本公開內(nèi)容涉及熱處理裝置用的輸送裝置以及熱處理裝置。

本申請基于2014年7月28日在日本申請的特愿2014－152858號主張優(yōu)先權(quán)，在此引用其內(nèi)容。

背景技術(shù)：

以往，為了對作為被處理物的金屬零件進(jìn)行淬火等的處理，使用了具備加熱室或冷卻室的熱處理裝置。例如，在專利文獻(xiàn)1中，公開了在中間輸送室的上方設(shè)置有多個加熱室、在中間輸送室的下方設(shè)置有冷卻室的熱處理裝置。在這樣的專利文獻(xiàn)1中公開的熱處理裝置中，為了在中間輸送室和加熱室之間進(jìn)行被處理品的交接(輸送)，使用了由壓力缸機(jī)構(gòu)構(gòu)成的推壓裝置。即，通過將被處理品載置在圓盤狀的托盤(被輸送體)上，利用推壓裝置推壓該托盤而在水平方向上將其推出，將被處理品輸送至前方的加熱室。

此外，在下述專利文獻(xiàn)2～4中，也公開了通過推桿裝置推壓并輸送被處理物的加熱處理裝置。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本國特開2012－13341號公報

專利文獻(xiàn)2：日本國特開2001－220659號公報

專利文獻(xiàn)3：國際公開第2012/063926號公報

專利文獻(xiàn)4：日本國特開2005－009702號公報

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的技術(shù)問題

然而，因為構(gòu)成推壓裝置的壓力缸機(jī)構(gòu)作為推壓端的桿的前端是在圓盤狀的托盤的外周面的一處以點(diǎn)(線)的方式接觸地推壓的，所以存在由于托盤的位置偏離而引起相對于托盤的推壓位置偏離的可能性。此外，若被載置在托盤上的被處理物的重心從托盤的中心偏離，則托盤不會被輸送至作為目標(biāo)的直線方向前方，存在被偏離地輸送，不能輸送至作為目標(biāo)的加熱室內(nèi)的規(guī)定位置的可能性。

本公開內(nèi)容鑒于上述問題而提出，目的在于提供一種能夠?qū)⑤d置了被處理物的被輸送體正確地輸送至作為目標(biāo)的直線方向前方的熱處理裝置用的輸送裝置和具備該輸送裝置的熱處理裝置。

用于解決上述技術(shù)問題的方案

本公開內(nèi)容的第一方案的輸送裝置是在直線方向上推壓并輸送被輸送體的熱處理裝置用的輸送裝置，具備壓力缸機(jī)構(gòu)，該壓力缸機(jī)構(gòu)具有推壓被輸送體的可進(jìn)退的桿，在壓力缸機(jī)構(gòu)的桿的前端部上，以與被輸送體的外周面上的圓周方向的不同部位抵接的方式配設(shè)抵接部件，具有引導(dǎo)抵接部件的導(dǎo)軌，在抵接部件上設(shè)置有在導(dǎo)軌上行進(jìn)的行進(jìn)輥。

發(fā)明效果

根據(jù)本公開內(nèi)容的熱處理裝置用的輸送裝置以及熱處理裝置，在推壓被輸送體的桿的前端部上，以與被輸送體的外周面上的圓周方向的不同部位抵接的方式配設(shè)有抵接部件。因此，因為成為推壓端的抵接部件接觸并推壓被輸送體的外周面上的圓周方向的不同部位，所以即使由于被輸送體的位置偏離而引起相對于被輸送體的推壓位置稍微偏離、或者載置在被輸送體上的被處理物的重心從被輸送體的中心偏離，也能夠?qū)⒈惠斔腕w正確地輸送至作為目標(biāo)的直線方向前方。

附圖說明

圖1是示出本公開內(nèi)容的熱處理裝置的一實(shí)施方式的概略的俯視圖。

圖2是圖1的A-A線剖視圖。

圖3是示出水平輸送裝置的概略的主視圖。

圖4A是示出一側(cè)的壓力缸機(jī)構(gòu)的抵接部件的概略的俯視圖。

圖4B是示出一側(cè)的壓力缸機(jī)構(gòu)的抵接部件的概略的主視圖。

圖5A是示出另一側(cè)的壓力缸機(jī)構(gòu)的抵接部件的概略的俯視圖。

圖5B是示出另一側(cè)的壓力缸機(jī)構(gòu)的抵接部件的概略的主視圖。

具體實(shí)施方式

以下，參照附圖對本公開內(nèi)容詳細(xì)地進(jìn)行說明。另外，在以下的附圖中，為使各部件成為能夠識別的大小，對各部件的比例尺進(jìn)行了適當(dāng)變更。

