本發(fā)明涉及腐蝕控制
技術(shù)領域：
，尤其涉及在高溫暴露期間和高溫暴露后金屬基底的腐蝕控制。更特別地，本發(fā)明涉及一種用于在金屬基底上產(chǎn)生陰極高溫腐蝕防護的涂層，更特別是高溫腐蝕控制涂層。本發(fā)明還涉及一種用于生成陰極腐蝕控制層的第一涂層組合物和用于生成氧阻隔層的第二涂層組合物。此外，本發(fā)明涉及一種用于在金屬基底上生成高溫腐蝕控制涂層的方法。此外，本發(fā)明涉及一種包含腐蝕控制涂層的涂覆金屬基底。此外，本發(fā)明涉及氧阻隔層在改善陰極腐蝕控制涂層的溫度穩(wěn)定性方面的應用。最后，本發(fā)明涉及涂層組合物在改善陰極腐蝕控制涂層的溫度穩(wěn)定性方面的應用。金屬的腐蝕現(xiàn)象在所有工業(yè)領域都能普遍見到，并且具有重要的影響，因為機器、車輛、工業(yè)設備、甚至建筑的耐用性或使用壽命經(jīng)常決定性地依賴于所用金屬的耐腐蝕性能。腐蝕意味著金屬部件必須更換或修復，這些操作總是耗費時間、材料和成本。根據(jù)dineniso8044，腐蝕是金屬與其環(huán)境之間的物理化學相互作用，這導致了金屬性質(zhì)的改變并能導致對金屬的功能、使用金屬所處的環(huán)境或技術(shù)系統(tǒng)產(chǎn)生相當大的不利影響。金屬腐蝕通常包括電化學過程，具體是任選在電解質(zhì)水溶液存在下，金屬被氧氧化，形成金屬氧化物層。因為腐蝕過程通常決定了金屬或金屬組件的耐用性或使用壽命，因此有必要降低金屬的易腐蝕性和腐蝕速率。保護金屬免受腐蝕的一種方式是使用被動系統(tǒng)-涂層，例如保護性涂層-旨在保護金屬免受環(huán)境影響以免腐蝕。另一種方式是使用主動系統(tǒng)，其中待保護的金屬組件用作陰極-使用電化學過程-因此立即降低了金屬的氧化或形成金屬離子。該陰極腐蝕控制一方面通過施加外部電壓獲得，另一方面，也還能夠使待保護的金屬組件與一堿性金屬，即具有低電化學標準電勢的一種金屬電接觸。兩種金屬形成了電化學體系，其中堿性金屬代表陽極，稱為犧牲陽極，被氧化，同時更昂貴的金屬為陰極，其上發(fā)生還原。陰極腐蝕控制的一種具體形式是用比待保護的金屬堿性更強的金屬涂覆待保護的金屬部件。一種更普遍的涂覆金屬形式，特別是涂覆鋼板的形式是鍍鋅形式。利用鍍鋅，在稱為熱浸鍍鋅的工藝中，通過通常將鋼，特別是鋼板浸入到熔融鋅的熔池涂覆元素鋅，以形成熱浸鍍鋅鋼板-hdgs。鍍鋅的另一普遍可能性是電解鍍鋅或電鍍鋅，其中鋼板或鋼組件通過在包含鋅離子的電解質(zhì)池中施加外電壓涂覆一層鋅。上述兩種方法都得到了均勻的，耐久的鋅涂層，這能夠顯著延長金屬組件的壽命，但在一定的使用條件下也具有一系列的弊端。在高強度鋼的情況下，電鍍過程中形成的氫是一個弊端，因為存在氫脆化的可能性。用于涂覆的復雜幾何形狀或塊材也不能無缺陷的熱浸鍍鋅，因為，如凹陷區(qū)域?qū)錆M鋅，或者精細結(jié)構(gòu)表面形態(tài)將會堆積鋅。此外，純的元素鋅涂層在溫度負載下不具有令人滿意的結(jié)果，這些不令人滿意的結(jié)果一方面歸因于鋅的低熔點，約420℃，另一方面歸因于即使在遠低于熔點的溫度，空氣中的氧都加速鋅氧化成氧化鋅。為了至少避免一些熱浸鍍鋅或電鍍鋅金屬部件的弊端，實踐中經(jīng)常使用所謂的鋅片涂層。鋅片涂層在主要的無機粘合劑中包含有鋅薄片，即片狀的鋅顏料。粘合劑和鋅薄片的混合物通常以分散液的形式涂覆到待保護的金屬部件上，粘合劑隨后交聯(lián)形成不能滲透的、均勻?qū)?，厚度?-15μm。盡管鋅顆粒嵌入粘合劑基底中，但鋅片涂層具有導電性并保證了較高的陰極保護；特別地，在按照dineniso9227的帶標記的鹽霧試驗中，鋅片涂層相對于鍍鋅或電鍍鋅的金屬部件具有顯著改善的耐腐蝕性。鋅片涂層通常由二氧化硅或二氧化鈦的主要無機基質(zhì)組成，其中嵌入有鋅層。通常以相應涂層組合物形式應用至基底的鋅片涂層，也被稱為鋅片底漆，如wo2007/130838a2中所述。在正常情況下，電鍍鋅、熱浸鍍鋅獲得涂層或者鋅片涂層都具有高水平的耐腐蝕保護。然而在高溫下，鋅涂層，特別是鋅片涂層提供的陰極腐蝕控制，即使在很短的高溫暴露后，也會顯著降低，甚至完全破壞。例如，用鋅薄片底漆處理的鋼板，在經(jīng)受幾小時的200℃高溫暴露后，或者300℃的加速高溫暴露，并隨后經(jīng)受根據(jù)dineniso9227的帶標記的鹽霧試驗，也不再具有腐蝕控制或者至少不再具有足夠的腐蝕控制，事實歸因于鋅氧化形成氧化鋅，氧化鋅并不會提供陰極保護。因此，在現(xiàn)有技術(shù)中，并不缺乏增加鋅涂層溫度穩(wěn)定性的努力。在一些情況下，例如，使用包含極少量錳的鋅合金涂層，以使得涂覆鋼部件短暫加熱到900℃溫度進行隨后的熱成型操作，而不損傷陰極腐蝕控制。然而，極少量的錳的使用使該過程成本高。此外，此類陰極腐蝕控制僅能耐受短時間的溫度負載。經(jīng)過長時間后，在高溫不能保持陰極腐蝕控制。含鋅涂層的溫度穩(wěn)定性能夠通過所謂的鍍鋅工藝獲得，其中首先將第一鋅層涂覆到鋼基底上，通過隨后的熱處理，在基底表面上獲得確定的鐵-鋅合金。相比于純鋅涂層，鐵-鋅合金對溫度負載和對機械應力都不太敏感，但它們表面快速地呈現(xiàn)紅銹，迫使在隨后的涂覆中進行昂貴的和不方便的清潔?？紤]到易發(fā)生紅銹，鍍鋅鋼基底的表面具有較低美觀度，因此通常排除了在無其他涂覆的可視部分中的應用。鍍鋅涂層的另一缺點在于形成了鐵-鋅合金，從技術(shù)和能量的角度看，鐵-鋅合金在惰性氣氛下以高成本且不便利的方式形成，高溫下涂層也具有增加腐蝕的傾向，盡管比純鋅情況下少。de102012005806a1描述了一種兩層的涂層體系，具有包含鋅粒子的第一層，和所述層上方的包含鋁粒子的第二層。兩個層都包含環(huán)氧化物改性的烷氧基硅烷粘合劑。通過選擇合適的催化劑，試圖實現(xiàn)兩個層的同時固化，因此推測產(chǎn)生了具有陰極腐蝕控制性能的良好附著力的涂層。然而，該涂層也僅能耐受約300℃的短期溫度負載而無陰極腐蝕控制顯著降低或破壞。因此在現(xiàn)有技術(shù)中，目前還缺少適當?shù)闹鲃痈g控制，特別是基于鋅涂層的，即使在較長持續(xù)的溫度負載和隨后經(jīng)受這樣的溫度負載也能維持陰極腐蝕控制效果。此類耐高溫的腐蝕控制涂層將能夠獲得如在加熱區(qū)域內(nèi)的引擎、排氣系統(tǒng)和螺旋系統(tǒng)、能量回收裝置或工業(yè)設備中金屬部件耐用性或使用壽命的顯著增加。因此，本發(fā)明的目的在于提供一種高溫腐蝕控制涂層，其中上述以及現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題和弊端將至少大部分避免或者至少減少。本發(fā)明的另一目的在于提供一種在較長持續(xù)溫度負載或間隔類溫度負載下具有高水平腐蝕控制，更特別是陰極腐蝕控制的涂層。特別是要試圖保證涂層還提供根據(jù)dineniso9227的帶標記鹽霧試驗中隨著高溫暴露的良好結(jié)果。最后，本發(fā)明的又一目的在于提供一種涂層，該涂層可靈活地用于各種應用中，同時具有顯著的高溫腐蝕控制。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，本發(fā)明的主題是根據(jù)權(quán)利要求1的一種用于產(chǎn)生陰極高溫腐蝕保護的涂層，更特別是高溫腐蝕控制涂層。本發(fā)明該方面的其他優(yōu)選實施方式是相關從屬權(quán)利要求的主題。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，本發(fā)明的另一主題是用于生成陰極腐蝕控制涂層的涂層組合物。根據(jù)本發(fā)明的第三方面，本發(fā)明的又一主題是用于生成氧阻隔涂層的涂層組合物。此外，根據(jù)本發(fā)明的第四方面，本發(fā)明的又一主題是根據(jù)權(quán)利要求12，用于在金屬基底上生成高溫腐蝕控制涂層的方法。根據(jù)本發(fā)明的第五方面，本發(fā)明還提供了根據(jù)權(quán)利要求13，一種包含腐蝕控制涂層的涂覆基底。本發(fā)明的又一主題是根據(jù)權(quán)利要求14，氧阻隔涂層用于獲得陰極腐蝕控制涂層的高溫穩(wěn)定性的用途。最后，本發(fā)明的又一主題是根據(jù)權(quán)利要求15，氧阻隔涂層組合物用于改善陰極腐蝕控制涂層溫度穩(wěn)定性的用途。容易理解的是，特性、特征、形式和實施方式，以及優(yōu)點等僅在下文中就本發(fā)明的一個方面進行了闡述，為了避免不必要的重復，不言而喻也可用于本發(fā)明的其他方面，而無需明確說明。同樣容易理解的是，下文說明的任何數(shù)值、數(shù)字和范圍都不應該解釋為限制各個數(shù)值、數(shù)字和范圍的說明；本領域的技術(shù)人員可以理解，在特定情況下或?qū)τ谔囟☉茫x所述范圍和說明是可能的，都不脫離本發(fā)明的范圍。此外，下文說明的任何數(shù)值/參數(shù)特定值等原則上可使用標準化的或明確說明的確定方法或者用本領域的技術(shù)人員熟悉的確定方法進行確定。此外，不言而喻的是，所有重量或質(zhì)量百分比都將由本領域的技術(shù)人員選擇共計為100％的方式，然而這是不言而喻的。接著上文，下面更詳細地說明本發(fā)明。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，本發(fā)明的主題因此是一種用于在金屬基底上生成陰極高溫腐蝕保護的涂層，特別是一種高溫腐蝕控制涂層，具有至少兩個層，其中所述涂層具有：(a)陰極腐蝕控制涂層形式的第一層和(b)另一腐蝕控制涂層形式，尤其是氧阻隔涂層形式的第二層。在本發(fā)明的上下文中，因此能夠使用一種包含陰極腐蝕控制層和另一腐蝕控制層，尤其是氧阻隔層的涂層，來獲得陰極高溫腐蝕防護，由此不僅在高溫暴露期間保護金屬基底，此外，還隨著溫度暴露以及在重復溫度暴露的情況下也不會失去其陰極保護效果。因此，本發(fā)明的涂層不僅在較長持續(xù)的溫度暴露情況下具有陰極腐蝕控制，而且，在間斷等溫度暴露情況下也如此，例如發(fā)動機車輛的引擎所發(fā)生的。用于本發(fā)明目的的氧阻隔層是腐蝕控制層或腐蝕控制涂層，其保護金屬特別是鐵和/或鋼免受氣體尤其是氧氣的氧化，優(yōu)選在高溫下如此。特別地，與還沒有進行涂覆的腐蝕控制涂層相比，或者與其他如用清漆或油漆涂覆的腐蝕控制涂層相比，基底和第一個陰極保護層的氧化所需要的氧滲透被阻止或者至少顯著延遲。適合的氧阻隔涂層原則上是已知的，并通常用于金屬的熱成型，特別是鋼的熱成型中，例如用于可壓力硬化的鋼—也稱壓力硬化鋼的加工中。在可壓力硬化鋼的加工中，將具有氧阻隔層的金屬基底，加熱到約950℃，然后在壓力下成型(形成)。氧阻隔層防止了金屬表面結(jié)垢即金屬表面氧化，因此通常也稱為結(jié)垢控制層或結(jié)垢控制涂層。結(jié)垢妨礙了金屬基底隨后的處理或其應用，因為結(jié)垢層迫使在制備隨后涂層中進行高成本和不方便的清潔過程。結(jié)垢層的形成也改變了組件的尺寸，結(jié)垢的黑色脆性層也不利地影響組件的美觀和表面質(zhì)量。特別是，結(jié)垢層的剝落也引起在機械加工操作中污染的問題。在本發(fā)明的上下文中，對于通常的陰極腐蝕控制涂層，特別是鋅基的那些涂層，以及對于涂覆其上的結(jié)垢控制涂層，都能獲得良好的結(jié)果。令人驚奇的是，在金屬上的鋅涂層，例如電鍍鋅的和熱浸鍍鋅的鋼，特別是鋼上的鋅片涂層，在溫度暴露時快速地失去了它們的陰極腐蝕控制效果。陰極腐蝕防護的失去一方面歸因于鋅的氧化，另一方面歸因于涂層中裂紋的發(fā)生以及涂層的部分分層。