本發(fā)明涉及平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車，其用以搬運(yùn)從研磨裝置卸除的平臺(tái)(旋轉(zhuǎn)臺(tái))、或要安裝到研磨裝置上的平臺(tái)，所述研磨裝置用以研磨半導(dǎo)體晶片(wafer)等。

背景技術(shù)：

以硅晶片作為代表的半導(dǎo)體晶片(以下，簡(jiǎn)稱為晶片)的研磨，是以同時(shí)地研磨晶片的雙面的方法來實(shí)行、或是以研磨晶片的單面的方法來實(shí)行。

晶片的單面研磨，是使用如圖7所示的研磨裝置來實(shí)行，前述研磨裝置是由平臺(tái)2、研磨劑供給機(jī)構(gòu)14及研磨頭15等所構(gòu)成，所述平臺(tái)2貼附有研磨布12，所述研磨劑供給機(jī)構(gòu)14用以將研磨劑13供給至研磨布12上，所述研磨頭15用以保持晶片w。利用研磨頭15來保持晶片w，并從研磨劑供給機(jī)構(gòu)14將研磨劑13供給至研磨布12上，并使平臺(tái)2和研磨頭15各自旋轉(zhuǎn)來使晶片w的表面與研磨布12作滑動(dòng)接觸，由此進(jìn)行晶片w的研磨(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。

另外，晶片w的研磨，大多會(huì)更換研磨布的種類或研磨劑的種類而多階段地實(shí)行，并且大多使用具有2個(gè)平臺(tái)甚至3個(gè)平臺(tái)而被稱為分度(index)方式的研磨裝置。

此處，在圖8中表示分度方式的研磨裝置的一例，所述研磨裝置具有3個(gè)平臺(tái)。圖8所示的分度方式的研磨裝置11，具有3個(gè)平臺(tái)2，且在每1個(gè)平臺(tái)上分配有2個(gè)研磨頭15。因此，可在每一批次進(jìn)行2片晶片的研磨，所以特別是有益于生產(chǎn)性。

在這種研磨裝置中，當(dāng)研磨晶片時(shí)所使用的研磨布，其在使用前要進(jìn)行被稱為陳化(seasoning)的起始作業(yè)。陳化的方法，雖然依照所使用的研磨布而有所不同，但是一般來說被區(qū)分成擦刷和修整等，所述擦刷使用軟質(zhì)的尼龍刷子，所述修整使用陶瓷或鉆石的修整器。另外，也有以實(shí)際地研磨與研磨對(duì)象一樣的晶片(仿真晶片)的方式來實(shí)行的陳化。

陳化，為了使剛交換后的新研磨布的表面的品質(zhì)穩(wěn)定，所以大多長(zhǎng)時(shí)間地實(shí)行。特別是使用仿真晶片的陳化，依照研磨布的種類而有必須實(shí)行數(shù)個(gè)小時(shí)的情形。因此，當(dāng)在實(shí)際地實(shí)行研磨的研磨裝置內(nèi)進(jìn)行陳化時(shí)，此期間就必須暫時(shí)停止研磨。因此，晶片的生產(chǎn)性會(huì)大幅降低。

于是，為了抑制由于實(shí)行陳化而造成的晶片的生產(chǎn)性的降低，采用了下述方法：使要貼附研磨布的平臺(tái)可裝卸，且使用別的簡(jiǎn)易研磨裝置(以下，稱為外部設(shè)立裝置，outerset-updevice)來專門實(shí)行陳化的方法。

為了使用外部設(shè)立裝置來實(shí)行研磨布的陳化，首先要將貼附有研磨布的平臺(tái)安裝到外部設(shè)立裝置。接著，實(shí)行研磨布的陳化。如果研磨布的陳化結(jié)束，則要將貼附有已實(shí)行陳化的研磨布的平臺(tái)從外部設(shè)立裝置卸除。然后，將平臺(tái)安裝到實(shí)際要進(jìn)行晶片的研磨的研磨裝置上。

