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一種具有超高硬度的Si摻雜納米復合涂層的制備工藝的制作方法

文檔序號:11279275閱讀:來源:國知局

技術特征:

技術總結
本發(fā)明公開了一種具有超高硬度的Si摻雜納米復合涂層的制備工藝,包括以下步驟:(1)基體清洗,包括超聲波清洗和離子清洗;(2)TiN過渡層制備:將步驟(1)處理后的基體送到濺射室進行沉積100~200nm的TiN過渡層;(3)TiAlSiN納米復合涂層制備:將涂覆TiN過渡層后的基材,利用射頻陰極控制的TiAlSi復合靶材,沉積2~5μm厚度的TiAlSiN納米復合涂層。本發(fā)明所得TiAlSiN涂層不但具有高于40GPa的硬度,而且具有優(yōu)良的抗高溫氧化性能和耐腐蝕性能,同時本發(fā)明涉及的涂層制備方法不僅具有工藝簡單、沉積速度快、成本低、結合強度高等特點,并且具有生產(chǎn)效率高、能耗低,對設備要求較低等優(yōu)點,可作為高速、干式切削的刀具涂層和其他領域的保護涂層。

技術研發(fā)人員:張笑;李偉;劉京京
受保護的技術使用者:上海仟納真空鍍膜科技有限公司
技術研發(fā)日:2016.05.25
技術公布日:2017.09.22
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