特別地，鋅片涂層，根據(jù)dineniso9227，在使用標記的鹽霧試驗中于1000小時或更多，10μm的層厚通常在標記處具有紅銹抑制作用，但在300℃以上的溫度暴露后僅具有低水平的陰極腐蝕控制，甚至不再有陰極腐蝕控制，這一缺點在標記處和表面中都適用。用于本發(fā)明目的的至少兩層涂層防止了這一問題出現(xiàn)，因為具有本發(fā)明涂層的金屬基底，即使經(jīng)如500℃的較長持續(xù)的溫度暴露后，根據(jù)dineniso9227的帶標記的鹽霧試驗中，還具有顯著的陰極腐蝕控制效果。本文中特別令人驚奇的事實在于，即使將根據(jù)本發(fā)明涂覆的基底長時間或重復加熱到元素鋅的熔點之上，本發(fā)明的涂層的陰極腐蝕控制效果也能保持。正如上文已觀察到的，使用標準商用陰極腐蝕控制涂層，以及同樣的標準商用氧阻隔涂層，更特別是結(jié)垢控制涂層，能夠獲得杰出的效果。具體地互相精細調(diào)整兩個層，可另外顯著地改善高溫陰極腐蝕控制。特別是本發(fā)明已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，即使是在500℃以上溫度的較長持續(xù)地加熱涂覆的金屬基底后還保持有陰極腐蝕控制。因此，具有本發(fā)明涂層的基底能夠加熱到高于純鋅熔點或所用鋅合金熔點之上的溫度，而不會降低或甚至完全破壞陰極腐蝕控制。金屬基底通常包括至少一種選自鋁和鐵的金屬，優(yōu)選鐵，或者由其合金組成。根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選的實施方式，基底由鋼組成。在本發(fā)明的上下文中，存在通用規(guī)定，即第一層設置在第二層和基底之間。尤其是，第二層直接涂覆到第一層時，在本發(fā)明中獲得了特別好的結(jié)果。本發(fā)明的涂層因此優(yōu)選應用為基底上的兩層涂層，由底漆或底層，以及頂層構(gòu)成。此處可規(guī)定有其他的層，例如附著促進層，例如轉(zhuǎn)換層，設置在涂層和基底之間。就涂層涂覆到基底上的厚度而言，可在較寬范圍內(nèi)變化。然而，如果涂層的層厚在0.5-200μm，更特別是1-180μm，優(yōu)選2-150μm，更優(yōu)選3-120μm，還更優(yōu)選4-100μm的范圍時，獲得了特別好的結(jié)果。如果第一層以鋅片涂層形式涂覆到基底上時，涂層通常的層厚范圍從1-30μm，更特別是2-20μm，優(yōu)選3-15μm，更優(yōu)選4-10μm。因此，特別是當使用鋅片涂層時，本發(fā)明的涂層僅具有小的層厚，因此基底中的輪廓仍然可見且不會失去它們的辨別性或清晰度。此外，本發(fā)明的涂層可靈活使用，也能容易地重新涂覆或涂覆。如上文已觀察到的，本發(fā)明的涂層具有杰出的腐蝕控制效果。通常，在本發(fā)明的上下文中，根據(jù)dineniso4628評估時，先經(jīng)30天300℃高溫暴露后至少500小時的一段時間內(nèi)，更特別是600小時，優(yōu)選800小時，更優(yōu)選900小時，還更優(yōu)選1000小時，在根據(jù)dineniso9227的帶標記的鹽霧試驗中，于具有涂層的基底上，規(guī)定并未在標記處形成紅銹和/或未觀察到涂層的損壞。對于本發(fā)明的目的，dineniso9227的參考通常涉及2012年9月，即09/2012的標準版本。dinen35iso4628的參考通常涉及2013年3月即03/2013的標準標版。此外，在本發(fā)明的上下文中，根據(jù)dineniso4628評估時，先經(jīng)30天300℃高溫暴露后500小時-3000小時的一段時間內(nèi)，更特別是600-2500小時，優(yōu)選800-2000小時，更優(yōu)選900-1800小時，還更優(yōu)選1000-1500小時，在根據(jù)dineniso9227的帶標記的鹽霧試驗中，于具有涂層的基底上，未在標記處形成紅銹和/或未觀察到涂層的損壞。通常，具有本發(fā)明涂層的基底，根據(jù)dineniso4628評估時，先經(jīng)30天300℃高溫暴露后，在根據(jù)dineniso9227的帶標記的鹽霧試驗中，與沒有額外氧阻隔層的陰極腐蝕控制涂層相比，僅在兩倍的測試持續(xù)時間后于標記處具有紅銹形成，更特別是五倍的持續(xù)時間，優(yōu)選10倍，更優(yōu)選20倍的持續(xù)時間。根據(jù)本發(fā)明的一優(yōu)選實施方式，根據(jù)dineniso4628評估時，先經(jīng)48小時以上450℃高溫暴露后至少80小時的一段時間內(nèi)，更特別是100小時，優(yōu)選150小時，更優(yōu)選200小時，還更優(yōu)選250小時，在根據(jù)dineniso9227的帶標記的鹽霧試驗中，于具有涂層的基底上，并未在標記處形成紅銹和/或未觀察到涂層的損壞。同樣可能的是，根據(jù)dineniso4628評估時，先經(jīng)48小時以上450℃高溫暴露后至少80-1000小時的一段時間內(nèi)，更特別是100-800小時，優(yōu)選150-600小時，更優(yōu)選200-500小時，還更優(yōu)選250-350小時，在根據(jù)dineniso9227的帶標記的鹽霧試驗中，于具有涂層的基底上，并未在標記處形成紅銹和/或未觀察到涂層的損壞。通常，具有本發(fā)明涂層的基底，根據(jù)dineniso4628評估時，先經(jīng)48小時以上450℃高溫暴露后，在根據(jù)dineniso9227的帶標記的鹽霧試驗中，與沒有額外氧阻隔層的陰極腐蝕控制涂層相比，僅在三倍的測試持續(xù)時間后于標記處具有紅銹形成，更特別是五倍的持續(xù)時間，優(yōu)選10倍，更優(yōu)選20倍的持續(xù)時間。在本發(fā)明的上下文中，因此可能的是，根據(jù)dineniso4628評估時，先經(jīng)48小時以上500℃高溫暴露后至少80小時的一段時間內(nèi)，更特別是100小時，優(yōu)選150小時，更優(yōu)選200小時，還更優(yōu)選250小時，在根據(jù)dineniso9227的帶標記的鹽霧試驗中，于具有涂層的基底上，并未在標記處形成紅銹和/或未觀察到涂層的損壞。同樣對其規(guī)定的是，根據(jù)dineniso4628評估時，先經(jīng)48小時以上450℃高溫暴露后至少80-1000小時的一段時間內(nèi)，更特別是100-800小時，優(yōu)選150-500小時，更優(yōu)選200-450小時，還更優(yōu)選250-350小時，在根據(jù)dineniso9227的帶標記的鹽霧試驗中，于具有涂層的基底上，并未在標記處形成紅銹和/或未觀察到涂層的損壞。通常，具有本發(fā)明涂層的基底，根據(jù)dineniso4628評估時，先經(jīng)48小時以上500℃高溫暴露后，在根據(jù)dineniso9227的帶標記的鹽霧試驗中，與沒有額外氧阻隔層的陰極腐蝕控制涂層相比，僅在兩倍的測試持續(xù)時間后于標記處具有紅銹形成，更特別是三倍的持續(xù)時間，優(yōu)選5倍，更優(yōu)選10倍，還更優(yōu)選20倍的持續(xù)時間。因此本發(fā)明的涂層能夠在高溫和/或?qū)嶋H上位于所用犧牲金屬的，更特別是鋅和適當鋅合金的熔點溫度之上高溫暴露后進行陰極腐蝕控制。這是非常令人驚奇的，因為，特別是基底犧牲金屬通常更容易在高溫增強和快速腐蝕。特別地，該結(jié)果相對于本文中優(yōu)先使用的鋅片體系而言是非常令人驚奇的。不希望被理論束縛，鋅片體系在高溫暴露后改善的腐蝕控制可歸因于以下事實，即含鋅涂層體系中的惰性粘合劑，通常主要是無機基的，確保了鋅粒子一方面在融化期間大部分保持它們的形狀或者在粘合劑中至少存在單個的鋅島狀物，另一方面，通過粘合劑合并氧阻隔層額外保護鋅免受氧化。本發(fā)明的涂層的第一層層厚范圍通常為0.1-180μm，更優(yōu)選0.5-150μm，優(yōu)選1-140μm，更優(yōu)選2-110μm，還更優(yōu)選2-90μm。如果第一層以鋅片涂層形式涂覆到基底上時，那么第一層通常的層厚范圍為0.1-25μm，更特別1-15μm，優(yōu)選2-10μm，更優(yōu)選4-8μm。在本發(fā)明的上下文中對于第一層通常的規(guī)定是包含至少一種金屬，選自由鋅、鋁、鎂、鉍、錫、鎳和錳以及其混合物和合金組成的組中，優(yōu)選第一層金屬包含鋅、鋁、鎂以及其混合物和合金。為了能夠保證陰極腐蝕控制，所用的金屬必須具有低于基底材料的電化學標準電勢，或者基底材料，由于鈍化，特別是自我鈍化，必須防止以氧化涂層金屬的方式氧化。相對基底而言，上述金屬形成了所謂的犧牲金屬或犧牲陽極，其取代基底被腐蝕。如果第一層包含鋅和/或鋅合金，本發(fā)明的上下文中獲得了良好的結(jié)果。在經(jīng)濟有利的情況下，鋅和鋅合金保證了最有效的腐蝕控制，更特別是高溫腐蝕控制。在本發(fā)明的上下文中，優(yōu)選的是，如果涂層表面面對的環(huán)境是，特別是至少基本無鐵時，特別是無鐵-鋅合金時。為本發(fā)明的目的優(yōu)先使用的陰極腐蝕控制涂層優(yōu)選非鐵-鋅合金，特別是鍍鋅涂層。下面就第一層的形成而言，將金屬或多種金屬以不同方式涂覆到基底上。然而在本發(fā)明的上下文中，如果第一層通過電解或熱浸鍍鋅涂覆形成在鋅層基礎上時，能夠獲得特別好的效果。在熱浸鍍鋅的情況下，待處理的基底浸入到液態(tài)鋅槽中，隨后冷卻，在基底上保留下一層薄的鋅涂層。對于電解鍍鋅，也稱為電鍍鋅，將待涂覆的基底浸入到含鋅離子的電解槽中。施加外部電壓，金屬基底用作陰極，使得均勻的鋅層沉積在金屬基底上。熱浸鍍鋅和電鍍鋅或電解鍍鋅都是制備具有活性陰極腐蝕控制的鋅涂層鋼基底中的常規(guī)方法。如果第一層形成在包含金屬粒子，更特別是金屬抗腐蝕顏料的基質(zhì)基礎上時，在本發(fā)明的上下文中獲得了最佳的結(jié)果。在本文中已證實是特別合適的是，如果至少一些金屬粒子包含鋅和/或鋅合金。用于本發(fā)明目的的基質(zhì)是固化的粘合劑，優(yōu)選圍繞和完全潤濕金屬粒子。用于本發(fā)明目的的基質(zhì)特別包含任選的小部分有機物的無機體系或無機-有機雜化材料，優(yōu)選基于任選改性的二氧化硅、二氧化鈦和二氧化鋯形成。對于第一層中金屬粒子的數(shù)量，它當然可在較寬范圍內(nèi)變化。然而，為了本發(fā)明的目的，如果以第一層計，第一層包含至少50wt％，更特別是至少60wt％，優(yōu)選至少70wt％的金屬粒子時，獲得了特別好的結(jié)果。同樣地，如果以第一層計，第一層包含金屬粒子的百分數(shù)范圍為50-95wt％，更特別是60-95wt％，優(yōu)選70-90wt％。正如已發(fā)現(xiàn)的，不僅組合物中的金屬粒子部分或它們的化學組合物，對產(chǎn)生陰極保護效果都是關鍵的，而且粒子形態(tài)也對腐蝕保護具有關鍵的影響。第一層通常包括片狀和/或粒狀，更特別是球狀的金屬粒子。優(yōu)選的是，第一層包含片狀的金屬粒子。在現(xiàn)有技術(shù)的語言中，片狀金屬粒子也稱為片或片層。片狀金屬粒子在一個空間方向上具有顯著低的尺寸，下面也稱為厚度；在其他兩個空間方向上的尺寸下文稱為直徑。粒狀金屬粒子是不規(guī)則形狀的金屬粒子，而球狀金屬粒子具有約球體的形狀。球形金屬粒子的使用優(yōu)于粒狀金屬粒子的使用。本發(fā)明使用的金屬粒子的尺寸可同樣根據(jù)其他條件在較寬范圍內(nèi)變化。然而如果片狀金屬粒子的厚度為50-1000nm，更特別是60-750nm，優(yōu)選80-600nm，更優(yōu)選100-500nm時，獲得了特別好的結(jié)果。同樣規(guī)定了片狀金屬粒子的直徑為1-25μm，更特別是2-20μm，優(yōu)選5-18μm，更優(yōu)選5-15μm。