平臺(tái)，大多使用不銹鋼制或陶瓷制。當(dāng)是直徑800mm且厚度20mm的平臺(tái)時(shí)，不銹鋼制的平臺(tái)的重量約80kg，陶瓷制的平臺(tái)的重量約40kg。這樣一來，相較于陶瓷制的平臺(tái)，不銹鋼制的平臺(tái)的重量較重。進(jìn)一步，當(dāng)是不銹鋼制的平臺(tái)時(shí)，恐怕平臺(tái)會(huì)因?yàn)闊岫冃?，而?duì)于研磨品質(zhì)造成影響。因此，優(yōu)選是使用陶瓷制的平臺(tái)。

當(dāng)利用外部設(shè)立裝置來進(jìn)行陳化時(shí)，必須頻繁地裝卸上述這種重量物也就是平臺(tái)。為了容易且安全地進(jìn)行這種重量物(平臺(tái))的裝卸，而使用如圖9所示的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101，其能夠一邊將平臺(tái)2保持在水平狀態(tài)，一邊進(jìn)行搬運(yùn)。平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101，具備用以保持平臺(tái)2的平臺(tái)保持部103、及用以使平臺(tái)保持部升降的升降機(jī)構(gòu)。

平臺(tái)保持部103，具有平臺(tái)落下防止機(jī)構(gòu)109，所述平臺(tái)落下防止機(jī)構(gòu)109用以防止所保持的平臺(tái)2落下而將平臺(tái)2以水平狀態(tài)保持并加以鎖固。在平臺(tái)保持部103的與平臺(tái)2接觸的一側(cè)的面上，設(shè)置滾輪110或活動(dòng)軸承(freebearing)，以使重量物(平臺(tái)2)能夠容易地滑動(dòng)。

作為升降機(jī)構(gòu)，使用：油壓方式的升降機(jī)構(gòu)；或采用了鏈條(chain)、滾珠螺桿等的機(jī)構(gòu)。

此處，表示將平臺(tái)2從研磨裝置卸除，并往上述平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101移動(dòng)時(shí)的一般的順序。

將平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101配置在平臺(tái)2的正面，所述平臺(tái)2是原本設(shè)置于研磨裝置內(nèi)且要加以卸除。

打開研磨裝置的門，將平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101的平臺(tái)保持部103的高度，調(diào)整成與平臺(tái)2的高度相同或略低的位置。此時(shí)，依照平臺(tái)2和平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101的位置，有兩者的距離較遠(yuǎn)的情況，在這種情況，要在平臺(tái)2與平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101之間設(shè)置導(dǎo)板。

一般來說，平臺(tái)2根據(jù)機(jī)械性的鎖固機(jī)構(gòu)與真空吸附而被固定在研磨裝置內(nèi)的預(yù)定場(chǎng)所，所述鎖固機(jī)構(gòu)用以防止當(dāng)研磨晶片時(shí)等的由于旋轉(zhuǎn)所造成的飛出的情況發(fā)生。為了從研磨裝置卸除平臺(tái)2，首先，卸開機(jī)械性的鎖固機(jī)構(gòu)。進(jìn)一步，停止真空吸附。此時(shí)，利用真空吸附的線路(line)來供給空氣，由此使平臺(tái)浮起而能夠容易地移動(dòng)平臺(tái)2。另外，也可一邊供給水以使平臺(tái)2容易滑動(dòng)一邊從研磨裝置卸除平臺(tái)2。

由于在平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101的平臺(tái)保持部103上設(shè)有滾輪110或活動(dòng)軸承等，所以能夠使平臺(tái)2安全地滑動(dòng)。將平臺(tái)滑動(dòng)到平臺(tái)保持部103的預(yù)定位置，并利用平臺(tái)保持部103來保持平臺(tái)。然后，將平臺(tái)2固定在平臺(tái)落下防止機(jī)構(gòu)109上并進(jìn)行搬運(yùn)。

