本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及晶圓的化學(xué)氣相淀積反應(yīng)腔。

背景技術(shù)：

常壓化學(xué)氣相淀積是指將反應(yīng)氣體置入反應(yīng)腔中，反應(yīng)氣體擴(kuò)散至反應(yīng)腔中的晶圓表面，在晶圓表面附近的反應(yīng)區(qū)發(fā)生反應(yīng)形成薄膜。現(xiàn)有的常壓化學(xué)反應(yīng)腔的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)不合理，反應(yīng)氣體不能均勻的擴(kuò)散至晶圓表面，導(dǎo)致形成的薄膜厚度不均勻。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對現(xiàn)有技術(shù)存在的上述問題，申請人進(jìn)行研究及改進(jìn)，提供一種常壓化學(xué)氣相淀積反應(yīng)腔。

為了解決上述問題，本發(fā)明采用如下方案：

一種常壓化學(xué)氣相淀積反應(yīng)腔，包括腔體，所述腔體中內(nèi)置有導(dǎo)氣管及用于支撐晶圓的支撐座，所述腔體的內(nèi)腔包括上部的反應(yīng)腔及下部的安裝腔，所述導(dǎo)氣管及支撐座位于所述反應(yīng)腔中，支撐座通過支撐桿活動安裝于反應(yīng)腔中，所述支撐桿活動貫穿安裝于反應(yīng)腔與安裝腔之間，所述安裝腔中安裝有與所述支撐桿下端頂靠的凸輪，所述凸輪由安裝腔中的電機(jī)驅(qū)動。

本發(fā)明的技術(shù)效果在于：

本發(fā)明實(shí)現(xiàn)晶圓的移動式接觸反應(yīng)氣體，提高與反應(yīng)氣體的反應(yīng)均勻性，提高成型薄膜的均勻度。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1、腔體；10、反應(yīng)腔；11、安裝腔；2、支撐座；3、導(dǎo)氣管；4、晶圓；5、支撐桿；6、凸輪；7、電機(jī)。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步說明。

如圖1所示，本實(shí)施例的常壓化學(xué)氣相淀積反應(yīng)腔，包括腔體1，腔體1中內(nèi)置有導(dǎo)氣管3及用于支撐晶圓4的支撐座2，腔體1的內(nèi)腔包括上部的反應(yīng)腔10及下部的安裝腔11，導(dǎo)氣管3及支撐座2位于反應(yīng)腔10中，支撐座2通過支撐桿5活動安裝于反應(yīng)腔10中，支撐桿5活動貫穿安裝于反應(yīng)腔10與安裝腔11之間，安裝腔11中安裝有與支撐桿5下端頂靠的凸輪6，凸輪6由安裝腔11中的電機(jī)7驅(qū)動。

使用時(shí)，將反應(yīng)氣體通過導(dǎo)氣管3導(dǎo)入至反應(yīng)腔10中，啟動電機(jī)7，電機(jī)7帶動凸輪6轉(zhuǎn)動，從而帶動支撐桿5上下往復(fù)升降運(yùn)動，進(jìn)而帶動支撐座2及晶圓4上下移動，實(shí)現(xiàn)晶圓4與反應(yīng)氣體的移動接觸，提高接觸的均勻度。

以上所舉實(shí)施例為本發(fā)明的較佳實(shí)施方式，僅用來方便說明本發(fā)明，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，任何所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者，若在不脫離本發(fā)明所提技術(shù)特征的范圍內(nèi)，利用本發(fā)明所揭示技術(shù)內(nèi)容所作出局部改動或修飾的等效實(shí)施例，并且未脫離本發(fā)明的技術(shù)特征內(nèi)容，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)特征的范圍內(nèi)。