此外，在本發(fā)明的上下文中，如果粒狀，更特別是球狀金屬粒子的粒子直徑范圍500nm-20μm，更特別是500nm-10μm，優(yōu)選500-5μm時，是優(yōu)選的。對于上述尺寸的金屬粒子，能夠獲得杰出的腐蝕控制的涂層，特別是結(jié)合精確的定量協(xié)調(diào)。通常，金屬離子形成在純鋅和/或鋅合金的基礎上。對于本發(fā)明上下文中優(yōu)先使用的鋅合金，鋅合金選自鋅-鉍合金、鋅-鋁合金和/或鋅-鋁-鎂合金、更特別是鋅鋁合金和/或鋅-鋁-鎂合金，優(yōu)選鋅-鋁-鎂合金。根據(jù)本發(fā)明的一優(yōu)選實施方式，第一層包含鋅片層作為片狀金屬粒子，更特別是在純鋅和/或上述鋅合金的基礎上。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，對于基于鋅-鋁-鎂合金的片狀金屬粒子能夠獲得特別好的結(jié)果，特別是由于鎂通常發(fā)生的快速的腐蝕，這是令人驚奇的。然而，令人驚訝的是，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，對于包含基于鋅-鋁-鎂合金的片狀金屬粒子的腐蝕控制涂層來說，能夠獲得顯著改善的腐蝕保護。具有基于鋅-鋁-鎂合金的片狀金屬粒子的涂覆體系，相對于常規(guī)鋅片體系而言，即使沒有額外的氧阻隔層，高溫暴露下也具有顯著改善的腐蝕控制性能。然而，氧阻隔層由于多個因素同樣增加了這些體系的溫度穩(wěn)定性。在本發(fā)明的上下文中，規(guī)定了第一層形成在鋅片涂層的基礎上。特別是為了本發(fā)明的目的，對于鋅片涂層，特別在高溫暴露下，獲得了特別好的腐蝕保護效果。此外，規(guī)定了第一層包含至少一種填料，以第一層計，數(shù)量為0.5-10wt％，更特別是1-8wt％，優(yōu)選1-5wt％?？墒褂玫奶盍蠋缀跏侨魏卧趹脳l件下惰性和穩(wěn)定的粒子物質(zhì)，更特別是無機礦物、玻璃、陶瓷物質(zhì)和金屬。然而，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，如果填料選自金屬，更特別是al、sn、ni、mn、bi、w或不銹鋼以及其混合物和合金時，獲得了特別好的結(jié)果，優(yōu)選al，更優(yōu)選鋁片。如果填料選自氮化硼、碳化鎢和玻璃時，同樣獲得了較好的結(jié)果。這些填料可替換金屬填料使用或與其一起使用。根據(jù)本發(fā)明的一特別的實施方式，由其獲得第一層的涂層組合物稱為超高固體含量組合物，即固體百分數(shù)達到100wt％，更特別是95-100wt％固體部分的涂層組合物。以組合物計，超高固體含量組合物還可具有達5wt％的溶劑部分。該溶劑部分通常用于調(diào)節(jié)涂層組合物的粘度和用于改善涂層組合物的應用性質(zhì)。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，如果涂層由超高固體含量的組合物獲得，必須對金屬粒子的數(shù)量選擇不同的優(yōu)選范圍。如果本發(fā)明的涂層的第一層由固體含量為95-100wt％的涂層組合物獲得。已經(jīng)證實，以第一層計，第一層包含至少35wt％、更特別是至少50wt％、優(yōu)選至少70wt％，更優(yōu)選至少80wt％的金屬粒子是合適的。同樣，根據(jù)該實施方式，以第一層計，第一層的金屬粒子百分數(shù)范圍為35-95wt％，更特別是50-95wt％，優(yōu)選70-90wt％，更優(yōu)選80-90wt％。根據(jù)該實施方式，以第一層計，如果第一層包含粒狀，更特別是球狀金屬粒子的數(shù)量為35-95wt％，更特別是50-90wt％，優(yōu)選70-90wt％，更優(yōu)選80-90wt％，獲得了特別好的結(jié)果。此處已經(jīng)證實，如果金屬粒子形成在鋅或鋅合金，優(yōu)選元素鋅的基礎上是合適的。根據(jù)該實施方式，如果粒狀或球狀金屬粒子形成在鋅粉基礎上時可獲得特別好的結(jié)果。此外，根據(jù)該實施方式，規(guī)定了以第一層計，第一層包含片狀金屬粒子的數(shù)量為0.1-50wt％，更特別是0.2-25wt％，優(yōu)選0.3-10wt％，更優(yōu)選0.5-5wt％。如果片狀金屬粒子形成在鋅或鋅合金，優(yōu)選元素鋅的基礎上時，在本文中獲得了特別好的結(jié)果。適當?shù)匿\合金特別是上述用于鋅片底漆的合金。當使用固體含量為95-100wt％的涂層組合物時，與溶劑基或水基涂層組合物相比，優(yōu)選使用球狀金屬粒子。特別是如果目的在于獲得例如通過噴涂涂覆的低粘度涂層組合物，因為球形金屬粒子相比片狀金屬粒子引起更少的涂層組合物粘度的增加。如上所述，本發(fā)明的涂層的第一層可具有無機基的基底。在本文中，如果無機基的基底經(jīng)有機改性，即包含鍵合到無機框架上的有機基團和/或有機官能團時，已經(jīng)證明是有利的。效果是能夠獲得第一層以及因此整個涂層柔性的增加，從而防止了如涂層剝落和/或從基底分離，或者在涂層中形成裂紋。通常，第一層的無機基基底包含無機氧化物，更特別是硅、鈦和/或鋯的氧化物，優(yōu)選二氧化硅和/或二氧化鈦，或者特別是基本上至少由上述的氧化物組成。上述的無機氧化物形成無機基的基質(zhì)框架，且無機基的基值也可由所述氧化物的混合物和/或共縮合物組成。通常，第一層的無機基基質(zhì)可通過無機或有機基團的縮合反應和/或有機基團的聚合反應，更特別是有機基團的縮合反應，所述有機基團來自硅烷、聚硅烷、硅烷水解物、聚硅氧烷、硅酸酯、鈦酸酯、聚鈦酸酯，鋯酸酯以及它們的混合物。如果有機基的基質(zhì)來自硅烷、硅烷水解物、聚硅氧烷、鈦酸酯、聚鈦酸酯，鋯酸酯及其混合物，獲得了特別好的結(jié)果。這些縮合和/或聚合反應可熱誘導或通過電磁輻射誘導。在本文中，所有縮合和/或聚合所需的反應物或催化劑可存在于待使用的涂層組合物中。替代地，用于開始化學反應的單個反應物和/或催化劑可不必加入，直到用涂層組合物涂覆基底之前或之后不久，或者擴散到涂層組合物中，如大氣濕度。本發(fā)明上下文中的聚合反應涉及導致單個分子和/或形成無機基質(zhì)的粒子連接的有機官能基團的反應。聚合反應例如可通過烯烴發(fā)生，例如丙烯酸酯、乙烯基或環(huán)氧化物。用于本發(fā)明目的的縮合反應是兩個或兩個以上分子和/或粒子的反應，其中在單個分子和/或粒子之間形成化學鍵并脫去水。有機基團的縮合反應實例是酯化和酰胺化。無機基團的縮合反應實例是無機酸衍生物，源生自鈦酸酯和/或烷氧硅烷和鋯酸酯的水解，并導致聚合無機氧化物的形成，更特別是二氧化硅、二氧化鈦和氧化鋯。高含量的無機化合物，即特別是二氧化硅、二氧化鈦和/或二氧化鋯，導致此處特別耐受高溫暴露的耐用涂層，通常一定含量的有機基團是必要的，用于提供涂層需要的柔韌性。純無機基的涂層是非常脆的，當有大量的機械負載時被破壞，導致了陰極腐蝕控制的降低或損失。對于第一層中無機基基質(zhì)的數(shù)量，它可以在寬范圍內(nèi)變化。然而，以第一層計，如果第一層包含無機基基質(zhì)的數(shù)量為5-45wt％，更特別是5-40wt％，優(yōu)選10-30wt％，更優(yōu)選10-20wt％時，獲得了特別好的結(jié)果。根據(jù)本發(fā)明的一優(yōu)選實施方式，無機基基質(zhì)通過有機基團進行改性。在本文中，已經(jīng)證明了合適的有機基團選自烷基、芳基和烯烴基團以及其混合物和反應產(chǎn)物。根據(jù)本發(fā)明的又一優(yōu)選實施方式，該有機基團是c1至c10烷基，更特別是c1至c5烷基，優(yōu)選c1至c3烷基，更優(yōu)選c1和/或c2的烷基。同樣優(yōu)選的有機基團是c6至c20芳基，更特別是c6至c15芳基，優(yōu)選c6至c10的芳基。另外規(guī)定了有機基團是c2至c10的烯烴基團，更特別是c2至c8烯烴基團，優(yōu)選c2至c5的烯烴基團，更優(yōu)選c2和/或c3的烯烴基團，非常優(yōu)選乙烯基團。對于上述有機基團，能夠獲得特別耐用同時又柔韌的無機基基質(zhì)。如果有機基團是甲基和/或乙基基團和/或乙烯基團，是特別優(yōu)選的。本發(fā)明的上下文中，進一步規(guī)定了有機基團另外具有極性化學基團，更特別選自醇、醚、硫醇、胺、醛、酮、酯、酰胺、氨基甲酸乙酯和/或羧酸，優(yōu)選醇、胺和/或羧酸。本發(fā)明涂層的第一層通常通過含溶劑的和/或水基涂層組合物獲得，該組合物在室溫或高溫下交聯(lián)。這一交聯(lián)在暴露到大氣濕度時可通過涂層組合物中存在的組分發(fā)生，特別是在溶劑基體系的情況下。然而，此外，如上所觀察到的，本發(fā)明的涂層的第一層也可能來自固體百分數(shù)為95-100wt％的涂層組合物，即來自所謂的超高固體涂層組合物。如果本發(fā)明的涂層的第一層獲得自固體含量95-100wt％的涂層組合物，那么第一層包含以第一層計，通常數(shù)量為5-65wt％，更特別是5-50wt％，優(yōu)選10-30wt％，更優(yōu)選10-20wt％的無機基基質(zhì)。通常，以組合物計，固體百分數(shù)95-100wt％的涂層組合物暴露到大氣濕度時交聯(lián)。對于本發(fā)明涂層的第二層，它優(yōu)選以氧阻隔層形式形成。通常，本發(fā)明涂層的第二層層厚范圍為0.1-50μm，更特別是0.5-40μm，優(yōu)選0.7-30μm，更優(yōu)選1-10μm，極優(yōu)選1-5μm，特別優(yōu)選1-3μm。本發(fā)明涂層的第二層，更特別是氧阻隔層，可由多種材料組成。因此例如第二層可以是僅由金屬組成的氧阻隔層，更特別是通過熱浸鍍鋁涂覆的鋁層。在本發(fā)明的上下文中，也規(guī)定了本發(fā)明涂層的第二層包含無機基的基質(zhì)，更特別是固化粘合劑或固化粘合體系。在本發(fā)明的上下文中，以第二層計，如果第二層包含的無機基的基質(zhì)數(shù)量為50-100wt％，更特別是60-100wt％，優(yōu)選65-95wt％，更優(yōu)選70-85wt％時，經(jīng)發(fā)現(xiàn)是合適的。本發(fā)明的涂層的第二層可完全或者幾乎完全由無機基的基質(zhì)組成，即整體的或交聯(lián)的粘合劑的無機基基質(zhì)組成，因此可以透明涂層的形式存在。通常，第二層的無機基基質(zhì)通過無機氧化物形成，更特別是硅、鈦和/或鋯的氧化物，優(yōu)選二氧化硅和/或二氧化鈦，更優(yōu)選二氧化硅，在本文中，規(guī)定了聯(lián)合使用如含硅、鈦-和鋯的前體物質(zhì)的混合氧化物和/或共縮合物。然而，如果無機氧化物是二氧化硅是優(yōu)選的，它任選包含少量的二氧化鈦。根據(jù)本發(fā)明的一優(yōu)選實施方式，無機基基質(zhì)是有機改性的。無機基基質(zhì)的有機改性導致第二層，更特別是氧阻隔層的柔性增加，從而防止了涂層的剝落或分層以及涂層內(nèi)部開裂。在本發(fā)明的上下文中，粘合劑通過有機基團改性時獲得了特別好的結(jié)果，特別是，有機基團選自烷基、芳基和烯烴基團及其混合物和反應產(chǎn)物。在本文中，規(guī)定了有機基團是c1-c10烷基基團，更特別是c1-c5烷基基團，優(yōu)選c1-c3烷基基團，更優(yōu)選c1和/或c2烷基基團。同樣規(guī)定了有機基團是c6至c20的芳基，更特別是c6至c15的芳基，優(yōu)選c6至c10的芳基。此外，有機基團可以是c2至c10烯烴基團，更特別是c2至c8烯烴基團，優(yōu)選c2～c5烯烴基團，更優(yōu)選c2和/或c3烯烴基團，非常優(yōu)選乙烯基團。