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一種液晶玻璃基板薄化后研磨處理方法與流程

文檔序號(hào):12332003閱讀:2859來源:國知局

本發(fā)明屬于液晶玻璃基板薄化工藝研磨技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種液晶玻璃基板薄化后研磨處理方法。



背景技術(shù):

平板顯示器包括等液晶顯示器(LCD)、觸摸屏(TP)、離子體顯示器(PDP)及有機(jī)電致發(fā)光器(OLED)。液晶顯示設(shè)置由于提供基于卓越的分辨率的鮮明的影像、耗電少、可較薄地制作顯示畫面的特性,在平板顯示設(shè)置中最受到關(guān)注。液晶顯示設(shè)置使用于包括手機(jī)、筆記本型PC的移動(dòng)用設(shè)備及電視。

目前液晶玻璃基板的薄化主要采用化學(xué)薄化技術(shù),其工藝包括:封膠固化,化學(xué)薄化,薄化后清洗,研磨,研磨后手工清洗,水平清洗機(jī)清洗。隨著技術(shù)的發(fā)展,超大超薄液晶面板的減薄已成為行業(yè)內(nèi)主流,研磨液是液晶玻璃基板薄化工藝研磨拋光的主要材料,而研磨液對(duì)研磨后液晶基板表面良率狀況成為難點(diǎn),傳統(tǒng)研磨液是以自來水與粒徑為1.7μm研磨粉配置而成,其過濾設(shè)置一般采用防靜電手套或絲襪過濾,研磨之后液晶基板表面大多會(huì)有機(jī)械劃傷及來料凹凸點(diǎn)未處理干凈,使得液晶基板良率不能滿足客戶需求及反拋髙影響生產(chǎn)效率。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是針對(duì)已有薄化研磨工藝技術(shù)的不足,提供液晶玻璃基板薄化后研磨處理方法,該方法可以有效方便地使得液晶玻璃基板表面的機(jī)械劃傷顯著減少,提高研磨后液晶玻璃基板表面粒良率,減少研磨再返研磨,提髙生產(chǎn)效率。

為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:

一種液晶玻璃基板薄化后研磨處理方法,包括如下步驟:

(1)研磨液的配制:研磨液為超純水和氧化鈰拋光粉混合形成;

從動(dòng)力部門接入超純水管道至研磨機(jī)臺(tái);

先將研磨桶清洗干凈,確保內(nèi)壁無殘留異物或塊狀拋光粉;然后加入2/3桶超純水,開啟研磨液循環(huán),將管道中殘留的研磨液沖刷干凈,再將研磨桶中剩余的純水倒掉,如果研磨桶內(nèi)還有異物,需繼續(xù)清洗至干凈;

加入超純水至研磨桶上方約5cm處,開啟攪拌,加入2000mL粒徑為1.0μm氧化鈰拋光粉;

在研磨機(jī)研磨液出液管道中的出液口設(shè)置短筒絲襪,并在絲襪外面再次設(shè)置一個(gè)密度為200目的過濾袋,設(shè)置完成后,用手輕輕拉扯過濾袋,如果發(fā)現(xiàn)輕易就將其扯動(dòng),則需重新對(duì)過濾袋進(jìn)行設(shè)置,以防止其在研磨過程中掉落,導(dǎo)致品質(zhì)異常;

(2)研磨機(jī)清洗:

a)上定盤清洗:先將機(jī)臺(tái)調(diào)整為手動(dòng)操作狀態(tài),然后手動(dòng)把上定盤打到水平位置,一手用水槍對(duì)上定盤表面進(jìn)行沖洗,另一手用毛刷對(duì)其表面進(jìn)行洗刷,將表面可去除的拋光粉殘留清洗潔凈;注意上定盤表面是否有玻璃殘?jiān)蚱渌参?,如有此類物品必須將其清除,若有部分結(jié)塊拋光粉殘留刷不掉,可將其留在上定盤表面,此過程需在2min內(nèi)完成;

b)拋光墊清洗:上定盤清洗潔凈后,將其上升至最高處后,手動(dòng)打開下定盤旋轉(zhuǎn),一手用水槍對(duì)拋光墊表面進(jìn)行沖洗,另一手用毛刷對(duì)機(jī)臺(tái)表面進(jìn)行洗刷,洗刷順序由拋光墊中間位置開始向外逐一對(duì)整個(gè)拋光墊表面進(jìn)行洗刷,此過程需在1min內(nèi)完成;

c)研磨機(jī)臺(tái)清洗:拋光墊清洗完成后打開外接水管,用水管口對(duì)機(jī)臺(tái)擋板以及下定盤底部進(jìn)行沖洗,特別是下定盤底部殘留的拋光粉結(jié)塊,一定要沖洗掉。清洗完成后,關(guān)掉下定盤旋轉(zhuǎn)以及外接水管,此過程需在2min內(nèi)完成;

(3)研磨機(jī)研磨:研磨機(jī)臺(tái)清洗完成后,將研磨機(jī)臺(tái)調(diào)節(jié)為自動(dòng)狀態(tài),根據(jù)不同型號(hào)基板拋光工藝參數(shù)要求,調(diào)節(jié)研磨機(jī)臺(tái)參數(shù)后正常運(yùn)轉(zhuǎn)工作。

