技術(shù)總結(jié)
鎂合金表面低應(yīng)力疏水復(fù)合TiSiCN薄膜的制備方法，涉及一種復(fù)合TiSiCN薄膜的制備方法。本發(fā)明是要解決現(xiàn)有鎂合金表面硬度較低，不耐磨，易腐蝕的問題。方法：一、鎂合金基體的前處理；二、鍍膜前準(zhǔn)備；三、制備二元TiSi過渡緩沖層；四、制備氮化物中間層；五、制備TiSiCN蓋面層；六、將制備好的復(fù)合薄膜進(jìn)行真空退火處理，得到致密均勻?低應(yīng)力?疏水?耐蝕性的復(fù)合TiSiCN薄膜。本方法將直流、射頻和線圈結(jié)合應(yīng)用在磁控濺射技術(shù)中，三者協(xié)同作用，相互取長補(bǔ)短，互相促進(jìn)，磁控濺射持續(xù)穩(wěn)定，制備的薄膜致密均勻，效果得到顯著提高。本發(fā)明用于制備復(fù)合TiSiCN薄膜。

技術(shù)研發(fā)人員：李海濤;榮守范;李星逸;孫鵬飛;李俊剛;董海;朱永長;孫建波
受保護(hù)的技術(shù)使用者：佳木斯大學(xué)
文檔號(hào)碼：201610954166
技術(shù)研發(fā)日：2016.11.03
技術(shù)公布日：2017.03.15