如果有機基團選自甲基和或乙基基團以及甲苯基基團時，在本發(fā)明的上下文中獲得了特別好的結(jié)果。通常，第二層的無機基的基質(zhì)可來自硅烷、聚硅烷、硅烷水解物、聚硅氧烷、硅醇鹽(siliconates)、硅酸鹽(silicates)、鈦酸鹽、聚鈦酸酯、鋯酸鹽和磷酸二氫鋁，更具體是硅烷、硅烷水解物和聚硅氧烷及其混合物?；诙趸璧臒o機基基質(zhì)，特別顯示出高溫不透氣性以及涂層的優(yōu)良柔韌性。類似于第一層的無機基基質(zhì)，第二層的無機基基質(zhì)可通過有機和無機基團的聚合和縮合反應來獲得。根據(jù)本發(fā)明的一優(yōu)選實施方式，第二層的無機基基質(zhì)通過無機基團的縮合反應獲得。因此第二層的無機基基質(zhì)優(yōu)選通過無機氫氧化物的縮合反應生成，例如通過相應的烷氧基化合物水解獲得。這樣，獲得了特別耐用的涂層，該涂層在高溫也是耐氧化的。在高溫經(jīng)由有機基團連接涂層組合物的單個分子和/或粒子時，觀察到至少碳鏈的部分氧化，這導致涂層的腐蝕控制效果退化。此外，在本發(fā)明的上下文中，如果以無機基基質(zhì)計，第二層的無機基基質(zhì)的碳含量不超過50wt％，更特別是40wt％，優(yōu)選35wt％，更優(yōu)選30wt％時，獲得了非常好的結(jié)果。以無機基基質(zhì)計，如果第二層的無機基基質(zhì)的碳含量范圍從0.01-50wt％，更特別是0.05-40wt％，優(yōu)選0.1-35wt％，更優(yōu)選0.1-30wt％時，也是優(yōu)選的。如上已觀察到的，無機基基質(zhì)中一定的碳百分數(shù)通常是有利的，也是必要的，以便賦予涂層具有必要的柔韌性，盡管已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，太高的碳百分數(shù)，特別是使用較長的碳鏈基團時，導致了高溫時有機組分的氧化，這弱化了涂層的結(jié)構(gòu)以及腐蝕控制效果。如果第二層的涂料組合物的粘合劑選自聚硅酸鹽，更特別是水玻璃，優(yōu)選鈉和/或鉀的水玻璃，或磷酸二氫鋁時，獲得了具有良好機械性能的完全無碳的基質(zhì)。類似于第一層，第二層的無機基基質(zhì)也獲得自溶劑基和/或水基涂層組合物或者獲得自以涂層組合物計，固體含量95-100wt％的超高固體含量的涂層組合物。如上所述，本發(fā)明涂層的第二層也可是無金屬粒子的，即以透明涂層的形式，從而實現(xiàn)高溫下的腐蝕保護，這也是對現(xiàn)有技術(shù)中使用的腐蝕控制涂層顯著的改進。第二層還可以設置為惰性陶瓷或玻璃基顆粒，特別是薄片。然而，如果第二層包括金屬顆粒時，它能夠?qū)崿F(xiàn)陰極腐蝕控制的溫度穩(wěn)定性的進一步顯著改善。在本發(fā)明的上下文中，如果第二層包含金屬粒子是有利的。在那種情況下，規(guī)定了以第二層計，第二層包含至少5wt％，更特別是至少10wt％，優(yōu)選至少15wt％的金屬粒子。如果以第二層計，第二層包含的金屬粒子的百分數(shù)范圍從5-50wt％，更特別是10-40wt％，優(yōu)選15-30wt％時，是優(yōu)選的。以第二層計，如果第二層包含的金屬粒子的百分數(shù)范圍從35-95wt％，更特別是45-80wt％，優(yōu)選55-70wt％時，也能獲得特別好的結(jié)果。如果本發(fā)明涂層的第二層確實包含金屬粒子，那么這些粒子通?；阡\、鋁和/或鎂及其合金形成。此處特別優(yōu)選的是金屬粒子為鋁粒子。同樣規(guī)定了第二層包含片狀和/或粒狀的金屬粒子，更特別是球形金屬粒子，優(yōu)選片狀金屬粒子。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，片狀金屬粒子，特別是鋁片，組成了杰出的氧阻隔并有效防止了高溫下陰極腐蝕控制層的氧化。在本文中，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)片狀金屬粒子的厚度為10-1000nm，更特別是25-750nm，優(yōu)選40-600nm，更優(yōu)選50-500nm。如果片狀金屬粒子的直徑為50nm-25μm，更特別是100nm-20μm，優(yōu)選250nm-15μm，優(yōu)選500nm-10μm，非常優(yōu)選1-8μm，特別優(yōu)選3-5μm。對于所用的金屬粒子的尺寸，它可在較寬范圍內(nèi)變化。然而，如果片狀金屬粒子的厚度為50-1000nm，更特別是60-750nm，優(yōu)選80-600nm，更優(yōu)選100-500nm，獲得了特別好的結(jié)果。如果片狀金屬粒子的直徑為1-25μm，更特別是2-20μm，優(yōu)選5-18μm，更優(yōu)選5-15μm時，同樣是有利的。如果本發(fā)明涂層的第二層包括粒狀和/或球形金屬粒子，這些粒子通常的直徑范圍從500nm-10μm，更特別是500nm-5μm，優(yōu)選500nm-3μm。進一步規(guī)定了第二層包括其他粒子，更特別是填料。如果第二層包含填料，其數(shù)量可在較寬范圍內(nèi)變化。然而，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)第二層包含填料的數(shù)量以第二層計為0.5-10wt％，更特別是1-8wt％，優(yōu)選2-5wt％合適。本文中的填料應該是溫度穩(wěn)定的和氧化穩(wěn)定的，且也是惰性的，意味著他們必須在應用條件下不能與涂層、基底或環(huán)境的其他組分反應，更特別是與大氣氧反應。如果填料選自碳化鎢、氮化硼、玻璃粒子、磷化鐵、二氧化鋯、不銹鋼和它們的混合物。附圖說明圖1顯示了具有本發(fā)明的涂層1的金屬基底2；圖2顯示了具有基于純鋅片的陰極腐蝕控制涂層的鋼板，先經(jīng)48小以上時400℃高溫暴露后，根據(jù)dineniso9227實施帶標記的鹽霧試驗；圖3顯示了具有基于鋅-鋁-鎂合金片的陰極腐蝕控制涂層的鋼板，先經(jīng)48小時以上400℃高溫暴露后，根據(jù)dineniso9227實施帶標記的鹽霧試驗；圖4顯示了具有陰極腐蝕控制涂層和氧阻隔涂層的鋼基底，先經(jīng)48小時以上400℃高溫暴露后，根據(jù)dineniso9227實施帶標記的鹽霧試驗；圖5顯示了具有陰極腐蝕控制涂層的鋼板，經(jīng)48小時以上500℃高溫暴露后，根據(jù)dineniso9227實施帶標記的鹽霧試驗；和圖6顯示了具有陰極腐蝕控制涂層和具有氧阻隔涂層的鋼板，經(jīng)48小時以上500℃高溫暴露后，根據(jù)dineniso9227實施帶標記的鹽霧試驗；根據(jù)本發(fā)明的第二方面，本發(fā)明進一步提供了用于生產(chǎn)陰極腐蝕控制涂層的涂層組合物，更特別是具有高溫暴露后增強的腐蝕控制的涂層組合物，包括：(a)至少一種基質(zhì)形成劑，(b)金屬粒子和(c)任選的添加劑和輔料。此處本發(fā)明的上下文中的基質(zhì)形成劑含義是包含和封閉著金屬粒子的粘合劑以及任選的其他添加劑和輔料，且交聯(lián)和/或固化時形成固體基質(zhì)，其中嵌入了金屬粒子和任選的其他佐劑。在固化和/或交聯(lián)用于生產(chǎn)陰極腐蝕控制涂層的涂層組合物時，基質(zhì)形成劑優(yōu)選形成本發(fā)明涂層的第一層的無機基基質(zhì)。為了本發(fā)明的目的，基質(zhì)形成劑應該理解為形成優(yōu)選的無機基基質(zhì)一部分的涂層組合物的所有組分和/或化合物。在本發(fā)明的上下文中，此處特別地指出粘合劑和交聯(lián)劑之間不加以區(qū)別，因為申請人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，通常的用于硅烷基體系和/或聚硅氧烷基體系的交聯(lián)劑，如鈦酸四丁酯，本身也可以是固化和/或交聯(lián)的粘合劑和/或無機基基質(zhì)的主要成分。因此，基質(zhì)形成劑根據(jù)在期望的交聯(lián)和/或固化時間呈現(xiàn)涂層最大均勻性的標準選擇。因此，主要因素是選擇具有彼此相容的反應速率的基質(zhì)形成劑，以便在基質(zhì)部分設置期望的固化和交聯(lián)特性。本發(fā)明的涂層組合物通常是分散質(zhì)的形式。用于本發(fā)明目的的分散質(zhì)是任何一種至少兩相的混合物，更特別是均勻的混合物，由連續(xù)相、分散介質(zhì)和不連續(xù)相組成，分散物質(zhì)精細且均勻地分散在分散介質(zhì)中。在本文中，規(guī)定了組合物包含有機溶劑和/或水以使組合物具有以組合物計95-100wt％的固體含量。如果涂層組合物包含有機溶劑和/或水，那么涂層組合物以組合物計，通常包含它們的數(shù)量是0.5-60wt％，更特別是1-50wt％，優(yōu)選2-40wt％，更優(yōu)選5-30wt％?？墒褂玫挠袡C溶劑是所有適當?shù)挠袡C溶劑。特別合適的是芳族烴和脂族烴以及極性有機溶劑，如丙酮、醇，尤其是c1至c20的醇，優(yōu)選c2至c10的醇，更優(yōu)選c2至c8醇，腈或硝基化合物，特別是硝基丙烷。涂層組合物以組合物計，優(yōu)選包含至少30wt％，更特別是至少40wt％，優(yōu)選至少45wt％，更優(yōu)選至少50wt％的金屬粒子。如果涂層組合物以組合物計，金屬粒子的百分數(shù)范圍從35-95wt％，更特別是40-80wt％，優(yōu)選45-70wt％，更優(yōu)選50-60wt％。此外，在本發(fā)明的上下文中，如果至少一些金屬粒子包含鋅和/或鋅合金，獲得了良好的結(jié)果。根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選的實施方式，涂層組合物包含片狀和/或粒狀，更特別是片狀的金屬粒子。對于所用金屬粒子的尺寸，它可在較寬范圍內(nèi)變化。然而，如果片狀金屬粒子的厚度為50-1000nm，更特別是60-750nm，優(yōu)選80-600nm，更優(yōu)選100-500nm時，獲得了特別好的結(jié)果。同樣，如果片狀金屬粒子的直徑為1-25μm，更特別是2-20μm，優(yōu)選5-18μm，更優(yōu)選5-15μm時，是有利的。如果本發(fā)明的涂層組合物的確包含粒狀金屬粒子，特別是球狀金屬粒子，本發(fā)明的上下文中，優(yōu)選粒狀，更特別是球狀金屬粒子的粒子直徑范圍是500nm-20μm，更特別是500nm-10μm，優(yōu)選500nm-5μm。進一步規(guī)定了組合物包含至少一種填料，更特別是惰性填料，以組合物計，數(shù)量為0.1-10wt％，更特別是0.5-8wt％，優(yōu)選0.5-5wt％。特別在涂層組合物中使用的是針對本發(fā)明涂層的第一層上述的填料。對于用于生產(chǎn)無機基基質(zhì)的基質(zhì)形成劑，通常選自硅烷、聚硅烷、硅烷水解物、聚硅氧烷、硅酸鹽、聚硅酸鹽、鈦酸鹽、聚鈦酸鹽和鋯酸鹽，更特別是硅烷、硅烷水解物、聚硅氧烷、鈦酸鹽、聚鈦酸鹽及其混合物。此外，為了本發(fā)明的目的，如果基質(zhì)形成劑經(jīng)有機改性是優(yōu)選的。在本發(fā)明的上下文中，進一步規(guī)定了基質(zhì)形成劑通過有機基團和/或無機基團的縮合反應交聯(lián)和/或固化。也規(guī)定了基質(zhì)形成劑通過有機基團聚合反應交聯(lián)和/或固化。然而，如上所述，如果基質(zhì)形成劑通過縮合反應，特別是無機基團的縮合反應交聯(lián)和/或固化，在本發(fā)明的上下文中是優(yōu)選的。