當(dāng)將平臺(tái)安裝至研磨裝置上時(shí)，已貼附于所述平臺(tái)上的研磨布已利用外部設(shè)立裝置完成陳化，除了將平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車的平臺(tái)保持部，調(diào)整成與研磨裝置內(nèi)的平臺(tái)接受部的高度相同或略高的位置以外，能夠以與將平臺(tái)從上述研磨裝置卸除的步驟相反的步驟，使平臺(tái)從平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車滑動(dòng)至研磨裝置內(nèi)來實(shí)行安裝。

然而，因?yàn)檠心パb置的大型化會(huì)使得所使用的平臺(tái)的直徑也變大，所以不得不使利用平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車來搬運(yùn)平臺(tái)時(shí)所需的通路也變廣闊。另外，為了進(jìn)行平臺(tái)的裝卸，需要更廣闊的空間，所以會(huì)有研磨裝置周邊的空間利用效率更加降低的問題。

特別是，在如圖8所示的分度方式的研磨裝置時(shí)，因?yàn)橐獜?個(gè)方向來裝卸平臺(tái)，所以研磨裝置周邊的空間利用效率會(huì)大幅降低。

因此，將用以裝卸平臺(tái)的空間與相鄰的研磨裝置共用，由此來謀求空間利用效率的提升。

另外，圖9所示的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101，對(duì)于平臺(tái)是從正面進(jìn)行接取(access)來將平臺(tái)2裝卸的縱向裝卸方式，但是也可使用從平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101的側(cè)面來裝卸平臺(tái)的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車。在圖10表示根據(jù)縱向裝卸方式的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101、及橫向裝卸方式的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101a來將平臺(tái)安裝至研磨裝置11時(shí)的樣子。

在研磨裝置11的周圍有電源配線與配管(用于給水和排水，未圖示)。因此，相較于縱向裝卸方式的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101，橫向裝卸方式的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101a難以靠近研磨裝置11的側(cè)面，因而作業(yè)性低劣。然而，如圖10所示，橫向裝卸方式的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101a，能夠使當(dāng)要將平臺(tái)安裝在研磨裝置11上或加以卸除時(shí)所需的空間變小。因此，能夠縮小相鄰的研磨裝置彼此的間隔，所以有益于空間利用效率。

然而，即便是圖10所示的橫向裝卸方式的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101a時(shí)，平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車101a也是在水平狀態(tài)下搬運(yùn)平臺(tái)并實(shí)行裝卸作業(yè)。因此，相鄰的研磨裝置彼此的間隔，必須具有要以平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車來進(jìn)行搬運(yùn)的平臺(tái)的直徑以上的空間。進(jìn)一步，考慮到當(dāng)以平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車來搬運(yùn)平臺(tái)時(shí)、或從研磨裝置裝卸平臺(tái)時(shí)等的作業(yè)性，至少需要具有平臺(tái)的直徑加上200mm以上的空間。

為了使利用研磨裝置來研磨晶片時(shí)的晶片的表面品質(zhì)均勻化，希望在研磨布與晶片一直接觸的狀態(tài)下實(shí)行研磨。因此，平臺(tái)的直徑優(yōu)選是比研磨對(duì)象也就是晶片的直徑更大。另外，為了提升生產(chǎn)性，大多使用如圖8所示的研磨裝置11，所述研磨裝置11對(duì)于1個(gè)平臺(tái)2分配有2個(gè)研磨頭15。

在這種研磨裝置中，由于在1個(gè)平臺(tái)上同時(shí)研磨2片晶片，所以例如當(dāng)研磨直徑300mm的晶片時(shí)，大多使用的平臺(tái)是直徑800mm的平臺(tái)。如上述，相鄰的研磨裝置彼此的設(shè)置間隔，至少需要具有平臺(tái)的直徑加上200mm左右的空間，所以當(dāng)平臺(tái)的直徑是800mm時(shí)，就需要1000mm以上。如此，對(duì)于研磨直徑300mm以上的晶片的研磨裝置而言，就難以提升空間利用效率。

