本發(fā)明涉及銅包鋼絲制造領(lǐng)域，特別涉及一種鋼絲預(yù)處理裝置。

背景技術(shù)：

在熱浸式銅包覆鋼絲生產(chǎn)過程中，所使用的鋼絲需要進行前期預(yù)處理，這一工序關(guān)乎著最后銅包鋼絲成品的質(zhì)量。所使用的鋼絲要達到金屬層表面光滑無毛刺、無氣孔等一系列技術(shù)指標，才能保證最終成品的質(zhì)量。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的目的在于提供一種鋼絲預(yù)處理裝置，可以去除鋼絲表面的氧化膜并對鋼絲進行打磨處理。

為實現(xiàn)上述技術(shù)目的，達到上述技術(shù)效果，本發(fā)明通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)：一種鋼絲預(yù)處理裝置，包括前校直組件、后校直組件、氧化膜去除機構(gòu)和鋼絲打磨機構(gòu)，所述前校直組件包括兩個呈上下設(shè)置的前校直輥，后校直組件包括兩個呈上下設(shè)置的后校直輥，前校直組件位于氧化膜去除機構(gòu)的前方，后校直組件位于氧化膜去除機構(gòu)的后方，該氧化膜去除機構(gòu)包括氧化膜去除電機、主動輪、從動輪、同步帶、兩個處理輥和一處理帶，所述主動輪與氧化膜去除電機連接，所述同步帶連接在主動輪和從動輪之間，主動輪與一個處理輥連接，從動輪與另一個處理輥連接，處理帶套裝在兩個處理輥上，處理帶上設(shè)有鋼絲刷，所述鋼絲打磨機構(gòu)設(shè)置在后校直組件的后方，該鋼絲打磨機構(gòu)由兩個呈上下設(shè)置的打磨輥組成，打磨輥上包覆有打磨紗布，鋼絲從前至后依次穿過前校直組件、氧化膜去除機構(gòu)、后校直組件和鋼絲打磨機構(gòu)。

進一步的，所述鋼絲由牽引機構(gòu)進行牽引。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明通過前校直組件和后校直組件可以實現(xiàn)對鋼絲的校直。本發(fā)明中的氧化膜去除電機通過主動輪、從動輪和同步帶的配合帶動兩個處理輥轉(zhuǎn)動，從而帶動處理帶轉(zhuǎn)動，處理帶上的鋼絲刷實現(xiàn)對鋼絲的去氧化膜處理。本發(fā)明通過打磨輥上的打磨紗布對鋼絲進行打磨處理，以保證鋼絲表面的光滑度。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為圖1的俯視圖。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的較佳實施例進行詳細闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對本發(fā)明的保護范圍做出更為清楚明確的界定。

如圖1和圖2所示，一種鋼絲預(yù)處理裝置，包括前校直組件、后校直組件、氧化膜去除機構(gòu)和鋼絲打磨機構(gòu)，所述前校直組件包括兩個呈上下設(shè)置的前校直輥1，后校直組件包括兩個呈上下設(shè)置的后校直輥2，前校直組件位于氧化膜去除機構(gòu)的前方，后校直組件位于氧化膜去除機構(gòu)的后方，該氧化膜去除機構(gòu)包括氧化膜去除電機3、主動輪4、從動輪5、同步帶6、兩個處理輥7和一環(huán)形的處理帶8，所述主動輪4與氧化膜去除電機3連接，所述同步帶6連接在主動輪4和從動輪5之間，主動輪4與一個處理輥7連接，從動輪5與另一個處理輥7連接，環(huán)形的處理帶8套裝在兩個處理輥7上，處理帶8上設(shè)有鋼絲刷，所述鋼絲打磨機構(gòu)設(shè)置在后校直組件的后方，該鋼絲打磨機構(gòu)由兩個呈上下設(shè)置的打磨輥9組成，打磨輥9上包覆有打磨紗布，鋼絲10從前至后依次穿過前校直組件、氧化膜去除機構(gòu)、后校直組件和鋼絲打磨機構(gòu)。所述鋼絲由牽引機構(gòu)進行牽引。

工作時，鋼絲10由外部的牽引機構(gòu)牽引，鋼絲10由前向后移動，前校直組件中的兩個前校直輥1以及后校直組件中的兩個后校直輥2實現(xiàn)對鋼絲10的校直。氧化膜去除電機3驅(qū)動主動輪4轉(zhuǎn)動，主動輪4通過同步帶6驅(qū)動從動輪5轉(zhuǎn)動，從而兩個處理輥7轉(zhuǎn)動，使得處理帶8轉(zhuǎn)動，處理帶8上的鋼絲刷對鋼絲10進行處理，以去除鋼絲10上的氧化膜。鋼絲10在經(jīng)過兩個打磨輥9之間時，打磨輥9上的打磨紗布對鋼絲10進行打磨處理，降低鋼絲表面的粗糙度，保證鋼絲表面的光滑度。

本發(fā)明可以對鋼絲進行校直，去除鋼絲上的氧化膜，并實現(xiàn)對鋼絲的打磨處理，保證鋼絲表面的光滑度，進而保證最終所生產(chǎn)的銅包鋼絲的產(chǎn)品質(zhì)量。

以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。