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遮罩片及蒸鍍遮罩及蒸鍍遮罩裝置及蒸鍍工藝的制作方法

文檔序號:11900381閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種遮罩片,其特征在于,所述遮罩片包括:

設(shè)置有多個(gè)鏤空區(qū)、遮蔽區(qū)、第一非有效蒸鍍區(qū)、第二非有效蒸鍍區(qū),所述鏤空區(qū)和遮蔽區(qū)依次交替設(shè)有至于所述第一非有效蒸鍍區(qū)和所述第二非有效蒸鍍區(qū)之間,單一所述鏤空區(qū)與單一所述遮蔽區(qū)面積相同,單一所述第一非有效蒸鍍區(qū)與單一所述第二非有效蒸鍍區(qū)面積相同,且單一所述鏤空區(qū)的面積為單一所述第一非有效蒸鍍區(qū)面積的兩倍。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的遮罩片,其特征在于,所述遮罩片的長度整數(shù)倍于單一所述鏤空區(qū)的長度。

3.一種蒸鍍遮罩,其特征在于,至少包括兩個(gè)如權(quán)利要求1-2所述的遮罩片,所述蒸鍍遮罩包括開口區(qū)、閉合區(qū),所述閉合區(qū)包括第一類閉合區(qū)和第二類閉合區(qū);其中,

每個(gè)所述遮罩片的鏤空區(qū)形成所述蒸鍍遮罩的開口區(qū);

每個(gè)所述遮罩片的遮蔽區(qū)形成所述蒸鍍遮罩的第一類閉合區(qū);

第一個(gè)所述蒸鍍遮罩片的第二非有效蒸鍍區(qū)與相鄰的第二個(gè)所述蒸鍍遮罩片的第一非有效蒸鍍區(qū)形成所述蒸鍍遮罩的第二類閉合區(qū)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍遮罩,其特征在于,所述蒸鍍遮罩片的開口區(qū)用以形成AMOLED屏幕的有源區(qū),所述第一類閉合區(qū)結(jié)合所述第二類閉合區(qū)用以形成所述AMOLED屏幕的非有效蒸鍍區(qū)。

5.一種蒸鍍遮罩裝置,其特征在于,包括兩個(gè)如權(quán)利要求3-4所述的蒸鍍遮罩,所述蒸鍍遮罩裝置包括設(shè)置于待蒸鍍玻璃基板上的第一層所述蒸鍍遮罩和設(shè)置于所述第一層所述蒸鍍遮罩上端的第二層所述蒸鍍遮罩,其中第二層所述蒸鍍遮罩的開口區(qū)匹配第一層所述蒸鍍遮罩的閉合區(qū),第二層所述蒸鍍遮罩的開口區(qū)覆蓋所述玻璃基板上的區(qū)域形成AMOLED屏幕的有源區(qū)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍遮罩裝置,其特征在于,第二層所述蒸鍍遮罩部分覆蓋第一層所述蒸鍍遮罩,第二層所述蒸鍍遮罩的閉合區(qū)覆蓋于所述第一層所述蒸鍍遮罩的開口區(qū)以形成所述AMOLED屏幕的第一非有效蒸鍍區(qū)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蒸鍍遮罩裝置,其特征在于,所述AMOLED屏幕有源區(qū)的長度整數(shù)倍于所述AMOLED屏幕非有效蒸鍍區(qū)的長度。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蒸鍍遮罩裝置,其特征在于,所述第二層所述蒸鍍遮罩未覆蓋第一層所述蒸鍍遮罩的區(qū)域形成所述AMOLED屏幕第二非有效蒸鍍區(qū)域。

9.一種蒸鍍工藝,其特征在于,基于如權(quán)利要求5-8所述的蒸鍍遮罩裝置,所述蒸鍍工藝包括:

提供一玻璃基板,所述玻璃基板上包括蒸鍍區(qū)和非蒸鍍區(qū);

將至少兩個(gè)所述蒸鍍遮罩進(jìn)行鄰接或部分疊置形成所述蒸鍍遮罩裝置,以使得所述蒸鍍遮罩裝置上的開口對應(yīng)于所述玻璃基板上的蒸鍍區(qū);以及

利用所述蒸鍍遮罩裝置對所述玻璃基板進(jìn)行蒸鍍工藝,以于所述玻璃基板上的所述蒸鍍區(qū)中形成蒸鍍薄膜。

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