另外，也正在檢討要使用直徑超過300mm的大直徑的晶片，也就是直徑450mm的晶片。作為能夠同時(shí)研磨2片直徑450mm的晶片的平臺(tái)，例如能夠使用直徑1200mm的平臺(tái)。這種尺寸的平臺(tái)的重量，在陶瓷制時(shí)，約90kg。當(dāng)研磨裝置的平臺(tái)的直徑是1200mm時(shí)，使用先前的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車來實(shí)行平臺(tái)的裝卸作業(yè)和搬運(yùn)所需要的空間，需要1400mm以上。

這樣一來，先前的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車，當(dāng)實(shí)行平臺(tái)的裝卸作業(yè)和搬運(yùn)時(shí)，由于必須一直使平臺(tái)在水平狀態(tài)下來實(shí)行，所以空間利用效率不佳。

設(shè)置在半導(dǎo)體工廠中的研磨裝置，為了抑制異物所造成的細(xì)小刮痕和缺陷等，所以大多被設(shè)置在無塵室內(nèi)，因此，設(shè)置研磨裝置時(shí)的空間利用效率，會(huì)影響到工廠的建設(shè)成本、或設(shè)施的運(yùn)轉(zhuǎn)成本。因此，謀求改善研磨裝置周邊的空間利用效率。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開第2008-93811號(hào)公報(bào)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的課題

本發(fā)明是鑒于上述問題而完成，其目的在于提供一種平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車，所述平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車在搬運(yùn)平臺(tái)時(shí)的寬度小，因而能夠縮小用以搬運(yùn)平臺(tái)的通路的寬度。

解決課題的技術(shù)方案

為了達(dá)成上述目的，依照本發(fā)明，提供一種平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車，其用以搬運(yùn)從研磨裝置卸除的平臺(tái)、或要安裝至前述研磨裝置上的前述平臺(tái)，所述平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車的特征在于，具備：平臺(tái)保持部，用以保持前述平臺(tái)；支持臺(tái)，從下側(cè)來支持該平臺(tái)保持部；升降機(jī)構(gòu)，實(shí)行前述平臺(tái)保持部的升降；以及，傾斜機(jī)構(gòu)，使保持有前述平臺(tái)的前述平臺(tái)保持部?jī)A斜；

并且，能夠在利用前述傾斜機(jī)構(gòu)來使保持有前述平臺(tái)的前述平臺(tái)保持部?jī)A斜的狀態(tài)下，搬運(yùn)前述平臺(tái)。

若是這種平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車，則能夠縮小前述平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車在搬運(yùn)平臺(tái)時(shí)的寬度，因而能夠縮小用以搬運(yùn)平臺(tái)的通路的寬度。

此時(shí)，優(yōu)選是，當(dāng)從側(cè)面觀察前述平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車時(shí)，前述平臺(tái)保持部的橫方向的長(zhǎng)度比前述支持臺(tái)的橫方向的長(zhǎng)度更長(zhǎng)，且上述平臺(tái)保持部相對(duì)于前述支持臺(tái)是偏心地配置。

若是這種平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車，當(dāng)為了裝卸平臺(tái)而將平臺(tái)保持部從傾斜狀態(tài)變化成水平狀態(tài)時(shí)，能夠?qū)⑵牡嘏渲玫钠脚_(tái)保持部的較長(zhǎng)的突出側(cè)設(shè)定成可插入研磨裝置內(nèi)的狀態(tài)，所以能夠縮小在裝卸平臺(tái)時(shí)所需的空間。由此，能夠更加縮小相鄰的研磨裝置彼此的間隔。進(jìn)一步，當(dāng)平臺(tái)是水平時(shí)，平臺(tái)的一部分是成為可進(jìn)入研磨裝置內(nèi)的狀態(tài)，所以不需要設(shè)置導(dǎo)板而有益于作業(yè)性。

此時(shí)，前述傾斜機(jī)構(gòu)，優(yōu)選是具有：至少1個(gè)傾斜板，其被安裝在前述平臺(tái)保持部的外周部且可收納在內(nèi)側(cè)方向；以及，至少1個(gè)止動(dòng)器(stopper)，其被配置在前述傾斜板的下方；并且，當(dāng)使前述平臺(tái)保持部下降時(shí)，根據(jù)前述止動(dòng)器來阻止前述傾斜板的下降，使前述平臺(tái)保持部的配置有前述傾斜板的部分不會(huì)下降，而能夠使前述平臺(tái)保持部?jī)A斜。