圖1是示出本公開內(nèi)容的熱處理裝置的一實(shí)施方式的概略的俯視圖，圖2是圖1的A-A線剖視圖。如這些圖所示，本實(shí)施方式的熱處理裝置S是用于對作為金屬零件的被處理物X進(jìn)行淬火處理的熱處理裝置，具備：中間輸送室1(輸送室)、加熱裝置2、冷卻裝置3、水平輸送裝置4(熱處理裝置用的輸送裝置)。

如圖2所示，中間輸送室1配置在加熱裝置2和冷卻裝置3之間，是進(jìn)行被處理物X相對于熱處理裝置S的進(jìn)出、并且用于在加熱裝置2和冷卻裝置3之間輸送被處理物X的腔室。被處理物X在被載置在圓盤狀的托盤T(被輸送體)上的狀態(tài)下被送入送出至熱處理裝置S，進(jìn)而被輸送至加熱裝置2或冷卻裝置3。托盤T具有規(guī)定的厚度，形成有貫通托盤的上下表面間的多個孔，在對載置在托盤T上的被處理物X進(jìn)行加熱或冷卻等的處理時，處理氣體或冷媒等的處理介質(zhì)能夠通過多個孔而與被處理物X直接接觸。

中間輸送室1具有中央室1a和加熱室用升降室1b。

如圖1所示，中央室1a是利用本實(shí)施方式的熱處理裝置S處理的全部的被處理物X通過的腔室，在其側(cè)壁上設(shè)置有作為朝向熱處理裝置S的出入口的送入門1c、送出門1d。如所述的那樣，被處理物X在被載置在托盤T上的狀態(tài)下通過送入門1c被送入至中央室1a，處理后，在被載置在托盤T上的狀態(tài)下通過運(yùn)出門1d被從中央室1a送出。

如圖2所示，在中央室1a的側(cè)壁上設(shè)置有加熱室用升降室1b以及水平輸送裝置4。水平輸送裝置4是本公開內(nèi)容中的輸送裝置的一實(shí)施方式，推壓載置了被處理物X的托盤T并在直線方向上移送該托盤T，從中央室1a輸送至加熱室用升降室1b。此外，將載置了加熱處理后的被處理物X的托盤T從加熱室用升降室1b輸送至中央室1a。

如圖2、圖3所示，該水平輸送裝置4具有：兩種壓力缸機(jī)構(gòu)6a、6b，具有推壓托盤T的可進(jìn)退的推桿5(桿)；一對抵接部件7，配設(shè)在推桿5的前端部；導(dǎo)軌8，引導(dǎo)這些一對抵接部件7。壓力缸機(jī)構(gòu)6a、壓力缸機(jī)構(gòu)6b具有在推進(jìn)壓力缸(未圖示)內(nèi)可進(jìn)退地保持推桿5的公知的構(gòu)成。

一側(cè)的壓力缸機(jī)構(gòu)6a從中央室1a朝向加熱室用升降室1b直線地輸送托盤T，另一側(cè)的壓力缸機(jī)構(gòu)6b從加熱室用升降室1b朝向中央室1a直線地輸送托盤T。即，這些壓力缸機(jī)構(gòu)6a、壓力缸機(jī)構(gòu)6b被相互正對地配置。壓力缸機(jī)構(gòu)6a的推桿5在從中央室1a內(nèi)的規(guī)定位置至加熱室用升降室1b內(nèi)的規(guī)定位置之間進(jìn)退。此外，壓力缸機(jī)構(gòu)6b的推桿5在從加熱室用升降室1b內(nèi)的規(guī)定位置至中央室1a內(nèi)的規(guī)定位置之間進(jìn)退。另外，如圖1所示，因為本實(shí)施方式中具有三個加熱室用升降室1b，所以水平輸送裝置4具有三組由壓力缸機(jī)構(gòu)6a、壓力缸機(jī)構(gòu)6b構(gòu)成的組。

