1.一種拋光設(shè)備，其特征在于，包括：
拋光裝置，所述拋光裝置包括：拋光盤以及位于所述拋光盤上表面的拋光墊，所述拋光裝置沿所述拋光墊的中心軸線方向旋轉(zhuǎn)；
清洗裝置，所述清洗裝置位于所述拋光裝置的上方，所述清洗裝置設(shè)有至少一個(gè)向所述拋光墊噴射水的噴水孔，所述噴水孔的噴射方向與豎直方向呈一定夾角且與所述拋光裝置的旋轉(zhuǎn)方向相對(duì)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述清洗裝置包括：噴水板，所述噴水板形成有水道，所述噴水孔與所述水道連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述噴水板的底面與水平方向呈一定夾角，所述噴水孔的延伸方向垂直于所述噴水板的底面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述噴水板的底面與水平方向平行，所述噴水孔的延伸方向與水平方向呈一定夾角。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的拋光設(shè)備，其特征在于，當(dāng)所述噴水板的底面與水平方向呈第一角度時(shí)，所述拋光裝置沿所述拋光墊的中心軸線方向順時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)；當(dāng)所述噴水板的底面與水平方向呈第二角度時(shí)，所述拋光裝置沿所述拋光墊的中心軸線方向逆時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述清洗裝置還包括支撐組件，所述支撐組件包括：
支撐座；
支撐柱，所述支撐柱的一端與所述支撐座相連，所述支撐柱的另一端向上延伸；
基板，所述基板與所述支撐柱的另一端相連，所述噴水板固定在所述基板的下表面。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述支撐柱設(shè)有安裝通孔，所述安裝通孔內(nèi)設(shè)有清洗管，所述清洗管與所述水道相通。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述安裝通孔貫穿所述支撐柱的上下端面。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述清洗裝置還包括：蓋板，所述蓋板與所述基板在豎直方向間隔設(shè)置，且所述蓋板安裝設(shè)置于所述支撐柱的另一端。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述噴水孔的噴射范圍大等于所述拋光墊的半徑。
11.根據(jù)權(quán)利要求2所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述噴水板底面的外周緣至少部分向下延伸形成凸緣。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述清洗裝置還包括：噴嘴，所述噴嘴嵌設(shè)在所述噴水孔內(nèi)，且所述噴嘴的一端超出所述噴水板的底面，所述噴嘴的進(jìn)口的徑向尺寸大于所述噴嘴的出口的徑向尺寸。
13.根據(jù)權(quán)利要求4所述的拋光設(shè)備，其特征在于，所述基板在水平方向上可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)在所述支撐柱上。