利用這種簡(jiǎn)單的機(jī)構(gòu)便能夠使保持有平臺(tái)的平臺(tái)保持部?jī)A斜，所以能夠節(jié)約成本。

發(fā)明的效果

依照本發(fā)明的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車，能夠縮小前述平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車在搬運(yùn)平臺(tái)時(shí)的寬度，因而能夠縮小用以搬運(yùn)平臺(tái)的通路的寬度。

附圖說明

圖1是表示本發(fā)明的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車的一個(gè)例子的概略圖。

圖2是表示在本發(fā)明的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車中，利用平臺(tái)保持部將平臺(tái)保持在傾斜的狀態(tài)與水平的狀態(tài)兩者的中間狀態(tài)的樣子的概略圖。

圖3是表示在本發(fā)明的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車中，利用平臺(tái)保持部將平臺(tái)水平地保持時(shí)的樣子的概略圖。

圖4是表示在本發(fā)明的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車中，利用平臺(tái)保持部將平臺(tái)保持在水平狀態(tài)時(shí)的概略俯視圖。

圖5是表示在本發(fā)明的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車中，利用平臺(tái)保持部將平臺(tái)傾斜地保持時(shí)的概略俯視圖。

圖6是表示使用本發(fā)明的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車來將平臺(tái)安裝至研磨裝置時(shí)的樣子的概略圖。

圖7是表示一般的晶片的單面研磨裝置的一個(gè)例子的概略圖。

圖8是表示一般的分度方式的晶片的研磨裝置的一個(gè)例子的概略圖。

圖9是表示先前的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車的一個(gè)例子的概略俯視圖。

圖10是表示使用先前的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車來將平臺(tái)安裝至研磨裝置的樣子的概略圖。

具體實(shí)施方式

如上述，當(dāng)利用平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車來搬運(yùn)平臺(tái)時(shí)，如果以水平狀態(tài)來搬運(yùn)平臺(tái)，則不得不使平臺(tái)搬運(yùn)用的通路寬度變寬而有空間利用效率惡化這樣的問題。于是，本發(fā)明人為了解決這樣的問題而進(jìn)行深入檢討。其結(jié)果，想到了在使保持有平臺(tái)的平臺(tái)保持部?jī)A斜的狀態(tài)下搬運(yùn)平臺(tái)，便能夠縮小搬運(yùn)時(shí)所需的通路的寬度。并且，詳細(xì)調(diào)查實(shí)施這些技術(shù)的最佳方式而完成本發(fā)明。以下，一邊參照附圖一邊針對(duì)本發(fā)明的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車來進(jìn)行詳細(xì)說明。

本發(fā)明的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車，其用以搬運(yùn)從研磨裝置卸除的平臺(tái)、或要安裝至研磨裝置上的平臺(tái)。如圖1所示，本發(fā)明的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車1，具備：平臺(tái)保持部3，其用以保持平臺(tái)2；支持臺(tái)4，其從下側(cè)來支持平臺(tái)保持部3；升降機(jī)構(gòu)5，其實(shí)行平臺(tái)保持部3的升降；以及，傾斜機(jī)構(gòu)8，其使保持有平臺(tái)2的平臺(tái)保持部3傾斜。

平臺(tái)保持部3的形狀并無特別限定，例如圖4所示，能夠組合成長(zhǎng)方形的形狀。平臺(tái)保持部的橫向?qū)挾?，?yōu)選是設(shè)成比所保持的平臺(tái)的直徑更短。這樣一來，當(dāng)使保持有平臺(tái)的平臺(tái)保持部?jī)A斜時(shí)，能夠?qū)挾仍O(shè)成最小化。