特別地，如果基質(zhì)形成劑用有機基團至少部分改性，在本發(fā)明的上下文中獲得了特別好的結(jié)果。在本文中，如果有機基團選自烷基、芳基和烯烴基團時已經(jīng)證明是合適的。如果基質(zhì)形成劑包含烷基基團，它們通常選自c1至c10烷基，更特別c1至c5烷基，優(yōu)選c1至c3烷基，更優(yōu)選c1和/或c2烷基。如果基質(zhì)形成劑包含芳基基團，它們通常選自c6至c20的芳基基團，更特別是c6至c15芳基基團，優(yōu)選c6至c10的芳基基團。如果基質(zhì)形成劑包含烯烴基團，它們通常選自c2至c10烯烴基基團，更特別是c2至c8烯烴基基團，優(yōu)選c2至c5的烯烴基基團，更優(yōu)選c2和/或c3烯烴基基團，非常優(yōu)選乙烯基團。如果基質(zhì)形成劑包含甲基和/或乙基基團和/或乙烯基團時，在本發(fā)明的上下文中獲得了特別好的結(jié)果。此外，在本發(fā)明的上下文中，規(guī)定了有機基團還具有極性化學基團，更特別選自羥基、醚、硫醇、胺、醛、酮和/或羧酸，優(yōu)選羥基、醚、胺和/或羧酸。根據(jù)本發(fā)明的一優(yōu)選實施方式，基質(zhì)形成劑選自通式i的硅烷：r4-nsixn(i)其中，r是烷基，更特別是c1-c5烷基，優(yōu)選c1-c3烷基，更優(yōu)選c1和/或c2烷基；芳基，更特別是c6-c20芳基，優(yōu)選c6-c15芳基，更優(yōu)選c6-c10芳基；烯烴基，更特別是端烯烴基，優(yōu)選c2-c10烯烴基，更優(yōu)選c2-c8烯烴基，非常優(yōu)選c2-c5烯烴基，特別優(yōu)選c2和/或c3烯烴基，更特別優(yōu)選乙烯；胺，更特別是c2-c10胺，優(yōu)選c2-c8胺，更優(yōu)選c2-c5胺，非常優(yōu)選c2和/或c3胺；羧酸，更特別是c2-c10羧酸，優(yōu)選c2-c8羧酸，更優(yōu)選c2-c5羧酸，非常優(yōu)選c2和/或c3羧酸；醇，更特別是c2-c10的醇，優(yōu)選c2-c8醇，更優(yōu)選c2-c5醇，非常優(yōu)選c2和/或c3的醇；x是鹵化物，更特別是氯化物和/或溴化物；烷氧基，更特別是c1至c6烷氧基，非常優(yōu)選c1至c4烷氧基，尤其優(yōu)選c1和/或c2烷氧基；且n為1-4，優(yōu)選2或3。在本文中，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，基質(zhì)形成劑選自通式ia的硅烷是合適的:r4-nsixn(ia)其中，r是c1-c3烷基，特別是c1和/或c2烷基；c6-c15芳基，特別是c6-c10芳基；c2和/或c3烯烴，特別是乙烯；x是烷氧基，特別是c1-c6烷氧基，更優(yōu)選c1-c4烷氧基，非常優(yōu)選c1和/或c2烷氧基；且n為2或3。如果基質(zhì)形成劑選自烷基硅烷、更特別是三烷氧基烷基硅烷、二烷氧基二烷基硅烷，和/或烷氧基三烷基硅烷，和或選自乙烯硅烷、更特別是三烷氧基乙烯硅烷、二烷氧基二乙烯硅烷和/或烷氧基三乙烯硅烷，在本發(fā)明的上下文中可以得到特別好的結(jié)果。特別是根據(jù)通式i和ia的硅烷來說是特別好的。如果基質(zhì)形成劑選自硅烷水解物、聚硅氧烷、特別是烷基聚硅氧烷，優(yōu)選c1-c3烷基聚硅氧烷和/或c1-c3烷氧基烷基聚硅氧烷，和/或選自乙烯基聚硅氧烷，和選自聚鈦酸酯時，同樣在本發(fā)明的上下文中是優(yōu)選的。如果基質(zhì)形成劑的重均分子量mw的范圍為200-200,000g/mol，更特別是500-150,000g/mol，優(yōu)選1000-100,000g/mol，更優(yōu)選2000-75,000g/mol，最優(yōu)選5000-50,000g/mol時，在本發(fā)明中獲得了特別好的結(jié)果。此外，在本發(fā)明的上下文中，如果基質(zhì)形成劑選自通式ii的鈦酸鹽，獲得了良好的結(jié)果tix4(ii)其中，x為鹵化物，更特別是氯化物和/或溴化物；烷氧基，特別是c1-c8烷氧基，優(yōu)選c1-c6烷氧基，更優(yōu)選c1-c4烷氧基。在本文中，如果基質(zhì)形成劑選自通式iia的鈦酸酯，已經(jīng)證明是合適的tix4(iia)其中，x為烷氧基，特別是c1-c8烷氧基，優(yōu)選c1-c6烷氧基，更優(yōu)選c1-c4烷氧基。此外，同樣基質(zhì)形成劑能夠選自通式iii的鋯酸鹽zrx4(iii)其中，x為鹵化物，特別是氯化物和/或溴化物；烷氧基，特別是c1-c8烷氧基，優(yōu)選c1-c6烷氧基，更優(yōu)選c1-c4烷氧基。如果基質(zhì)形成劑選自通式iiia的鋯酸鹽時，此處獲得了特別好的結(jié)果：zrx4(iiia)其中，x為烷氧基，特別是c1-c8烷氧基，優(yōu)選c1-c6烷氧基，更優(yōu)選c1-c4烷氧基。此外，在本發(fā)明的上下文中，能夠?qū)⒐璐见}(siliconate)用作基質(zhì)形成劑。如果使用通式iv的硅醇鹽時，在這種情況下獲得了特別好的結(jié)果：ho-[si(r)(om)-o-]nh(iv)其中n為1-6，特別是1-3，優(yōu)選1；r為c1-c10烷基和/或c6-c15芳基，特別是c1-c8烷基和/或c6-c12芳基，優(yōu)選c1-c6烷基和/或c6-c12芳基，更優(yōu)選c1-c4烷基，最優(yōu)選c1-c3烷基；m為一價金屬，特別是堿金屬，優(yōu)選鈉或鉀。在本文中，已經(jīng)證明硅醇鹽選自甲基硅醇鈉、甲基硅醇鉀、丙基硅醇鈉和丙基硅醇鉀是合適的。此外，基質(zhì)形成劑可能選自二氧化硅更特別是硅石，二氧化鈦和/或氧化鋯。如果涂層組合物包含二氧化硅、二氧化鈦和/或氧化鋯作為基質(zhì)形成劑，它們通常在涂層組合物中以粒子形式存在，更特別是少量存在，以涂層組合物計，更特別數(shù)量為0.1-10wt％，優(yōu)選0.2-5wt％，更優(yōu)選0.5-2wt％。在本發(fā)明的上下文中，如果涂層組合物包含至少兩種不同的基質(zhì)形成劑，特別是兩種反應性的基質(zhì)形成劑，獲得了特別好的結(jié)果。因此，為了本發(fā)明的目的，反應性的基質(zhì)形成劑是具有反應性功能化學基團的基質(zhì)形成劑。如可以是可水解基團或可聚合基團。功能性化學基團必須能在交聯(lián)條件下與其他基質(zhì)形成劑的分子或基質(zhì)形成劑的粒子發(fā)生反應。每種基質(zhì)形成劑的反應性應該進行選擇，以發(fā)生均勻的交聯(lián)，能夠均勻包含金屬粒子和其他添加劑。如果涂層組合物包含至少一種基于硅化合物的基質(zhì)形成劑和一種基于鈦化合物的基質(zhì)形成劑，在本發(fā)明的上下文中獲得了特別好的結(jié)果。通常，組合物包含的基質(zhì)形成劑數(shù)量以組合物計，為1-45wt％，更特別是2-40wt％，優(yōu)選5-30wt％，更優(yōu)選5-20wt％。進一步規(guī)定了組合物包含至少一種有機聚合物，更特別是惰性聚合物，優(yōu)選有機氟聚合物。如果組合物包含一種有機聚合物，其包含聚合物的數(shù)量以組合物計，為0.1-10wt％，更特別是0.2-5wt％，優(yōu)選0.5-1wt％。如果有機聚合物選自聚四氟乙烯、聚氟乙烯、聚偏氟乙烯，優(yōu)選聚偏氟乙烯時，這里獲得了特別好的結(jié)果。對于本發(fā)明的涂層組合物的粘度，可在較寬范圍內(nèi)變化。然而，如果組合物具有用勃羅克費爾特(brookfield)粘度計法在20℃測得的范圍是1到50000mpas，更特別是2至10000mpas，優(yōu)選5至1000mpas，更優(yōu)選5至500mpas，最優(yōu)選10到100mpas時的動態(tài)粘度，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)是合適的。為了本發(fā)明的目的，進一步規(guī)定了涂層組合物包含其他的添加劑和/或輔料。如果用于生成陰極腐蝕控制層的本發(fā)明的涂層組合物包含其他的添加劑和/或輔料時，它們通常選自流變添加劑、防腐劑、穩(wěn)定劑、酸和/或堿、表面活性劑、消泡劑組分、成膜劑、蠟、活性生物源成分、ph值穩(wěn)定劑和ph調(diào)節(jié)劑。在本發(fā)明的上下文中，規(guī)定了組合物在高溫下和/或通過輻射交聯(lián)和/或固化，更特別是在高溫下。對于組合物交聯(lián)和/或固化的溫度，它們可在較寬范圍內(nèi)變化。然而，已經(jīng)證明組合物交聯(lián)和/或固化的溫度范圍從30-350℃，優(yōu)選50-300℃，更優(yōu)選100-250℃，最優(yōu)選100-200℃。通常，組合物，特別是基質(zhì)形成劑，交聯(lián)和/或固化的時間為1分鐘-2小時，更特別是2分鐘-1小時，優(yōu)選3-30分鐘，更優(yōu)選4-20分鐘，最優(yōu)選5-15分鐘。高溫下，本發(fā)明的涂層組合物在極短的時間內(nèi)固化，如在工業(yè)生產(chǎn)中能夠有很高的產(chǎn)量。根據(jù)本發(fā)明的再一實施方式，組合物，更特別是基質(zhì)形成劑，在室溫交聯(lián)和/或固化，室溫固化的體系對基底來說是十分適合的，因為考慮到基底的尺寸，不能對其加熱和/或輻射，如工業(yè)設備和/或鋼結(jié)構(gòu)部件。本發(fā)明的涂層和涂層組合物在本文中特別適合用于重建對現(xiàn)有設備以及結(jié)構(gòu)的腐蝕保護。如果組合物和/或基質(zhì)形成劑在室溫交聯(lián)和/或固化，那么組合物，更特別是基質(zhì)形成劑的交聯(lián)和/或固化優(yōu)選的時間從1分鐘到2小時，更特別是2分鐘到1小時，優(yōu)選3-45分鐘，更優(yōu)選5-30分鐘。在室溫交聯(lián)的組合物，特別是基質(zhì)形成劑的情況下，另外規(guī)定了交聯(lián)通過大氣濕度引發(fā)。根據(jù)本發(fā)明的一特別實施方式，涂層組合物的固體含量以組合物計為95-100wt％。根據(jù)該實施方式，本發(fā)明的涂層組合物具有無溶劑和/或無水的形式，或者低溶劑和/或低水的超高固體含量的涂層組合物。以組合物計，本發(fā)明的固體含量95-100wt％的涂層組合物，優(yōu)選在室溫和/或在大氣濕度中固化。一方面從環(huán)境保護的觀點看，優(yōu)選完全不存在溶劑，另一方面，其是法定實施。通常，本發(fā)明的以組合物計，固體含量95-100wt％的涂層組合物是液體形式并經(jīng)歷完全的固化和/或交聯(lián)。因此，本發(fā)明的涂層組合物可以像水基和溶劑基體系那樣處理，特別是可以通過噴射涂覆。在粘度方面，本發(fā)明的涂層組合物相當于溶劑基和水基體系。超高固體含量的涂層組合物的特別合適的基質(zhì)形成劑是烷基聚硅氧烷樹脂，更特別是烷氧基烷基硅氧烷樹脂，更特別是具有上述的重均分子量mw。如果本發(fā)明的用于生產(chǎn)陰極腐蝕控制層的涂層組合物具有以組合物計，固體含量95-100wt％的形式，那么以組合物計，如果組合物包含至少35wt％，更特別是至少50wt％，優(yōu)選至少70wt％，更優(yōu)選至少80wt％的金屬粒子時，獲得了特別好的結(jié)果。同樣已經(jīng)證明了，組合物的金屬離子百分數(shù)范圍以組合物計為35-95wt％，更特別是50-95wt％，優(yōu)選70-90wt％，更優(yōu)選80-90wt％是合適的。根據(jù)該特定的實施方式，如果以涂層組合物計，包含粒狀，更特別是球狀的金屬粒子的數(shù)量為35-95wt％，更特別是50-90wt％，優(yōu)選70-90wt％，更優(yōu)選80-90wt％時，是優(yōu)選的。