1.一種加熱裝置，其特征在于，用于一鍍膜工藝，包括：
一加熱板，具有一加熱區(qū)域，該加熱區(qū)域適于支撐一基板且加熱該基板，其中該加熱區(qū)域的面積小于該基板的底面的面積。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱裝置，其中該加熱板的熱膨脹系數(shù)大于該基板的熱膨脹系數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱裝置，其中該加熱板具有一主體以及配置于該主體上的一突出部，且該突出部為該加熱區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的加熱裝置，其中該突出部的邊緣與該主體的邊緣相距3mm至6mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的加熱裝置，其中該主體的邊緣位于該基板的邊緣的內(nèi)側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的加熱裝置，其中該主體的邊緣與該基板的邊緣對齊。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的加熱裝置，其中該主體的邊緣位于該基板的邊緣的外側(cè)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱裝置，其中該加熱板的材料包括金屬或陶瓷。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱裝置，其中該基板包括玻璃基板、硅基板或金屬基板。