如圖4所示，在平臺(tái)保持部3的與平臺(tái)2接觸的一面上，優(yōu)選是設(shè)置滾輪10或活動(dòng)軸承。依照這種平臺(tái)保持部，當(dāng)將平臺(tái)2從研磨裝置卸除并向平臺(tái)保持部3移動(dòng)時(shí)、或當(dāng)為了將平臺(tái)2安裝至研磨裝置上而從平臺(tái)保持部3向研磨裝置移動(dòng)時(shí)，能夠使平臺(tái)2容易滑動(dòng)而有益于操作性。

平臺(tái)保持部3，如圖5所示，優(yōu)選是當(dāng)使保持有平臺(tái)2的平臺(tái)保持部3傾斜時(shí)，使平臺(tái)2不會(huì)落下，例如能夠設(shè)置平臺(tái)的落下防止機(jī)構(gòu)9。平臺(tái)的落下防止機(jī)構(gòu)，能夠作成下述落下防止機(jī)構(gòu)：在鎖固的狀態(tài)下，以使平臺(tái)不會(huì)從平臺(tái)保持部脫離的方式來固定平臺(tái)，而在解除鎖固的狀態(tài)下，平臺(tái)能夠從保持部自如地脫離。若是這種平臺(tái)保持部，即便在使保持有平臺(tái)2的平臺(tái)保持部3傾斜的狀態(tài)下，也能夠安全地搬運(yùn)平臺(tái)。

此時(shí)，如圖3所示，優(yōu)選是，當(dāng)從側(cè)面觀察平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車1時(shí)，平臺(tái)保持部3的橫方向的長(zhǎng)度比支持臺(tái)4的橫方向的長(zhǎng)度更長(zhǎng)，且平臺(tái)保持部3相對(duì)于支持臺(tái)4是偏心地配置。在這種平臺(tái)保持部3中，于保持有平臺(tái)2時(shí)，所保持的平臺(tái)相對(duì)于支持臺(tái)4也是成為偏心的狀態(tài)。因此，平臺(tái)保持部3相對(duì)于支持臺(tái)4是偏心地配置，并且，在較長(zhǎng)的突出側(cè)，平臺(tái)2成為從支持臺(tái)4大幅突出的狀態(tài)。

若是這種平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車，如圖6所示，當(dāng)為了裝卸平臺(tái)2而使保持有平臺(tái)2的平臺(tái)保持部3從傾斜的狀態(tài)變化成水平狀態(tài)時(shí)，能夠?qū)⑵牡嘏渲玫钠脚_(tái)保持部3的較長(zhǎng)的突出側(cè)設(shè)定成可插入研磨裝置11內(nèi)的狀態(tài)，所以能夠縮小在裝卸平臺(tái)2時(shí)所需的空間。由此，能夠縮小相鄰的研磨裝置彼此的間隔。進(jìn)一步，當(dāng)使平臺(tái)2呈水平時(shí)，平臺(tái)2的一部分是成為進(jìn)入研磨裝置11內(nèi)的狀態(tài)，所以不需要設(shè)置導(dǎo)板。另外，當(dāng)使平臺(tái)2呈水平時(shí)的高度，是以位于比平臺(tái)接受部16略高的位置的方式來調(diào)整止動(dòng)器6的位置，由此能夠防止平臺(tái)2與平臺(tái)接受部16的接觸，因而有益于作業(yè)性。

如圖1、圖2、圖3所示，支持臺(tái)4從下側(cè)來支持平臺(tái)保持部3。

支持臺(tái)4的橫向?qū)挾?，?yōu)選是比平臺(tái)保持部的橫方向的長(zhǎng)度更短。另外，支持臺(tái)4的橫向?qū)挾?，?yōu)選是比使利用平臺(tái)保持部所保持的平臺(tái)2傾斜時(shí)的橫方向的長(zhǎng)度更短。若這樣做，當(dāng)使保持有平臺(tái)2的平臺(tái)保持部3傾斜時(shí)，能夠?qū)挾仍O(shè)成最小化。

在支持臺(tái)4的下部，能夠以使平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車1移動(dòng)自如的方式，配置多數(shù)個(gè)車輪18。在車輪18上配置有輪鎖，而能夠在安裝平臺(tái)或卸除平臺(tái)時(shí)，使得平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車不會(huì)隨便移動(dòng)。