在本文中，如果金屬粒子基于鋅或鋅合金形成，優(yōu)選基于元素鋅形成是優(yōu)選的。此外，根據(jù)該實施方式，規(guī)定了以組合物計，涂層組合物包含片狀金屬粒子，更特別是鋅片的含量為0.1-50wt％，更特別是0.2-25wt％，優(yōu)選0.3-10wt％，更優(yōu)選0.5-5wt％。在文本中，已經(jīng)證明，如果金屬粒子基于鋅或鋅合金形成，優(yōu)選基于元素鋅形成是有利的。此外，根據(jù)該實施方式，通常規(guī)定了以組合物計，組合物包含的基質(zhì)形成劑的數(shù)量為5-65wt％，更特別是5-50wt％，優(yōu)選10-30wt％，更優(yōu)選10-20wt％。對于本發(fā)明的用于生產(chǎn)陰極腐蝕控制涂層的涂層組合物的其他細節(jié)，可參照上述相關的本發(fā)明涂層的觀察，這相應適用于本發(fā)明的用于生產(chǎn)陰極腐蝕控制涂層的涂層組合物。根據(jù)本發(fā)明的第三方面，本發(fā)明還提供了一種用于生產(chǎn)氧阻隔涂層的涂層組合物，包含無機基基質(zhì)形成劑和任選的輔料和添加劑。通常，涂覆到基底上的涂層組合物的層厚范圍為0.1-60μm，更特別是0.5-50μm，優(yōu)選0.7-35μm，更優(yōu)選1-10μm，非常優(yōu)選1-5μm，特別優(yōu)選1-3μm。涂層組合物通常是分散質(zhì)的形式。在本文中，規(guī)定了組合物包含有機溶劑和/或水，和/或規(guī)定了組合物具有以組合物計，固體含量為95-100wt％的涂層組合物形式。預期的有機溶劑是所有適當?shù)娜軇?，特別是所述的與生產(chǎn)陰極腐蝕控制層的涂層組合物相關的。第二涂層組合物優(yōu)選水基體系的形式或者具有以組合物計，固體含量95-100wt％的體系形式，優(yōu)選水基體系的形式。水基體系對環(huán)境是友好的，不需要高成本和不方便的裝置來收集和/或回收有機溶劑。此外，水基體系的使用也允許涂層組合物廣泛應用于應對工作場所安全的背景，因為不存在火災危險，且不會有有害健康的有機溶劑排入環(huán)境，特別是吸入的空氣。如果涂層組合物包含有機溶劑和/或水，那么以涂層組合物計，涂層組合物包含的有機溶劑和/或水的數(shù)量為30-90wt％，更特別是40-80wt％，優(yōu)選50-75wt％。然而，對于水基體系，特別是以涂層組合物計，如果涂層組合物包含不超過10wt％，更特別是不超過5wt％，優(yōu)選不超過3wt％，更優(yōu)選不超過1wt％的有機溶劑，獲得了最好的結(jié)果，特別是對于獲得涂層的溫度穩(wěn)定性而言。對于本發(fā)明的涂層組合物的粘度而言，它當然可在較寬范圍內(nèi)變化。然而，如果涂層組合物通過勃羅克費爾特粘度計法于20℃測量的動態(tài)粘度范圍為1-50000mpas，更特別是2-10000mpas，優(yōu)選5-1000mpas，更優(yōu)選5-500mpas，最優(yōu)選10-100mpas，獲得了特別好的結(jié)果。此外，在本發(fā)明的上下文中規(guī)定了涂層組合物包含基質(zhì)形成劑的數(shù)量以組合物計，是10-100wt％，更特別是15-90wt％，優(yōu)選20-80wt％，更優(yōu)選25-70wt％，最優(yōu)選20-60wt％。根據(jù)本發(fā)明的一優(yōu)選實施方式，基質(zhì)形成劑選自硅烷、聚硅烷、硅烷水解物、聚硅氧烷、硅醇鹽(siliconates)、硅酸鹽(silicates)、鈦酸鹽、聚鈦酸鹽和鋯酸鹽，更特別是硅烷、硅烷水解物、聚硅氧烷和硅酸鹽，及上述物質(zhì)的混合物。上述基質(zhì)形成劑反應生成相應的無機氧化物，更特別是硅的、鈦的和/或鋯的氧化物，氣體腐蝕控制層形成中優(yōu)選硅基試劑。根據(jù)一優(yōu)選的實施方式，涂層組合物的基質(zhì)形成劑經(jīng)有機改性以生成氧阻隔層1。通常，用于生產(chǎn)氧阻隔層的涂層組合物的基質(zhì)形成劑通過無機和/或有機基團的縮合反應和/或通過有機化學基團的聚合反應交聯(lián)和/或固化。然而，如果基質(zhì)形成劑通過無機基團的縮合反應交聯(lián)和/或固化時是優(yōu)選的。這樣，能夠獲得特別耐用、氣密的，特別是氧穩(wěn)定的氧阻隔層。然而，對基質(zhì)形成劑進行一定的小的有機改性是有利的，因為有機基團易于使涂層產(chǎn)生更多的柔韌性。因此在本發(fā)明的上下文中，如果基質(zhì)形成劑通過有機基團改性是優(yōu)選的。在這種情況下，優(yōu)選有機基團選自烷基、芳基和烯烴基及其混合物，更特別是烷基和芳基基團及其混合物。如果用于生產(chǎn)氣體腐蝕控制層的涂層組合物包含烷基基團，已經(jīng)證明合適的烷基基團是c1-c10烷基基團，更特別是c1-c5烷基基團，優(yōu)選c1-c3烷基基團，更優(yōu)選c1和/或c2烷基基團。如果芳基基團是c6至c20芳基基團，更特別是c6至c15芳基基團，優(yōu)選c6至c10的芳基基團時，同樣是有利的。進一步也規(guī)定了烯烴基團是c2-c10烯烴基團，更特別是c2-c8的烯烴基團，優(yōu)選c2-c5的烯烴基團，更優(yōu)選c2和/或c3烯烴基團，最優(yōu)選乙烯基團。然而，在本文的上下文中，已經(jīng)證明特別有利的有機基團是甲基和/或乙基基團和/或甲苯基基團。在本發(fā)明的上下文中，如果基質(zhì)形成劑選自通式i的硅烷，獲得良好的結(jié)果。r4-nsixn(i)其中，r為烷基，更特別是c1-c5烷基，優(yōu)選c1-c3烷基，更優(yōu)選c1和/或c2烷基；芳基，更特別是c6-c20芳基，優(yōu)選c6-c15芳基，更優(yōu)選c6-c10芳基；烯烴基，更特別是端烯烴基，優(yōu)選c2-c10烯烴基，更優(yōu)選c2-c8烯烴基，極優(yōu)選c2-c5烯烴基，特別優(yōu)選c2和/或c3烯烴基，更特別優(yōu)選乙烯基；胺，更特別是c2-c10胺，優(yōu)選c2-c8胺，更優(yōu)選c2-c5胺，非常優(yōu)選c2和/或c3胺；羧酸，更特別是c2-c10羧酸，優(yōu)選c2-c8羧酸，更優(yōu)選c2-c5羧酸，非常優(yōu)選c2和/或c3羧酸；醇，更特別是c2-c10的醇，優(yōu)選c2-c8醇，更優(yōu)選c2-c5醇，非常優(yōu)選c2和/或c3的醇；x為鹵化物，更特別是氯化物和/或溴化物；烷氧基，更特別是c1至c6烷氧基，非常優(yōu)選c1至c4烷氧基，尤其優(yōu)選c1和/或c2烷氧基；且n為1-4，優(yōu)選2或3。在本文中，如果基質(zhì)形成劑選自通式ia的硅烷，獲得了良好的結(jié)果。r4-nsixn(ia)r為c1-c3烷基，特別是c1和/或c2烷基；c6-c15芳基，特別是c6-c10芳基；c2和/或c3烯烴，特別是乙烯基；x為烷氧基，特別是c1-c6烷氧基，更優(yōu)選c1-c4烷氧基，非常優(yōu)選c1和/或c2烷氧基；且n為2或3。涂層組合物的基質(zhì)形成劑優(yōu)選包含烷基硅烷、更特別是三烷氧基烷基硅烷、二烷氧基二烷基硅烷，和/或烷氧基三烷基硅烷，和/或芳基硅烷、更特別是三烷氧基芳基硅烷、二烷氧基二芳基硅烷和/或烷氧基三芳基硅烷。如果基質(zhì)形成劑選自硅烷水解物、聚硅氧烷、特別是烷基聚硅氧烷，優(yōu)選c1-c3烷基聚硅氧烷和/或c1-c3烷氧基烷基聚硅氧烷，和/或選自芳基聚硅氧烷，優(yōu)選c6-c10芳基聚硅氧烷和c6-c10烷氧基芳基聚硅氧烷時，在本發(fā)明的上下文中獲得了非常好的結(jié)果。如果基質(zhì)形成劑的重均分子量mw的范圍是200-200,000g/mol，更特別是500-150,000g/mol，優(yōu)選1000-100,000g/mol，更優(yōu)選2000-75,000g/mol，最優(yōu)選5000-50,000g/mol時，在本發(fā)明中是優(yōu)選的。在本文中，已經(jīng)證明合適的是涂層組合物包含作為基質(zhì)形成劑的烷氧基甲基硅樹脂和/或烷氧基甲基苯基硅樹脂。此外，規(guī)定了基質(zhì)形成劑選自通式ii的鈦酸鹽。tix4(ii)其中，x為鹵化物，更特別是氯化物和/或溴化物；烷氧基，特別是c1-c8烷氧基，優(yōu)選c1-c6烷氧基，更優(yōu)選c1-c4烷氧基。在本文中，如果基質(zhì)形成劑選自通式iia的鈦酸鹽，已經(jīng)證明是合適的tix4(iia)其中，x為烷氧基，特別是c1-c8烷氧基，優(yōu)選c1-c6烷氧基，更優(yōu)選c1-c4烷氧基。此外，同樣規(guī)定了基質(zhì)形成劑選自通式iii的鋯酸鹽:zrx4(iii)其中，x為鹵化物，特別是氯化物和/或溴化物；烷氧基，特別是c1-c8烷氧基，優(yōu)選c1-c6烷氧基，更優(yōu)選c1-c4烷氧基。如果基質(zhì)形成劑選自通式iiia的鋯酸鹽，此處獲得了特別好的結(jié)果zrx4(iiia)其中，x為烷氧基，特別是c1-c8烷氧基，優(yōu)選c1-c6烷氧基，更優(yōu)選c1-c4烷氧基。此外，在本發(fā)明的上下文中，能夠?qū)⒐璐见}用作基質(zhì)形成劑。如果使用通式(iv)的硅醇鹽，在這種情況下獲得了特別好的結(jié)果：ho-[si(r)(om)-o-]nh(iv)其中n為1-6，特別是1-3，優(yōu)選1；r為c1-c10烷基和/或c6-c15芳基，特別是c1-c8烷基和/或c6-c12芳基，優(yōu)選c1-c6烷基和/或c6-c12芳基，更優(yōu)選c1-c4烷基，非常優(yōu)選c1-c3烷基；m為一價金屬，特別是堿金屬，優(yōu)選鈉或鉀。在本文中，已經(jīng)證明硅醇鹽選自甲基硅醇鈉、甲基硅醇鉀、丙基硅醇鈉和丙基硅醇鉀是合適的?；|(zhì)形成劑還可能選自聚硅酸鹽，更特別是水玻璃，優(yōu)選鈉和/或鉀的水玻璃，或磷酸二氫鋁。利用上述基質(zhì)形成劑，能夠獲得具有良好機械性能的完全無碳的基質(zhì)。同樣規(guī)定了基質(zhì)形成劑選自硅石、二氧化鈦和/或氧化鋯，所述基質(zhì)形成劑通常以粒子形式存在，特別是少量存在，以涂層組合物計，優(yōu)選數(shù)量為0.1-10wt％，更優(yōu)選1-5wt％。如果硅石、二氧化鈦和/或氧化鋯用作基質(zhì)形成劑，涂層組合物通常包含至少一種另外的基質(zhì)形成劑以確保涂層必要的結(jié)合。在本發(fā)明的上下文中，涂層組合物也可能包含多種不同的基質(zhì)形成劑，更特別是反應性的基質(zhì)形成劑。如果涂層組合物只包含硅基基質(zhì)形成劑，在本文中獲得了特別好的結(jié)果。根據(jù)本發(fā)明的一優(yōu)選實施方式，涂層組合物包含金屬粒子。因此，一種優(yōu)選的涂層組合物包含：(a)至少一種無機基的基質(zhì)形成劑，(b)金屬粒子和(c)任選的輔料和添加劑。如果本發(fā)明的用于生產(chǎn)氣體腐蝕控制層的涂層組合物包含金屬粒子，其數(shù)量可在較寬范圍內(nèi)變化。然而，已經(jīng)證明合適的是，以組合物計，第二涂層組合物包含至少1wt％，更特別是至少2wt％，優(yōu)選至少5wt％的金屬粒子。如果以組合物計，第二涂層組合物包含的金屬粒子的百分數(shù)范圍為1-50wt％，更特別是2-30wt％，優(yōu)選5-20wt％，更優(yōu)選5-15wt％時，也獲得了特別好的結(jié)果。在本文中，特別規(guī)定了組合物包含片狀和/或粒狀的，更特別是球形金屬粒子，優(yōu)選片狀金屬粒子。