如圖4A、4B所示，配置在壓力缸機(jī)構(gòu)6a的推桿5的前端部的一對抵接部件7通過焊接或螺紋固定等被安裝、固定在推桿5的前端部所連結(jié)的連結(jié)棒9的兩端部上。如圖4B所示，這些抵接部件7是形成為大致L字狀的板材，在其下端部的內(nèi)側(cè)沿著行進(jìn)方向具有多個行進(jìn)輥10。這些行進(jìn)輥10通過在導(dǎo)軌8上行進(jìn)而被該導(dǎo)軌8引導(dǎo)。即，具有行進(jìn)輥10的抵接部件7被導(dǎo)軌8引導(dǎo)而進(jìn)退。

在本實(shí)施方式中，抵接部件7其前端部的下端側(cè)成為與托盤T抵接的抵接部位。在本實(shí)施方式中，在抵接部件7的前端部設(shè)置有調(diào)整抵接部件7的長度的調(diào)整機(jī)構(gòu)11，使得這樣的抵接部位的抵接面的位置在一對抵接部件7間前后地偏離等情況下，各抵接面的位置能夠?qū)R。

調(diào)整機(jī)構(gòu)11具有：板狀的石材11a，通過螺紋固定而可拆裝地安裝在抵接部件7的前端部的下端側(cè)；薄板11b(墊片)，為了長度調(diào)整而根據(jù)需要被夾裝在抵接部件7與石材11a之間。通過這樣的構(gòu)成，被安裝在抵接部件7的前端部的下端側(cè)的石材11a成為與托盤T抵接的抵接部位。因為剛剛出了加熱裝置2后的托盤T變?yōu)楦邷兀詾榱耸古c托盤T直接抵接的部位不受溫度的影響，在抵接部位使用由與金屬相比熱膨脹系數(shù)低的礦石構(gòu)成的石材11a。

這樣的石材11a，其厚度存在不均勻，此外，隨著使用的進(jìn)行會產(chǎn)生磨耗、厚度變化。因此，在一對抵接部件7間，存在抵接部位的抵接面上產(chǎn)生前后方向的位置偏離的可能性。因此，在產(chǎn)生了這樣的位置偏離的情況下，通過在一側(cè)或者兩側(cè)的抵接部件7上夾裝薄板11b，能夠消除位置偏離。即，本實(shí)施方式的調(diào)整機(jī)構(gòu)11通過夾裝薄板11b而調(diào)整抵接部件7的長度，能夠消除在一對抵接部件7間產(chǎn)生的抵接部位的抵接面的位置偏離。

如圖5A、5B所示，被配置在另一側(cè)的壓力缸機(jī)構(gòu)6b的推桿5的前端部的一對抵接部件7也通過焊接或螺紋固定等被安裝、固定在推桿5的前端部所連結(jié)的連結(jié)棒9的兩端部上。但是，如圖5B所示，壓力缸機(jī)構(gòu)6b側(cè)的抵接部件7是被形成為大致矩形板狀的板材，在其下端部的內(nèi)側(cè)沿著行進(jìn)方向具有多個行進(jìn)輥10。這些行進(jìn)輥10也通過在導(dǎo)軌8上行進(jìn)而被該導(dǎo)軌8引導(dǎo)。

這些壓力缸機(jī)構(gòu)6b側(cè)的抵接部件7其前端部的下端側(cè)也成為與托盤T抵接的抵接部位。而且，這些抵接部件7也通過在抵接部件7與石材11a之間夾裝薄板11b而調(diào)整抵接部件7的長度，從而設(shè)置有用于消除在一對抵接部件7間的抵接部位的抵接面的位置偏離的調(diào)整機(jī)構(gòu)11。

此處，如圖4A所示，一對抵接部件7被安裝在水平方向上配置的連結(jié)棒9的兩端部上，從而在水平方向上配置為隔開與連結(jié)棒9的長度對應(yīng)的規(guī)定間隔。由此，從圖1可知，一對抵接部件7抵接并推壓托盤T的外周面上的圓周方向的不同的兩個部位。