如圖1所示，支持臺(tái)4的高度，優(yōu)選是當(dāng)使保持有平臺(tái)2的平臺(tái)保持部3傾斜時(shí)，不會(huì)使平臺(tái)保持部和平臺(tái)接觸地面的高度

升降機(jī)構(gòu)5，能夠配置在平臺(tái)保持部3的下部。升降機(jī)構(gòu)5，優(yōu)選是能夠使平臺(tái)保持部3升降到任意高度。例如，能夠是油壓方式的構(gòu)成，或使用鏈條、滾珠螺桿等的機(jī)構(gòu)。

能夠以手動(dòng)操作來使升降機(jī)構(gòu)5實(shí)行平臺(tái)保持部3的升降。如果這樣做，就不需要搭載用以升降的其他裝置，而不需花費(fèi)額外成本。

能夠在平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車1上搭載電池裝置且以電池驅(qū)動(dòng)來使升降機(jī)構(gòu)5實(shí)行平臺(tái)保持部3的升降。當(dāng)升降機(jī)構(gòu)5是電池驅(qū)動(dòng)時(shí)，因?yàn)槟軌蛉菀椎貙?shí)行平臺(tái)保持部3的升降，因而優(yōu)選。

傾斜機(jī)構(gòu)8，能夠作成具有：至少1個(gè)傾斜板7，其被安裝在平臺(tái)保持部3的外周部且可收納在內(nèi)側(cè)方向；以及，至少1個(gè)止動(dòng)器6，其被配置在傾斜板7的下方。例如，止動(dòng)器6，能夠使用的止動(dòng)器附帶有滾輪。

利用升降機(jī)構(gòu)5來使在水平狀態(tài)下保持有平臺(tái)2的平臺(tái)保持部(圖3)下降時(shí)，根據(jù)止動(dòng)器6接觸到傾斜板7的背面來阻止下降(圖2)。由此，使平臺(tái)保持部3的配置有傾斜板7的部分不會(huì)下降，而能夠使平臺(tái)保持部3傾斜(圖1)。這樣一來，利用傾斜機(jī)構(gòu)8，能夠使保持有平臺(tái)2的平臺(tái)保持部3傾斜，所以相較于以水平狀態(tài)來保持平臺(tái)2，能夠縮小平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車1的寬度。

另一方面，當(dāng)將傾斜板7收納在平臺(tái)保持部3的內(nèi)側(cè)方向的狀態(tài)下，利用升降機(jī)構(gòu)5來使保持有平臺(tái)2的平臺(tái)保持部3下降時(shí)，因?yàn)閮A斜板7沒有與止動(dòng)器6接觸，所以能夠使保持有平臺(tái)2的平臺(tái)保持部3維持水平狀態(tài)而下降。

利用這種簡(jiǎn)單的機(jī)構(gòu)而能夠使保持有平臺(tái)2的平臺(tái)保持部3傾斜，所以能夠節(jié)約成本。

接著，一邊參照?qǐng)D6，一邊說明將平臺(tái)2安裝至研磨裝置11時(shí)的動(dòng)作。

在使保持有平臺(tái)2的平臺(tái)保持部3傾斜的狀態(tài)下進(jìn)行搬運(yùn)，并使平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車1停車在要安裝平臺(tái)2的平臺(tái)接受部16的正面且利用輪鎖等來固定。

如果利用傾斜機(jī)構(gòu)來進(jìn)行將保持有平臺(tái)2的平臺(tái)保持部3變化成水平狀態(tài)的操作，則平臺(tái)2一邊變成水平一邊成為使平臺(tái)2進(jìn)入研磨裝置11的內(nèi)部的狀態(tài)。

將傾斜板收納在平臺(tái)保持部3的內(nèi)側(cè)，并使平臺(tái)保持部3所保持的平臺(tái)2維持水平狀態(tài)而下降，且將平臺(tái)2調(diào)整成位于與平臺(tái)接受部16的位置相同或略高的位置。