更特別是如上所述的。如果組合物包含基于鋅、鋁和/或鎂及其合金的片狀金屬粒子，優(yōu)選片狀鋁粒子時，在本發(fā)明的上下文中獲得了特別好的結(jié)果。通常，涂層組合物中的添加劑和/或輔料選自流變添加劑、防腐劑、穩(wěn)定劑、酸和/或堿、表面活性劑、消泡劑組分、成膜劑、蠟、有機紫外吸收劑、活性生物源成分、流動控制劑、分散助劑、乳化劑、潤濕劑、填料、ph值穩(wěn)定劑和ph調(diào)節(jié)劑。在本發(fā)明的上下文中，進一步規(guī)定了組合物在高溫和/或通過輻射射，優(yōu)選高溫交聯(lián)和/或固化。如果組合物在高溫交聯(lián)，組合物交聯(lián)和/或固化的溫度，可在較寬范圍內(nèi)變化。然而，如果組合物固化和/交聯(lián)的溫度范圍為10-250℃，優(yōu)選15-150℃，更優(yōu)選20-100℃時，獲得了特別好的結(jié)果。在本發(fā)明的上下文中，因此能夠提供在室溫，更特別是在20-30℃溫度范圍固化和/或交聯(lián)的體系。在室溫固化和/或交聯(lián)的體系具有的優(yōu)點在于不需要特殊裝置或設備來固化和/或交聯(lián)涂層組合物。如果組合物在高溫下交聯(lián)和/或固化，那么組合物通常交聯(lián)和/或固化的時間為1分鐘到2小時，更特別是2分鐘到1小時，優(yōu)選3-30分鐘，更優(yōu)選4-20分鐘，非常優(yōu)選5-15分鐘。然而，同樣規(guī)定了組合物在室溫固化和/或交聯(lián)。如果考慮到待涂覆基底尺寸不能放入爐中或者通過輻射加熱器加熱時，該實施方式是特別有利的。同樣能夠節(jié)省大量的能源。如果組合物在室溫交聯(lián)和/或固化，那么組合物通常交聯(lián)和/或固化的時間為1分鐘到2小時，更特別是2分鐘到1小時，優(yōu)選3-45分鐘，更優(yōu)選5-30分鐘。為了本發(fā)明的目的，在室溫交聯(lián)的水基涂層組合物優(yōu)選用于氣體腐蝕控制層的生產(chǎn)。根據(jù)本發(fā)明一特定的實施方式，用于生產(chǎn)氣體腐蝕控制層的涂層組合物的固體百分數(shù)以組合物計為95-100wt％。根據(jù)該特定的實施方式，本發(fā)明的涂層組合物形成為無溶劑的或低溶劑的超高固體含量涂層組合物。以組合物計，固體含量95-100wt％的涂層組合物通常用暴露于大氣濕度作為交聯(lián)引發(fā)劑。正如上文已觀察到的，在本發(fā)明的上下文中，固體含量95-100wt％的涂層組合物優(yōu)選是液體形式并且其粘度與水基和/或溶劑基體系沒有什么差異。然而，為了調(diào)節(jié)粘度，固體含量95-100wt％的涂層組合物可包含最高到5wt％的溶劑或水。在本發(fā)明的上下文中，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)合適的是，根據(jù)該特定的實施方式，以涂層組合物計，涂層組合物包含的基質(zhì)形成劑的數(shù)量為50-100wt％，更特別是60-100wt％，優(yōu)選70-95wt％，更優(yōu)選75-90wt％。根據(jù)該實施方式，也規(guī)定了以涂層組合物計，涂層組合物包含至少5wt％，更特別是至少10wt％，優(yōu)選至少15wt％的金屬粒子。此外，以涂層組合物計，如果涂層組合物包含的金屬粒子百分數(shù)范圍為5-50wt％，更特別是10-30wt％，優(yōu)選15-25wt％，根據(jù)該特定的實施方式，獲得了良好的結(jié)果。關于本發(fā)明該方面的更多細節(jié)，可參照涉及本發(fā)明其他方面的觀察，這相應地適用于本發(fā)明的用于生產(chǎn)氣體腐蝕控制層的涂層組合物。根據(jù)本發(fā)明的第四方面，本發(fā)明還另外提供了一種用于在金屬基底上生產(chǎn)高溫腐蝕控制涂層的方法，其中，(a)在第一步中，將用于生產(chǎn)陰極腐蝕控制涂層的腐蝕控制涂層和/或涂層組合物涂覆到金屬基底上，獲得陰極腐蝕控制層，且(b)在隨后的第二步中，將用于生產(chǎn)氧阻隔層的第二腐蝕控制涂層和/或涂層組合物涂覆到基底上，更特別是第一腐蝕控制層上，獲得氧阻隔層。本發(fā)明的方法通常進行使得在方法步驟(a)中，腐蝕控制涂層和/或涂層組合物涂覆到基底上的層厚范圍為0.1-180μm，更特別是0.5-150μm，優(yōu)選1-140μm，更優(yōu)選2-90μm，非常優(yōu)選3-40μm。如果方法步驟(a)中的涂層組合物以鋅片涂層的方式涂覆到基底上時，那么涂層通常的層厚范圍是0.1-25μm，更特別是1-15μm，優(yōu)選2-10μm，更優(yōu)選4-8μm。為了本發(fā)明的目的，在方法步驟(a)中，金屬鋅層作為陰極腐蝕控制層特別是通過熱浸鍍鋅或電鍍鋅涂覆到基底上。根據(jù)本發(fā)明的一優(yōu)選實施方式，在方法步驟(a)中，包含金屬粒子的第一涂層組合物，更特別是如上所述的，涂覆到基底上以產(chǎn)生陰極腐蝕控制層，并隨后交聯(lián)和/或固化。對于方法步驟(a)中實際的涂覆操作，可通過不同的方式進行。然而，在本發(fā)明的上下文中，已經(jīng)證明有利的是，在方法步驟(a)中，腐蝕控制涂層和/或涂層組合物通過噴涂、浸漬、旋涂、浸漬-旋涂、刮涂或輥涂，更特別是通過噴涂、浸漬、旋涂或浸漬旋涂，優(yōu)選噴涂的方式涂覆到基底上。非常杰出地噴涂特別適合較大的物體，而對于較小的物體，如螺紋件，優(yōu)選浸漬-旋涂，因為浸漬-旋涂能使大量待涂覆的基底同時涂覆。在本發(fā)明的上下文中，規(guī)定了方法步驟(a)中的涂層組合物在室溫固化或交聯(lián)。如果涂層組合物在室溫交聯(lián)和/或固化，這通常在上述時間段內(nèi)完成。然而，同樣也可能方法步驟(a)中的涂層組合物在高溫下和/或通過輻射交聯(lián)和/或固化，優(yōu)選在高溫下。在本文中，已經(jīng)證明有利的是，涂層組合物的交聯(lián)和/或固化溫度范圍為30-350℃，優(yōu)選50-300℃，更優(yōu)選100-250℃，最優(yōu)選150-200℃。如果涂層組合物在高溫下交聯(lián)和/或固化，這通常在上述時間段內(nèi)完成。在本發(fā)明的上下文中，方法步驟(b)通常通過腐蝕控制涂層和/或涂層組合物涂覆到基底上來完成，層厚范圍是0.1-60μm，更特別是0.5-50μm，優(yōu)選0.7-35μm，更優(yōu)選1-10μm，非常優(yōu)選1-5μm，特別優(yōu)選1-3μm。通常，本發(fā)明涂層的第二層層厚范圍為0.1-50μm，更特別是0.5-40μm，優(yōu)選0.7-30μm，更優(yōu)選1-10μm，非常優(yōu)選1-5μm，特別優(yōu)選1-3μm。如果在方法步驟(b)中，涂層組合物，更特別是如上所述的，涂覆到基底上以產(chǎn)生氣體腐蝕控制層，隨后交聯(lián)和/或固化時，獲得了特別好的結(jié)果。通常在方法步驟(b)中，涂層通過氧阻隔涂層和/或涂層組合物經(jīng)由噴涂、浸漬、旋涂、浸漬-旋涂、刮涂和輥涂，更特別是經(jīng)由噴涂、浸漬、旋涂、浸漬-旋涂，優(yōu)選經(jīng)由噴涂被涂覆到基底上，更特別是陰極腐蝕控制層上來完成。為了本發(fā)明的目的，如果在方法步驟(b)中，涂層組合物在室溫交聯(lián)和/或固化是優(yōu)選的。在本文中，交聯(lián)和/或固化操作通常進行的時間為1分鐘到2小時，更特別是1分鐘到60分鐘，優(yōu)選3-45分鐘，更優(yōu)選5-30分鐘。然而，為了本發(fā)明的目的，還規(guī)定了方法步驟(b)中的涂層組合物在高溫下和/或通過輻射交聯(lián)和/或固化，優(yōu)選在高溫下。如果方法步驟(b)中的涂層組合物在高溫下交聯(lián)和/或固化，那么通常溫度范圍為30-350℃，優(yōu)選50-150℃，更優(yōu)選40-200℃。此處優(yōu)選的是，涂層組合物交聯(lián)和/或固化的時間段為1分鐘到2小時，更特別是2分鐘到1小時，優(yōu)選3-30分鐘，更優(yōu)選4-20分鐘，非常優(yōu)選5-15分鐘。此外，在本發(fā)明的上下文中規(guī)定了待涂覆基底在先于方法步驟(a)的制備步驟中制備。在本文中，已經(jīng)證明有利的是，基底被清潔，特別是通過去油脂來清潔。這可通過用如有機溶劑處理、噴砂、研磨、特別是使用酸和/或堿酸洗，優(yōu)選通過用有機溶劑處理、噴砂和/或研磨。用有機溶劑處理、噴砂和/或研磨防止了用酸處理之后可發(fā)生的氫脆。根據(jù)本發(fā)明的一具體的實施方式，規(guī)定了可將粘合促進層涂覆到基底上，特別是在已經(jīng)清潔基底之后，和在方法步驟(a)中涂覆陰極腐蝕控制涂層和/或涂層組合物之前。粘合促進層改善了本發(fā)明的涂層和基底之間的粘合，但也降低了陰極腐蝕控制層和基底之間的電接觸。然而已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，在本發(fā)明的上下文中，可使用特定的粘合促進層或底漆，且沒有觀察到陰極腐蝕控制效果有任何降低。在本發(fā)明的上下文中，優(yōu)選的是，粘合促進層通過用溶液處理基底而生成轉(zhuǎn)換層的形式，所述溶液包含鉻(iii)化合物、鈦化合物和/或鋯化合物。這種轉(zhuǎn)換層是良好的粘合促進劑，且它們不降低陰極腐蝕控制，或者至少僅在較小程度上降低。粘合促進層也可通過磷酸化，更特別是鐵磷酸化或鋅磷酸化而產(chǎn)生。在本發(fā)明的上下文中，粘合促進層也可通過用硅酸鹽基的預處理體系或適當?shù)墓柰樘幚懋a(chǎn)生。對于本發(fā)明該方面的更多細節(jié)，可參照上述涉及本發(fā)明其他方面的觀察，這同樣相應地適用于本發(fā)明的方法。根據(jù)本發(fā)明的第五方面，本發(fā)明還進一步提供了一種涂覆基底，其包含有上述定義的涂層和任選的粘合促進層。對于本發(fā)明該方面的更多細節(jié)，可參照上述涉及本發(fā)明其他方面的觀察，這同樣相應地適用于本發(fā)明的涂覆基底。根據(jù)本發(fā)明的第六方面，本發(fā)明還進一步提供了氧阻隔涂層，更特別是如上所述的氧阻隔涂層，或氧阻隔涂層組合物在一部分陰極腐蝕控制涂層上獲得高溫抗性的用途。對于涉及本發(fā)明氧阻隔涂層用途的更多細節(jié)，可參照上述涉及本發(fā)明其他方面的觀察，這同樣相應地適用于本發(fā)明的用途。最后根據(jù)本發(fā)明的第七方面，本發(fā)明進一步提供了涂層組合物，更特別是氧阻隔涂層組合物，優(yōu)選如上所述的涂層組合物，用于改善陰極腐蝕控制涂層的溫度穩(wěn)定性的用途。對于涉及本發(fā)明該方面的更多細節(jié)，可參照上述涉及本發(fā)明其他方面的觀察，這同樣相應地適用于本發(fā)明的用途。圖1顯示了具有本發(fā)明涂層1的金屬基底2。本發(fā)明的涂層1由優(yōu)選包含金屬粒子，更特別是鋅片的陰極腐蝕控制層3和優(yōu)選包含鋁片的氧阻隔層4組成。陰極腐蝕控制層3中的金屬粒子優(yōu)選鑲嵌在基于有機改性的二氧化硅和二氧化鈦的有機基基質(zhì)中，同時氣體腐蝕控制層4的鋁片優(yōu)選鑲嵌在有機改性的二氧化硅保護層中，其具有以氣體腐蝕控制層4的基質(zhì)材料計，少于50wt％的碳含量。涂層1和基底2任選經(jīng)由粘合促進層5連接。替代地或另外地，根據(jù)圖1中未顯示的實施方式，在陰極腐蝕控制層3和氧阻隔層4之間設置有另外的層，特別是具有粘合促進性能和/或氧阻隔性能。涂層1的多層結(jié)構(gòu)特別降低了在加熱和冷卻操作中因熱膨脹和收縮引起的開裂。