由連結(jié)棒9的長度決定的一對抵接部件7間的距離設(shè)定為使得這些抵接部件7的石材11a在托盤T的外周面的圓周方向上抵接于充分地隔開的兩個部位。例如，抵接部件7間的距離被設(shè)定為托盤T半徑的0.5倍至1.3倍左右。通過將抵接部件7間的距離設(shè)定為這樣的范圍，在如后述那樣地利用壓力缸機(jī)構(gòu)6a(壓力缸機(jī)構(gòu)6b)推壓托盤T時，即使由于托盤T的位置偏離而引起推桿5相對于托盤T的推壓位置從托盤T的中心稍微偏離、或者被載置在托盤T上的被處理物X的重心從托盤T的中心偏離，也能夠?qū)⑼斜PT正確地、即筆直地輸送至作為目標(biāo)的前方。

例如，托盤T被送入中央室1a時的初始位置從設(shè)定位置偏離，因此在抵接部件7與該托盤T最初抵接時，存在由于托盤T的位置偏離而只有一側(cè)的抵接部件7與托盤T抵接的情況。但是，之后使推桿5前進(jìn)，通過一側(cè)的抵接部件7的推壓而使托盤T的位置被修正。進(jìn)而，緊接著也通過另一側(cè)的抵接部件7推壓托盤T而使托盤T被返回正常位置，通過一對抵接部件7穩(wěn)定并正確地輸送。即，在直線方向上被筆直地輸送。

如圖1～圖3所示，導(dǎo)軌8與各壓力缸機(jī)構(gòu)6a、壓力缸機(jī)構(gòu)6b分別對應(yīng)，沿著各抵接部件7的移動方向(進(jìn)退方向)配置。如圖1所示，在中央室1a的中央部中，各壓力缸機(jī)構(gòu)6a、壓力缸機(jī)構(gòu)6b的抵接部件7的移動方向重合。因此，為了不相互干涉，導(dǎo)軌8在其長度方向上隔著多個間隙8a(參照圖3)而斷續(xù)地配置。

若像這樣地在導(dǎo)軌8上形成有間隙8a，則圖4A、4B以及圖5A、5B示出的抵接部件7的行進(jìn)輥10在導(dǎo)軌8上行進(jìn)時，存在掉落而嵌入該間隙8a的可能性。因此，在本實(shí)施方式中，如圖4A、4B所示，在壓力缸機(jī)構(gòu)6a側(cè)沿著抵接部件7的移動方向(行進(jìn)方向)設(shè)置三個行進(jìn)輥10，在如圖5A、5B所示的壓力缸機(jī)構(gòu)6b側(cè)沿著抵接部件7的移動方向(行進(jìn)方向)設(shè)置兩個行進(jìn)輥10。

而且，以如下的方式配置了各行進(jìn)輥10：使位于這些多個行進(jìn)輥10的最外部的兩個行進(jìn)輥10間的距離比在行進(jìn)輥10直接行進(jìn)的導(dǎo)軌8的間隙8a中長度最長的間隙8a的長度長。由此，如圖3中用雙點(diǎn)劃線所示，與抵接部件7連結(jié)的多個行進(jìn)輥10在通過間隙8a上時，因為至少一個行進(jìn)輥10位于導(dǎo)軌8上，所以所有的行進(jìn)輥10不會掉落而嵌入間隙8a中。因此，抵接部件7通過該行進(jìn)輥10在導(dǎo)軌8上穩(wěn)定地行進(jìn)。

此外，像這樣地在抵接部件7上設(shè)置行進(jìn)輥10，在使推桿5進(jìn)退時，因為行進(jìn)輥10在導(dǎo)軌8上行進(jìn)，所以能夠防止被推進(jìn)壓力缸保持為懸臂狀的推桿5的前端側(cè)(抵接部件7側(cè))由于自重而下垂。即，通過利用行進(jìn)輥10以及導(dǎo)軌8支承抵接部件7，能夠防止抵接部件7的下垂。

