1.一種滑動(dòng)構(gòu)件的制造方法，包括：
第一工序，對(duì)于由鋼材構(gòu)成的母材部在570～660℃的含氨的氣氛中進(jìn)行加熱處理后進(jìn)行冷卻處理；
第二工序，接著所述第一工序，對(duì)所述表面?zhèn)冗M(jìn)行加壓并同時(shí)進(jìn)行回火處理；及
第三工序，接著所述第二工序，進(jìn)行在水蒸氣氣氛中進(jìn)行加熱的水蒸氣處理，其中，
通過(guò)上述工序，在由所述鋼材構(gòu)成的母材部的表面?zhèn)刃纬傻獢U(kuò)散層，
在所述氮擴(kuò)散層的表面?zhèn)刃纬傻衔飳樱?/p>
在所述氮化合物層的最外層表面形成氧化層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滑動(dòng)構(gòu)件的制造方法，其中，
所述第二工序在200～470℃的溫度下進(jìn)行所述回火處理。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滑動(dòng)構(gòu)件的制造方法，其中，
所述第三工序在350～500℃的溫度下進(jìn)行所述水蒸氣處理。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的滑動(dòng)構(gòu)件的制造方法，其中，
所述第一工序?qū)τ谖催M(jìn)行退火處理的由所述鋼材構(gòu)成的母材部在進(jìn)行所述加熱處理后進(jìn)行所述冷卻處理。
5.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的滑動(dòng)構(gòu)件的制造方法，其中，
還包括第四工序，所述第四工序在即將進(jìn)行所述第一工序之前進(jìn)行在300～450℃的氧化氣氛中進(jìn)行加熱的前氧化處理。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的滑動(dòng)構(gòu)件的制造方法，其中，
所述第四工序?qū)τ谖催M(jìn)行退火處理的由所述鋼材構(gòu)成的母材部進(jìn)行所述前氧化處理。
7.一種構(gòu)成電磁離合器的離合器板的制造方法，其中，
使用權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的滑動(dòng)構(gòu)件的制造方法。
8.一種通過(guò)權(quán)利要求1所述的滑動(dòng)構(gòu)件的制造方法制造的滑動(dòng)構(gòu)件，其中，
所述氮擴(kuò)散層的厚度為5～50μm，
所述氮化合物層的厚度為5～50μm，
所述氧化層的厚度為0.3～3μm。
9.一種構(gòu)成電磁離合器的離合器板，其中，
所述離合器板是權(quán)利要求8所述的滑動(dòng)構(gòu)件。