解除平臺(tái)保持部3上的落下防止裝置對(duì)平臺(tái)2的鎖固，并將平臺(tái)2從平臺(tái)保持部3滑動(dòng)至研磨裝置11側(cè)。因?yàn)槠脚_(tái)保持部3具有滾輪或活動(dòng)軸承等，所以能夠容易地使平臺(tái)2滑動(dòng)。另外，利用平臺(tái)接受部16的真空吸附用的洞來供給空氣，由此能夠使平臺(tái)2浮起而能夠容易地使平臺(tái)2移動(dòng)。此時(shí)，也能將水供給至平臺(tái)接受部16，以使重量物也就是平臺(tái)2容易滑動(dòng)。

實(shí)施例

以下，表示本發(fā)明的實(shí)施例及比較例來更具體地說明本發(fā)明，但是本發(fā)明不受限于這些例子。

(實(shí)施例)

在本發(fā)明的具有傾斜機(jī)構(gòu)的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車上，使直徑800mm或1200mm的平臺(tái)保持于平臺(tái)保持部，并利用傾斜機(jī)構(gòu)來使保持有平臺(tái)的平臺(tái)保持部?jī)A斜。測(cè)定此時(shí)的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車的寬度。將該測(cè)定得到的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車的寬度加上200mm，以算出搬運(yùn)通路的寬度。在表1和表2中表示各自的測(cè)定結(jié)果及計(jì)算結(jié)果。另外，在表1和表2中，也一并表示后述的比較例的結(jié)果。

當(dāng)平臺(tái)的直徑是800mm時(shí)，平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)使保持有平臺(tái)的平臺(tái)保持部?jī)A斜時(shí)，該平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車的寬度是500mm。計(jì)算出來的搬運(yùn)通路的寬度是700mm。

表1

如表2所示，當(dāng)平臺(tái)的直徑是1200mm時(shí)，平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)使保持有平臺(tái)的平臺(tái)保持部?jī)A斜時(shí)，所述平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車的寬度是800mm。計(jì)算出來的搬運(yùn)通路的寬度是1000mm。

表2

(比較例)

在先前的沒有傾斜機(jī)構(gòu)的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車上，搭載與實(shí)施例相同的直徑800mm或1200mm的平臺(tái)，求得此時(shí)的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車的寬度及搬運(yùn)通路的寬度，且表示在表1及表2中。搬運(yùn)通路的寬度，與實(shí)施例同樣地是將該平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車的寬度加上200mm而得的值。

如表1所示，當(dāng)平臺(tái)的直徑是800mm時(shí)，利用平臺(tái)保持部來保持平臺(tái)時(shí)的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車的寬度是800mm。計(jì)算出來的搬運(yùn)通路的寬度是1000mm。

如表2所示，當(dāng)平臺(tái)的直徑是1200時(shí)，利用平臺(tái)保持部來保持平臺(tái)時(shí)的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車的寬度是1200mm。計(jì)算出來的搬運(yùn)通路的寬度是1400mm。

如以上所述，在實(shí)施例中，因?yàn)槭鞘褂帽景l(fā)明的平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車，其具有傾斜機(jī)構(gòu)，所述傾斜機(jī)構(gòu)能夠使保持有平臺(tái)的平臺(tái)保持部?jī)A斜，所以當(dāng)是800mm的平臺(tái)時(shí)，相較于比較例，搬運(yùn)通路的寬度能夠節(jié)省300mm的空間。另外，當(dāng)是1200mm的平臺(tái)時(shí)，實(shí)施例相較于比較例，搬運(yùn)通路的寬度及平臺(tái)搬運(yùn)臺(tái)車的間隔，能夠節(jié)省400mm的空間。

另外，本發(fā)明不受限于上述實(shí)施方式。上述實(shí)施方式是例示，只要具有與本發(fā)明的權(quán)利要求書所記載的技術(shù)思想實(shí)質(zhì)上相同的構(gòu)成，并發(fā)揮同樣的作用效果的技術(shù)方案，都包含在本發(fā)明的權(quán)利范圍內(nèi)。