如圖2所示，加熱室用升降室1b是容納從中間輸送室1送入至加熱室2a的被處理物X、或者從加熱室2a送出至中間輸送室1的被處理物X的腔室。在該加熱室用升降室1b中，可容納地形成有能夠開閉加熱室2a的底板部2a1，底板部2a1連同載置在托盤T上的被處理物X被容納。該底板部2a1通過設(shè)置在每個加熱室用升降室1b的加熱室用升降機(jī)構(gòu)12進(jìn)行升降。此外，在各加熱室用升降室1b的側(cè)壁上安裝有水平輸送裝置4的另一側(cè)的壓力缸機(jī)構(gòu)6b。

在這樣的中間輸送室1中，在加熱室用升降室1b的上方設(shè)置有加熱裝置2，在中央室1a的下方設(shè)置有冷卻裝置3。即，在本實(shí)施方式中，在中間輸送室1的上方設(shè)置有加熱裝置2，在中間輸送室1的下方設(shè)置有冷卻裝置3。

另外，在中間輸送室1上連接有用于向中間輸送室1的內(nèi)部供給環(huán)境形成氣體的未圖示的氣體供給裝置。由此，向中間輸送室1供給例如作為環(huán)境形成氣體的氮?dú)?。此外，除了中間輸送室1以外，也向冷卻裝置3的后述的冷卻室3a同樣地供給環(huán)境形成氣體。此外，在中間輸送室1也連接有用于將中間輸送室1的內(nèi)部抽真空的未圖示的真空泵。

加熱裝置2具備加熱室2a和加熱器2b。加熱室2a是進(jìn)行被處理物X的加熱處理的圓筒形狀的腔室，設(shè)置在各加熱室用升降室1b的上方。

加熱器2b設(shè)置在加熱室2a的內(nèi)部，通過這些加熱器2b發(fā)熱而使容納在加熱室2a中的被處理物X被加熱處理。另外，作為加熱器2b，可以使用以鎳鉻合金(Ni-Cr)、鉬(Mo)或者石墨作為發(fā)熱體的電熱加熱器、或利用高頻電力進(jìn)行加熱的加熱器等。

此外，在加熱室2a上連接有用于向加熱室2a的內(nèi)部供給環(huán)境形成氣體的未圖示的氣體供給裝置。向加熱室2a的內(nèi)部供給例如作為環(huán)境形成氣體的氮?dú)庖约耙胰矚怏w。此外，在各加熱室2a連接有用于將加熱室2a的內(nèi)部抽真空的未圖示的加熱室用真空泵。

在中央室1a的下方安裝有冷卻裝置3。在該中央室1a的底板部的中央部設(shè)置有從中央室1a(即中間輸送室1)連通至冷卻裝置3的冷卻室3a的開口。該開口通過可開閉的上蓋1e而被做成可關(guān)閉。在該上蓋1e的上表面形成有導(dǎo)軌8，托盤T(被處理物X)能夠經(jīng)由上蓋1進(jìn)行移動。該上蓋1e通過未圖示的上蓋升降機(jī)構(gòu)進(jìn)行升降。

冷卻裝置3具備：冷卻室3a、噴嘴3b、集管3c以及升降臺3d。冷卻室3a是通過液體粒子即噴霧的潛熱進(jìn)行被處理物X的冷卻的熱處理室，連接在中間輸送室1的中央室1a的下方。即，在本實(shí)施方式中，在冷卻室3a的上方設(shè)置有進(jìn)行被處理物X的輸送的中間輸送室1。噴嘴3b在冷卻室3a的內(nèi)部設(shè)置有多個，向冷卻室3a內(nèi)噴出噴霧。集管3c與噴嘴3b連接，對各噴嘴3b供給冷卻液。

在冷卻室3a中，被處理物X連同托盤T被載置在升降臺3d上。該升降臺3d通過未圖示的冷卻室用升降機(jī)構(gòu)而被做成可升降，在上升到最高的狀態(tài)下，關(guān)閉設(shè)置在中央室1a的底板部的中央部的開口。另外，以如下的方式在升降臺3d的上表面上設(shè)置了導(dǎo)軌8：在升降臺3d關(guān)閉了設(shè)置在中央室1a的底板部的中央部的開口時，導(dǎo)軌8位于中央室1a內(nèi)。

此外，冷卻裝置3具備從冷卻室3a回收冷卻液并且再度冷卻回收后的冷卻液而向集管3c供給的未圖示的冷卻液回收供給裝置、或?qū)⒗鋮s室3a的內(nèi)部抽真空的真空泵等。

