本發(fā)明涉及一種類金屬片狀粉末，該類金屬片狀粉末與片狀金屬粉末外觀類似，在保證效果的前提下，有效降低成本。
背景技術(shù)：
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片狀金屬粉末，如片狀鋁粉、銅粉、純銀粉等，往往具有獨(dú)特的外觀效果，這些效果決定了片狀金屬粉末在對(duì)外觀裝飾有需求的領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用，如塑料、油漆、涂料、顏料等領(lǐng)域。但片狀金屬粉末因?yàn)槊芏容^大導(dǎo)致漂浮性不足，遮蓋效果一般，這意味著更多的添加量以及較高的成本；片狀金屬粉末的制備過(guò)程存在著較嚴(yán)重的環(huán)境污染，甚至可能引發(fā)事故(譬如鋁粉制備)。故尋求一種能夠在外觀上代替片狀金屬粉末且成本較低、環(huán)境友好的材料是一項(xiàng)必要且有發(fā)展前景的工作。
磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種材料，且具有易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，而上世紀(jì)70年代發(fā)展起來(lái)的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷的效果。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束提高等離子體密度以增加濺射率。由于磁控濺射中轟擊基材的電子能量較低，故往往可以得到表面平整度更佳的鍍膜。本發(fā)明中即通過(guò)磁控濺射技術(shù)在片狀粉體表面鍍膜制備替代片狀粉末尤其是片狀金屬粉末的粉體。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
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本發(fā)明涉及一種基于磁控濺射技術(shù)制備的類金屬片狀粉末。該類金屬片狀粉末可以有效代替片狀金屬粉末，并且具有遮蓋性好、成本低、環(huán)境友好等諸多優(yōu)點(diǎn)。
該發(fā)明的類金屬片狀粉末膜層平整，具有良好的色澤及鏡面效果，能夠在塑料、油漆、涂料、顏料等領(lǐng)域代替片狀金屬粉末；另外鍍膜片狀粉體金屬含量少，密度較小，漂浮性佳，故相對(duì)片狀金屬粉末具有較小的用量及較低的成本；相對(duì)于傳統(tǒng)片狀金屬粉末的制備方法(如干式球磨、濕式球磨、振動(dòng)球磨等)，通過(guò)磁控濺射技術(shù)制備的鍍膜片狀鍍膜粉末明顯更加環(huán)保，并且降低了發(fā)生生產(chǎn)事故的幾率；由于制備的片狀粉末材料表面具有可導(dǎo)電的膜層，故其亦具有一定的導(dǎo) 電性，可以作為導(dǎo)電填料使用。
具體制備流程為：
(1)選用15％-30％的乙醇溶液浸泡片狀粉末，待片狀粉體出現(xiàn)沉底現(xiàn)象后通超聲波10-30分鐘，之后抽濾除去乙醇溶液，用蒸餾水清洗三次；
(2)將經(jīng)過(guò)步驟(1)清洗的片狀粉末在120℃的條件下烘干3小時(shí)；
(3)將經(jīng)過(guò)步驟(2)烘干的片狀粉體投入磁控濺射設(shè)備，得到鍍有膜層的片狀粉體。
其中，步驟(1)所述的片狀粉末包括片狀云母粉、片狀氧化鋁粉、片狀珠光粉等。所述片狀粉體粒徑范圍為50目-600目。
步驟(3)所述的膜層種類包括單層膜，如Al、Cu、Ag、Cr、Ti、Zn、In、Sn、TiN、TiO2、Al2O3、AlN等，也可以是復(fù)合鍍層膜，譬如Ti-TiO2、Ti-TiN、Al-Al2O3、Al-Cu、Cr-Al、Cr-Cu、Cr-Ag等。
所述膜層厚度為20nm～80mm。
具體實(shí)施方式：
實(shí)施例1
選取60目的片狀云母粉，首先用20％乙醇溶液浸泡片狀云母粉，待片狀云母粉出現(xiàn)沉底現(xiàn)象后通超聲波10分鐘，之后抽濾去除乙醇溶液并用蒸餾水清洗三次，120℃下烘干3小時(shí)，然后將云母粉加入磁控濺射設(shè)備進(jìn)行鍍膜，靶材選用鋁靶，濺射氣體選用99.999％的高純氬氣，鍍膜完成后可得鍍鋁片狀云母粉，膜層厚度為1mm。
實(shí)施例2
選取550目的片狀云母粉，首先用15％乙醇溶液浸泡片狀云母粉，待片狀云母粉出現(xiàn)沉底現(xiàn)象后通超聲波25分鐘，之后抽濾去除乙醇溶液并用蒸餾水清洗三次，120℃下烘干3小時(shí)，然后將云母粉加入磁控濺射設(shè)備進(jìn)行鍍膜，靶材選用銀靶，濺射氣體選用99.999％的高純氬氣，鍍膜完成后可得鍍銀片狀云母粉，膜層厚度為50nm。
實(shí)施例3
選取350目的片狀氧化鋁粉，首先用25％乙醇溶液浸泡片狀氧化鋁粉，待片狀氧化鋁粉出現(xiàn)沉底現(xiàn)象后通超聲波15分鐘，之后抽濾去除乙醇溶液并用蒸餾 水清洗三次，120℃下烘干3小時(shí)，然后將片狀氧化鋁粉加入磁控濺射設(shè)備進(jìn)行鍍膜，靶材選用鈦靶，濺射氣體選用99.999％的高純氬氣，反應(yīng)氣體選用99.999％高純氧氣，鍍膜完成后可得鍍有二氧化鈦的片狀氧化鋁粉，膜層厚度為500nm。
實(shí)施例4
選取260目的珠光粉，首先用18％乙醇溶液浸泡珠光粉，待珠光粉出現(xiàn)沉底現(xiàn)象后通超聲波20分鐘，之后抽濾去除乙醇溶液并用蒸餾水清洗三次，120℃下烘干3小時(shí)，然后將珠光粉加入磁控濺射設(shè)備進(jìn)行鍍膜，靶材選用鈦靶，第一步濺射復(fù)合鍍層的內(nèi)層(結(jié)合層)，濺射氣體選用99.999％的高純氬氣，第二步濺射復(fù)合鍍層的外層(功能層)，濺射氣體為99.999％高純氬氣，反應(yīng)氣體為99.999％高純氮?dú)?，鍍膜完成后可得?fù)合鍍Ti(內(nèi))-TiN(外)珠光粉，膜層厚度為5mm。
實(shí)施例5
選取400目的片狀云母粉，首先用15％乙醇溶液浸泡片狀云母粉，待片狀云母粉出現(xiàn)沉底現(xiàn)象后通超聲波20分鐘，之后抽濾去除乙醇溶液并用蒸餾水清洗三次，120℃下烘干3小時(shí)，然后將云母粉加入磁控濺射設(shè)備進(jìn)行鍍膜，復(fù)合鍍層內(nèi)層(結(jié)合層)鍍膜選用鉻靶，濺射氣體為99.999％高純氬氣，復(fù)合鍍層外層(功能層)選用銅靶，濺射氣體為99.999％高純氬氣，鍍膜完成后可得復(fù)合鍍Cr(內(nèi))-Cu(外)片狀云母粉，膜層厚度為20mm。