本發(fā)明通過具體實施方式以非限制性的方式在下文中舉例進行說明。具體實施方式對于下面的試驗，將具有陰極腐蝕控制的涂覆體系涂覆到鋼板和螺釘件上并研究它們的抗腐蝕性能，特別是在高溫暴露之后。也研究了陰極腐蝕控制涂層(下面也稱為底層)和氧阻隔涂層(下面也稱為頂層)的不同組合，并與僅基于陰極腐蝕控制涂層的涂層體系進行比較。i底層下面說明了所研究的底層的組成，以及它們的涂覆和固化條件。也表明了沒有預先加熱時，根據(jù)dineniso9227的鹽霧試驗中可能發(fā)生紅銹的時間點。實施例1：基于純鋅顏料的溶劑基鋅片底漆涂覆：噴涂或浸漬-旋涂固化：熱處理；200℃下30分鐘干膜厚度：6-8μm表1底層1的組成粘合劑組分重量份數(shù)三甲氧基乙烯基硅烷9.8乙基己酸鈦(四-2-乙基己基鈦酸酯)24.9聚鈦酸正丁酯(鈦酸-四丁酯，聚合物)36.8醇14.5防沉劑11.4潤濕和分散添加劑2.6粘合劑總計100.0鋅片50.00紅銹(小時，鹽霧試驗)2000實施例2：基于純鋅色素的液態(tài)鋅片底漆涂覆：噴涂或浸漬-旋涂固化：熱處理；200℃下30分鐘干膜厚度：6-8μm表2：底層2的組成粘合劑組分重量份數(shù)二丙二醇(dpg)5.25環(huán)氧硅烷低聚物10.00乙氧基化異十三烷醇4.001-硝基丙烷0.75鋅片(在丙二醇中)50.00軟化水32.00正磷酸(0.1％溶液)3.50鈉水玻璃(25％溶液)0.50鈉磺基琥珀酸二辛酯(潤濕添加劑)0.5聚醚硅氧烷共聚物(消泡劑)0.5黃原膠(增稠劑)3.00紅銹(小時，鹽霧試驗)2000實施例3：基于鋅鋁顏料(4znal7)的溶劑基鋅片底漆涂覆：噴涂或浸漬-旋涂固化：熱處理；200℃下30分鐘干膜厚度：6-8μm表3：底層3的組成粘合劑組分重量份數(shù)三甲氧基乙烯基硅烷9.8乙基己酸鈦(四-2-乙基己基鈦酸酯)24.9聚鈦酸正丁酯(鈦酸-四丁酯，聚合物)36.8醇14.5防沉劑11.4潤濕和分散添加劑2.6粘合劑總計100.0鋅片50紅銹(小時，鹽霧試驗)2000實施例4基于鋅鋁顏料(4znal7)的含水鋅片底漆涂覆：噴涂或浸漬-旋涂固化：熱處理；200℃下30分鐘干膜厚度：6-8μm表4：底層4的組成實施例5基于鋅鉍顏料(5wt％bi)的溶劑基鋅片底漆涂覆：噴涂或浸漬-旋涂固化：熱處理；200℃下30分鐘干膜厚度：6-8μm表5：底層5的組成粘合劑組分重量百分數(shù)三甲氧基乙烯基硅烷9.80乙基己酸鈦(四-2-乙基己基鈦酸酯)24.90聚鈦酸正丁酯(鈦酸-四丁酯，聚合物)36.80醇14.50防沉劑11.40潤濕分散添加劑2.60粘合劑總計100.00鋅片50.00紅銹(小時，鹽霧試驗)2000實施例6基于鋅鉍顏料(5wt％bi)的含水鋅片底漆涂覆：噴涂或浸漬-旋涂固化：熱處理；200℃下30分鐘干膜厚度：6-8μm表6：底層6的組成實施例7基于鋅鋁鎂顏料(znmg8al8)的溶劑基鋅片底漆涂覆：噴涂或浸漬-旋涂固化：熱處理；200℃下30分鐘干膜厚度：6-8μm表7：底層7的組成粘合劑組分重量份數(shù)三甲氧基乙烯基硅烷9.80乙基己酸鈦(四-2-乙基己基鈦酸酯)24.90聚鈦酸正丁酯(鈦酸-四丁酯，聚合物)36.80醇14.50防沉劑11.40潤濕分散添加劑2.60粘合劑總計100.00鋅片50.00紅銹(小時，鹽霧試驗)2000實施例8基于鋅鋁鎂顏料(znmg8al8)的含水鋅片底漆涂覆：噴涂或浸漬-旋涂固化：熱處理；200℃下30分鐘干膜厚度：6-8μm表8：底層8的組成粘合劑組分重量百分數(shù)二丙二醇(dpg)5.25環(huán)氧硅烷低聚物10.00乙氧基化異十三烷醇4.001-硝基丙烷0.75鋅片(在丙二醇中)50.00軟化水32.00正磷酸(0.1％溶液)3.50鈉水玻璃(25％溶液)0.50鈉磺基琥珀酸二辛酯(潤濕添加劑)0.50聚醚硅氧烷共聚物(消泡劑)0.50黃原膠(增稠劑)3.00紅銹(小時，鹽霧試驗)2000實施例9基于鋅鎂顏料(>5wt％mg)的溶劑基鋅片底漆涂覆：噴涂或浸漬-旋涂固化：熱處理；200℃下30分鐘干膜厚度：6-8μm表9：底層9的組成實施例10基于鋅鋁鎂顏料(>5wt％mg)的含水鋅片底漆涂覆：噴涂或浸漬-旋涂固化：熱處理；200℃下30分鐘干膜厚度：6-8μm表10：底層10的組成粘合劑組分重量百分數(shù)二丙二醇(dpg)5.25環(huán)氧硅烷低聚物10.00乙氧基化異十三烷醇4.001-硝基丙烷0.75鋅片(在丙二醇中)50.00軟化水32.00正磷酸(0.1％溶液)3.50鈉水玻璃(25％溶液)0.50鈉磺基琥珀酸二辛酯(潤濕添加劑)0.50聚醚硅氧烷共聚物(消泡劑)0.50黃原膠(增稠劑)3.00紅銹(小時)2000實施例11按照wo2009/132102的實施例2的鋅片底漆。表11：底層11的組成實施例12：根據(jù)wo2009/132102的實施例c1的鋅片底漆實施例13：按照具有鋅鋁鎂顏料的實施例12的鋅片底漆表13：底層13的組成實施例14：電解鍍鋅基底鋅層從酸性電解質(zhì)中沉積到eg平坦鋼上。涂覆鋅的基底厚度為5mm。實施例15：熱浸鍍鋅表面，具有10μm鋅層厚度。ii.頂層下面的實施例具體說明了所用頂層的組成。實施例16-18:基于含水的硅氧烷分散質(zhì)的頂層實施例16的頂層t16和實施例18的頂層18是透明層并不包含金屬粒子。頂層16包含玻璃片。實施例17的頂層17包含鋁顏料。表14：頂層t16-t18的組成實施例19如同us7645404實施例3的頂層將120g來自贏創(chuàng)(evonik)的mtes(烷基三烷氧基硅烷)和40g的四乙氧基硅烷與100g的1％三氟乙酸溶液混合，攪拌水解硅烷。然后加入150g的溶劑混合物(乙二醇丁醚)，0.2g的disperbyk180(潤濕分散劑)和35g的鋁顏料。實施例20(頂層20)熱浸鍍鋁，層厚5μm。iii.用途實施例實施例21：400℃加熱48小時后的鹽霧試驗中的底層和頂層體系不同涂層涂覆到dco4鋼板上，鋼板已經(jīng)進行了堿性脫脂并通過噴砂操作清潔。底層根據(jù)實施例1-15進行涂覆并干燥。頂層涂覆的干膜厚度為2-4μm并在室溫干燥。隨后，使用標記工具，在涂層中產(chǎn)生下壓到鋼板上的標記，然后這樣制備的樣品根據(jù)dineniso9227進行鹽霧試驗。表15概括了在鹽霧試驗中確定的標記處出現(xiàn)紅銹的時間。表15：先經(jīng)400℃溫度暴露48小時以上后，于鹽霧試驗中針對不同的涂層體系在標記處發(fā)生紅銹的時間(h)在另一形式的圖像中，圖2和圖3顯示了底層對陰極腐蝕控制效果的溫度穩(wěn)定性的影響，這根據(jù)表15是顯而易見的。圖2顯示了鋼板，具有根據(jù)實施例11的底層，即基于純鋅片材的鋅片涂層，在24小時測試時段后根據(jù)dineniso9227進行鹽霧測試。涂覆鋼板經(jīng)受400℃溫度48小時以上。在鹽霧測試24小時后，在標記處和在鋼板表面中兩者都已經(jīng)明顯有紅銹大量形成。圖3顯示了具有根據(jù)實施例7的底層的鋼板，即具有鋅-鋁-鎂合金基片材的鋅片涂層，在72小時測試時段后根據(jù)dineniso9227進行鹽霧測試。涂覆鋼板經(jīng)受400℃溫度48小時以上。僅僅在鹽霧試驗中72小時后，才在標記處以及涂覆鋼板表面中紅銹的起始區(qū)域存在顯著形成的紅銹。表中的數(shù)據(jù)和圖2以及圖3深刻地揭示了使用基于鋅合金特別是鋅-鋁-鎂合金的鋅片，相對基于純鋅片材的鋅片涂層，能夠獲得陰極腐蝕控制溫度穩(wěn)定性的顯著改善。實施例22：針對不同溫度的比較腐蝕測試將不同的底層體系如上所述涂覆到鋼板上，并通過浸漬-旋涂涂覆到螺紋件上。干燥和固化的底層厚度為5-8μm。隨后，一些基底接受頂層涂覆，涂覆層厚2-4μm，涂層體系暴露到高溫下一定的時間。涂層的耐腐蝕性隨后根據(jù)dineniso9227在帶標記的鹽霧測試中評估鋼板，并根據(jù)dineniso9227，在沒有標記的鹽霧測試中評估螺紋件?；椎臏囟缺┞稙?50℃下48小時以上，500℃下48小時以上，300℃下30天以上。比較腐蝕測試的結(jié)果顯示在下面的表16中，在每種情況下都參照無頂層的體系。測試結(jié)果在表16中評估如下：+++所有高溫下的三次測試中，鹽霧測試中標記處形成紅銹前的時間至少是僅涂覆有基于純鋅片涂層底層的基底時間的兩倍。++高溫下的兩次測試中，鹽霧測試中標記處形成紅銹前的時間至少是僅涂覆有基于純鋅片涂層底層的基底時間的兩倍。+高溫下的一次測試中，鹽霧測試中標記處形成紅銹前的時間至少是僅涂覆有基于純鋅片涂層底層的基底時間的兩倍。-在相對于基于純鋅片涂層的底層的鹽霧測試中，腐蝕控制溫度穩(wěn)定性漸漸改善。--相對于基于純鋅片涂層的底層沒有改善。表16：不同涂層體系參照各自的無頂層體系經(jīng)三種不同的溫度暴露的比較腐蝕測試實施例23：比較有氧阻隔層(頂層)和無氧阻隔層(頂層)的涂層體系a)螺紋件的涂層根據(jù)實施例7的底層通過浸漬-旋涂涂覆到鋼制螺紋件上，干膜厚度為6-8μm。部分基底用根據(jù)實施例17的頂層組合物t17涂覆，包括鋁顏料且層厚為2-4μm，室溫干燥。涂覆的螺紋件在300-500℃高溫暴露，抗腐蝕性通過后續(xù)的根據(jù)dineniso9227的無標記鹽霧測試評價，結(jié)果如表17所示。表17：具有和不具有頂層的涂覆鋼螺紋件的耐腐蝕性；在鹽霧試驗中紅銹發(fā)生之前的時間(b)鋼板的涂覆根據(jù)實施例7的底層涂覆到鋼板上，干膜厚度為6-8μm。一些涂覆基底涂覆有根據(jù)實施例17的頂層組合物t17，層厚為2-4μm，在室溫干燥。涂覆鋼板暴露到300-500℃之間的高溫，隨后根據(jù)dineniso9227在帶標記的鹽霧測試中評估耐腐蝕性。結(jié)果匯總在下面的表18中。表18：具有和不具有頂層的涂覆鋼板的耐腐蝕性；在紅銹發(fā)生之前鹽霧試驗中的時間表16中列舉的數(shù)值再次顯示在圖3到圖6的圖像形式中，用于示出在400-500℃溫度暴露后的測量值。圖3，如上所述，示出了具有根據(jù)實施例7底層的鋼板，隨后根據(jù)dineniso9227進行鹽霧試驗，測試時間72小時。在進行鹽霧測試之前，涂覆的鋼板暴露到400℃溫度48小時以上。72小時后，在標記處以及涂覆鋼板表面中紅銹的起始區(qū)域清楚形成明顯的紅銹。圖4顯示了涂覆有根據(jù)實施例7的底層，以及涂覆有根據(jù)實施例17的頂層組成t17的鋼板，隨后根據(jù)dineniso9227進行鹽霧試驗，測試時間230小時以上。同樣將涂覆的鋼板暴露到400℃溫度48小時以上。鹽霧測試中超過230小時后，標記處存在明顯的起始紅銹，而在表面中還并不存在明顯的紅銹形成。圖5顯示了涂覆有根據(jù)實施例7底層的鋼板，隨后根據(jù)dineniso9227進行鹽霧試驗，測試時間72小時。鋼板暴露到500℃的溫度48小時以上。標記處和表面中都明顯存在嚴重的紅銹。圖6最后顯示了涂覆有根據(jù)實施例7的底層，以及涂覆有根據(jù)實施例17的頂層組合物t17的鋼板，隨后根據(jù)dineniso9227進行鹽霧試驗，測試時間230小時以上。將涂覆的鋼板暴露到500℃溫度48小時以上。如圖7中所示，即使超過230小時后，鹽霧測試中的標記處僅形成極輕微的紅銹，而在表面中根本不存在紅銹。表17和18中的測量數(shù)值以及圖中的標示是深刻的證明，一方面，通過使用基于鋅-鋁-鎂合金的鋅片涂層，與基于純鋅的鋅片涂層相比，獲得了高溫下顯著改善的腐蝕控制，另一方面，通過氧阻隔涂層能夠進一步大幅增加高溫的腐蝕控制。令人意外的是，這不僅對鋼板，而且對螺紋件都是真實的，其由于螺紋不成比例難以獲得均勻的涂層并防止腐蝕。附圖標記列表1、腐蝕控制涂層；4、氧阻隔層；2、基底；5、附著促進層；3、陰極腐蝕控制層。當前第1頁12