而帶動所述調(diào)整頭210與所述底座221同步擺動，以使所述清潔頭220的多個(gè)所述毛刷222對研磨墊表面進(jìn)行清潔。

綜上所述，本發(fā)明的研磨墊修整裝置200，通過設(shè)置套設(shè)于連桿230上并與驅(qū)動裝置連接的清潔頭220，以及所述清潔頭220能夠在所述驅(qū)動裝置驅(qū)動下沿連桿230的軸向運(yùn)動，進(jìn)而穿過所述調(diào)整頭210上的通孔211清潔研磨墊，因此，使得研磨墊上的研磨液結(jié)晶以及反應(yīng)副產(chǎn)物能夠得到及時(shí)清理，減少了晶圓表面劃傷缺陷的形成，提高了產(chǎn)品的良率。

此外、所述清潔頭220采用氣囊224、底座221以及設(shè)置在底座221面向研磨墊的表面上的多個(gè)毛刷222，所述氣囊224和底座221均套設(shè)于連桿230上，并且氣囊224的兩端分別與連桿230和底座221背向研磨墊的表面固定連接，使得氣囊224能夠帶動底座221沿連桿230的軸向運(yùn)動，結(jié)構(gòu)簡單，設(shè)置方便，而且使用成本低。

另外、本發(fā)明的研磨墊修整方法，利用調(diào)整頭210修整研磨墊后，所述清潔頭220在所述驅(qū)動裝置驅(qū)動下沿連桿230軸向運(yùn)動，以穿過調(diào)整頭210上的通孔211清潔所述研磨墊，使得研磨墊修整后，不但可以通過研磨墊修整裝置200自帶的清潔頭220對研磨墊進(jìn)行及時(shí)清潔，而且研磨墊修整裝置200也無需同時(shí)做修整和清潔研磨墊的動作，提高了研磨墊的清潔效率。

上述描述僅是對本發(fā)明較佳實(shí)施例的描述，并非對本發(fā)明范圍的任何限定，本發(fā)明領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)上述揭示內(nèi)容做的任何變更、修飾，均屬于權(quán)利要求書的保護(hù)范圍。