這樣的構(gòu)成的熱處理裝置S中的被處理物X的熱處理是在未圖示的控制裝置的控制下進(jìn)行的。首先，被處理物X在載置于托盤T的狀態(tài)下被送入中間輸送室1的中央室1a中。接著，通過水平輸送裝置4中的壓力缸機(jī)構(gòu)6a推壓載置了被處理物X的托盤T，托盤T在載置有被處理物X的狀態(tài)下被水平輸送至加熱室用升降室1b。

即，使壓力缸機(jī)構(gòu)6a工作而使推桿5前進(jìn)，通過其前端部的一對抵接部件7而使托盤T被推壓。于是，一對抵接部件7與托盤T的外周面上的圓周方向的兩個不同部位抵接而推壓托盤T。因此，即使由于托盤T的位置偏離而引起相對于托盤T的推壓位置稍微偏離，或者被載置在托盤T上的被處理物的重心從托盤T的中心偏離，托盤T也會被正確地輸送至直線方向前方的加熱室用升降室1b。

這樣，被處理物X連同托盤T被輸送至加熱室用升降室1b后，通過加熱室用升降機(jī)構(gòu)12使被處理物X上升至加熱室2a，利用加熱裝置2進(jìn)行加熱處理。

若被處理物X的加熱處理結(jié)束，則通過加熱室用升降機(jī)構(gòu)12使被處理物X下降至加熱室用升降室1b。此時，通過上蓋升降機(jī)構(gòu)使上蓋1e上升，并且通過冷卻室用升降機(jī)構(gòu)使升降臺3d上升而配置在中間輸送室1的中央室1a。

之后，下降至加熱室用升降室1b的被處理物X通過水平輸送裝置4被水平輸送至中央室1a的升降臺3d側(cè)。即，使壓力缸機(jī)構(gòu)6b工作從而使推桿5前進(jìn)，通過其前端部的一對抵接部件7而使托盤T被推壓。于是，因為通過一對抵接部件7與托盤T的外周面上的圓周方向的不同的兩個部位抵接而使托盤T被推壓，所以托盤T被正確地輸送至直線方向前方的升降臺3b上。

之后，通過冷卻室用升降機(jī)構(gòu)使升降臺3d下降至冷卻室3a的內(nèi)部，通過上蓋升降機(jī)構(gòu)關(guān)閉上蓋1e后，通過冷卻裝置3進(jìn)行被處理物X的冷卻處理。而且，若冷卻處理結(jié)束，則通過上蓋升降機(jī)構(gòu)使上蓋1e上升，進(jìn)而通過冷卻室用升降機(jī)構(gòu)使升降臺3d上升。

本實(shí)施方式的熱處理裝置S中的水平輸送裝置4中，為了與托盤T的外周面上的圓周方向的不同部位抵接，在推壓托盤T的推桿5的前端部配設(shè)有抵接部件7。因此，因為抵接部件7與圓盤狀的托盤T的外周面的不同部位接觸并推壓托盤T，所以即使由于托盤T的位置偏離而引起相對于托盤T的推壓位置稍微偏離，或者被載置在托盤T上的被處理物X的重心從托盤T的中心偏離，也能夠?qū)⑼斜PT正確地輸送至作為目標(biāo)的直線方向前方。因此，能夠防止由于托盤T不被正確地輸送而使對被處理物X的加熱處理等變得不能被適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行。

此外，因為設(shè)置了引導(dǎo)一對抵接部件7的導(dǎo)軌8，在一對抵接部件7上設(shè)置有在導(dǎo)軌8上行進(jìn)的行進(jìn)輥10，所以能夠防止被推進(jìn)壓力缸保持為懸臂狀的推桿5的前端側(cè)(抵接部件7側(cè))由于自重而下垂。因此，能夠使抵接部件7正確地抵接并推壓托盤T。