本發(fā)明采用的氧化鈰拋光粉型號(hào)為蒙銳。

優(yōu)選地,氧化鈰拋光粉與超純水的質(zhì)量比為8:100。

優(yōu)選地,研磨液的濃度范圍大于等于1.02g/cm2。

本發(fā)明的有益效果有:

(1)本發(fā)明的研磨液為超純水和氧化鈰拋光粉混合形成,氧化鈰拋光粉,具有切削力強(qiáng)、拋光時(shí)間短、使用壽命長、拋光精度高、粒度均勻等優(yōu)點(diǎn);超純水有利于提高液晶玻璃基板的表面研磨效果;

(2)本發(fā)明的方法,能有效地改進(jìn)液晶玻璃基板薄化工藝中研磨后基板表面機(jī)械劃傷等表面不良;在研磨機(jī)出液口設(shè)置了短筒絲襪,并在絲襪外面再次設(shè)置一個(gè)密度為200目過濾袋,液晶玻璃基板表面的機(jī)械劃傷顯著減少,提高了研磨后液晶玻璃基板表面粒良率;

(3)本發(fā)明可以減少研磨再返研磨,大幅降低了液晶玻璃基板薄化工藝中研磨后反拋率,降低了研磨機(jī)研磨時(shí)間,提升了生產(chǎn)效率。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的工藝流程圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。

實(shí)施例1

一種液晶玻璃基板薄化后研磨處理方法,包括如下步驟:

(1)研磨液的配制:研磨液為超純水和氧化鈰拋光粉混合形成;

從動(dòng)力部門接入超純水管道至研磨機(jī)臺(tái);

先將研磨桶清洗干凈,確保內(nèi)壁無殘留異物或塊狀拋光粉;然后加入2/3桶超純水,開啟研磨液循環(huán),將管道中殘留的研磨液沖刷干凈,再將研磨桶中剩余的純水倒掉,如果研磨桶內(nèi)還有異物,需繼續(xù)清洗至干凈;

加入超純水至研磨桶上方約5cm處,開啟攪拌,加入2000mL粒徑為1.0μm氧化鈰拋光粉;本發(fā)明采用的氧化鈰拋光粉型號(hào)為蒙銳;氧化鈰拋光粉與超純水的質(zhì)量比為8:100;研磨液的濃度范圍大于等于1.02g/cm2。

在研磨機(jī)研磨液出液管道中的兩個(gè)出液口設(shè)置短筒絲襪,并在絲襪外面再次設(shè)置一個(gè)密度為200目,長150mm寬90mm的過濾袋,設(shè)置完成后,用手輕輕拉扯過濾袋,如果發(fā)現(xiàn)輕易就將其扯動(dòng),則需重新對(duì)過濾袋進(jìn)行設(shè)置,以防止其在研磨過程中掉落,導(dǎo)致品質(zhì)異常;

(2)研磨機(jī)清洗:

a)上定盤清洗:先將機(jī)臺(tái)調(diào)整為手動(dòng)操作狀態(tài),然后手動(dòng)把上定盤打到水平位置,一手用水槍對(duì)上定盤表面進(jìn)行沖洗,另一手用毛刷對(duì)其表面進(jìn)行洗刷,將表面可去除的拋光粉殘留清洗潔凈;注意上定盤表面是否有玻璃殘?jiān)蚱渌参铮缬写祟愇锲繁仨殞⑵淝宄?,若有部分結(jié)塊拋光粉殘留刷不掉,可將其留在上定盤表面,此過程需在2min內(nèi)完成;

b)拋光墊清洗:上定盤清洗潔凈后,將其上升至最高處后,手動(dòng)打開下定盤旋轉(zhuǎn),一手用水槍對(duì)拋光墊表面進(jìn)行沖洗,另一手用毛刷對(duì)機(jī)臺(tái)表面進(jìn)行洗刷,洗刷順序由拋光墊中間位置開始向外逐一對(duì)整個(gè)拋光墊表面進(jìn)行洗刷,此過程需在1min內(nèi)完成;

c)研磨機(jī)臺(tái)清洗:拋光墊清洗完成后打開外接水管,水量需控制在一定范圍內(nèi),若水量過大,清洗后廢水會(huì)從切液口溢流到拋光桶內(nèi),造成拋光液的污染,影響產(chǎn)品拋光品質(zhì),若水量過小,機(jī)臺(tái)不能清洗潔凈也會(huì)影響產(chǎn)品拋光品質(zhì)。用水管口對(duì)機(jī)臺(tái)擋板以及下定盤底部進(jìn)行沖洗,特別是下定盤底部殘留的拋光粉結(jié)塊,一定要沖洗掉。清洗完成后,關(guān)掉下定盤旋轉(zhuǎn)以及外接水管,此過程需在2min內(nèi)完成;

(3)研磨機(jī)研磨:研磨機(jī)臺(tái)清洗完成后,將研磨機(jī)臺(tái)調(diào)節(jié)為自動(dòng)狀態(tài),根據(jù)不同型號(hào)基板拋光工藝參數(shù)要求,調(diào)節(jié)研磨機(jī)臺(tái)參數(shù)后正常運(yùn)轉(zhuǎn)工作。

以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式,其描述較為具體和詳細(xì),但并不能因此而理解為對(duì)本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是,對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下,還可以做出若干變形、改進(jìn)及替代,這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此,本發(fā)明專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。

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