此外，托盤T為圓盤狀，為了與該托盤T的外周面上的圓周方向的不同的兩個部位抵接而配設(shè)有一對抵接部件7。因此，因為一對抵接部件7與圓盤狀的托盤T的外周面的兩個部位接觸并同時推壓托盤T，所以即使由于托盤T的位置偏離而引起相對于托盤T的推壓位置稍微偏離，或者被載置在托盤T上的被處理物X的重心從托盤T的中心偏離，也能夠?qū)⑼斜PT更正確地輸送至作為目標(biāo)的直線方向前方。

此外，在抵接部件7上沿其行進(jìn)方向上設(shè)置多個行進(jìn)輥10，以如下的方式配置行進(jìn)輥10：使位于多個行進(jìn)輥10的最外部的兩個行進(jìn)輥10間的距離比導(dǎo)軌8的間隙8a長度長。因此，因為抵接部件7在通過導(dǎo)軌8的間隙8a上時，至少一個行進(jìn)輥10位于導(dǎo)軌8上，所以能夠防止所有的行進(jìn)輥10掉落并嵌入間隙8a中。由此，能夠使抵接部件7通過行進(jìn)輥10在導(dǎo)軌8上穩(wěn)定地行進(jìn)。

此外，因為抵接部件7的前端部設(shè)置有調(diào)整抵接部件7的長度的調(diào)整機(jī)構(gòu)11，所以能夠消除在抵接部件7間的、抵接部位的抵接面的位置偏離。因此，能夠?qū)⑼斜PT更正確地輸送至作為目標(biāo)的直線方向前方。

本實(shí)施方式的熱處理裝置S因為具備了水平輸送裝置4，所以能夠?qū)⑤d置了被處理物的托盤T正確地輸送至作為目標(biāo)的直線方向前方的加熱裝置2一側(cè)。因此，能夠適當(dāng)?shù)貙Ρ惶幚砦颴進(jìn)行加熱處理。

以上，雖然一邊參照附圖一邊對本公開內(nèi)容的優(yōu)選的實(shí)施方式進(jìn)行了說明，但發(fā)明內(nèi)容并不限定于上述實(shí)施方式。在上述實(shí)施方式中示出的各構(gòu)成部件的各形狀或組合等是一例，在不脫離本公開內(nèi)容主旨的范圍內(nèi)，基于設(shè)計要求等能夠進(jìn)行各種變更。

例如，在上述實(shí)施方式的水平輸送裝置4中，雖然說明了具備兩種壓力缸機(jī)構(gòu)6a、壓力缸機(jī)構(gòu)6b的裝置，但也可以只具有任意一種的壓力缸機(jī)構(gòu)。此外，若是具有以與被輸送體(托盤T)的外周面上的圓周方向的不同的兩個部位抵接的方式配設(shè)了一對抵接部件的桿的壓力缸機(jī)構(gòu)，也可以是具有壓力缸機(jī)構(gòu)6a、壓力缸機(jī)構(gòu)6b以外的構(gòu)成的裝置。

此外，在上述實(shí)施方式中，雖然對本公開內(nèi)容應(yīng)用于具有3個加熱裝置的熱處理裝置S的例子進(jìn)行了說明，但本公開內(nèi)容并不限定于上述實(shí)施方式，也能夠應(yīng)用于具備1個或2個、甚至4個以上的加熱裝置的熱處理裝置。

工業(yè)實(shí)用性

根據(jù)本公開內(nèi)容的熱處理裝置用的輸送裝置以及熱處理裝置，因為作為推壓端的抵接部件接觸并推壓被輸送體的外周面上的圓周方向的不同部位，所以即使由于被輸送體的位置偏離而引起相對于被輸送體的推壓位置稍微偏離、或者被載置在被輸送體上的被處理物的重心從被輸送體的中心偏離，也能夠?qū)⒈惠斔腕w正確地輸送至作為目標(biāo)的直線方向前方。

附圖標(biāo)記說明

1 中間輸送室(輸送室)

1a 中央室

1b 加熱室用升降室

2 加熱裝置

2a 加熱室

4 水平輸送裝置(熱處理裝置用的輸送裝置)

5 推桿(桿)

6a 壓力缸機(jī)構(gòu)

6b 壓力缸機(jī)構(gòu)

7 抵接部件

8 導(dǎo)軌

8a 間隙

10 行進(jìn)輥

11 調(diào)整機(jī)構(gòu)

S 熱處理裝置

T 托盤(被輸送體)

X 被處理物