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一種激光熔覆銅表面復合涂層及其制備方法與流程

文檔序號:12110136閱讀:726來源:國知局
一種激光熔覆銅表面復合涂層及其制備方法與流程
本發(fā)明屬于材料表面工程領域,特別涉及一種激光熔覆銅表面復合涂層及其制備方法。
背景技術
:激光熔覆技術是通過在基材的表面添加熔覆材料,利用高能密度激光束使之與基材表面薄層一起熔凝,與基體形成冶金結合的熔覆涂層的一種新型表面改性技術。它通過采用“涂層+基體”模式,在低成本基體上制備耐磨、耐蝕、耐高溫、抗氧化、隔熱、絕緣、熱輻射、抗輻射、導電和生物功能等多種特性的表面強化層,既可形成幾微米至幾毫米厚且比較均勻的強化涂層,又可使強化涂層與被強化材料之間實現(xiàn)冶金結合,可以有針對性地提高材料的相關表面性能,是一種應用前景廣闊的有效強化手段。與常規(guī)熱處理相比,激光熔覆能夠進行局部處理,而且具有工件變形小、冷卻速度快、工作效率高、合金元素消耗少、不需要淬火介質、清潔無污染、易于實現(xiàn)自動化等優(yōu)點,具有很好的發(fā)展前景。目前電力行業(yè)使用的導電材料或是散熱材料為純銅,但是純銅比較軟,在使用時會在其表面涂覆一層耐磨的涂覆層,但是現(xiàn)有技術中的純銅材料在高溫條件下涂覆層的硬度不高,耐磨性差,影響其使用壽命。純銅表面熱噴涂制備的涂層與基體結合強度不高,存在較多孔隙,工藝較難控制,工藝成本較高,而且污染較嚴重;采用冷噴涂制備的涂層與基體為機械結合,結合強度較低,工藝較復雜等;而采用熱化學反應法制備的涂層與基體結合強度不高,涂層不夠致密等。技術實現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的是提供一種激光熔覆銅表面復合涂層,是在純銅的表面制備三元金屬硅化物MoNiSi、二元金屬硅化物Ni2Si涂層,顯著提高了零件的高溫耐磨性,延長了其使用壽命。本發(fā)明的另一個目的是提供上述激光熔覆銅表面復合涂層的制備方法。本發(fā)明的目的可以通過以下技術方案來實現(xiàn):一種激光熔覆銅表面復合涂層,其特征在于:在純銅基體表面復合有熔覆層,該熔覆層材料的復合相為三元金屬硅化物MoNiSi和二元金屬硅化物Ni2Si組成,該熔覆層材料的化學成分Si為20-40at%,Mo為20-40at%,余量為Ni。所述熔覆層厚度為0.8-1.6mm。上述激光熔覆銅表面復合涂層的制備方法,其步驟包括,(1)將粒徑為100-300目的Si、Mo及Ni三種單元素粉末球磨混合1-3小時,形成復合粉末;然后用二丙酮醇將粉末調至粘糊狀;(2)將步驟(1)中的粘糊狀粉磨均勻預置在基體表面,自然風干,然后在150-200℃條件下干燥2-3小時,形成厚度為0.8-1.6mm的涂覆層;(3)采用激光熔覆技術,激光束垂直于步驟(2)中的基體表面掃描,掃描過程中側向吹送惰性氣體保護,氣流量為15-25L/min,激光功率為2500-3500W,掃描速度為600-1000mm/min,離焦量為25-65mm。優(yōu)選的,該惰性氣體為氬氣。所述步驟(1)中,Si、Mo及Ni三種單元素粉末的配比為,Mo為20-26at%,Si為34-40at%,Ni為33-40at%。進一步優(yōu)選的,步驟(1)中,Si、Mo及Ni三種單元素粉末的配比為,Mo為20at%,Si為40at%,Ni為40at%。Mo、Si元素的添加使得涂層具有較高的硬度,添加一定的Ni元素可以使之與Mo、Si形成韌性相,改善涂層的組織。所述步驟(2)中,干燥后的純銅基體表面的涂覆層的厚度為0.8-1.6mm。涂覆層的厚度決定了形成涂層質量。二丙酮醇為有機粘結劑,在激光加工過程中要燃燒,汽化。若涂覆層太厚容易引起熔覆層氣孔、裂紋等缺陷;涂覆層太薄制備的熔覆層可能因為太薄而無實際應用價值。與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明的有益效果在于:(1)通過本制備方法得到的基體表面的復合涂層組織細小均勻,無明顯的氣孔和裂紋,與基體材料之間完全冶金結合,熔覆層厚度達到0.8-1.6mm,其與金屬基體表面的粘結力強,不易脫落。(2)本發(fā)明制備的復合涂層材料具有較高的硬度,其硬度達到1284HV,耐磨性比不銹鋼基體提高了2倍,熔覆層組織主要由三元金屬硅化物MoNiSi和二元金屬硅化物Ni2Si及Cu基固溶體組成,實現(xiàn)零件的表面改性或修復。(3)本制備方法簡單、工藝可控度高。附圖說明圖1為實施例1中的制得的復合涂層的形貌圖。圖2為實施例1中的制得的復合涂層的SEM圖。圖3為實施例1中的制得的復合涂層組織的SEM圖。圖4為實施例1和實施例2中的復合涂層及不銹鋼的摩擦系數(shù)曲線對比圖。圖5為實施例1的復合涂層的XRD圖。圖6為實施例2中的制得的復合涂層組織的SEM圖。具體實施方式下面結合實施例,對本發(fā)明作進一步說明:實施例1(1)、將Si、Mo和Ni三種粒徑為200目的單元素粉末,三種粉末的純度均大于或等于99.5%。按照原子個數(shù)百分比計為:40%Si、20%Mo、40%Ni的比例稱取,然后在球磨機中進行粉末混合1.5小時,得到均勻的混合粉體;(2)、將純銅基體,尺寸為:50mm×50mm×8mm,表面進行清理、打磨,并擦凈,吹干、備用;(3)、稱取步驟(1)中的混合粉體15g,加入適量的二丙酮醇溶液,將粉末調至粘稠狀,預置在步驟(2)中的基體表面形成涂覆層并自然風干,在干燥箱內烘干2小時,干燥溫度為190℃,其涂覆層的厚度為1.5mm。(4)、采用激光熔覆技術,將激光束對步驟(3)中的基體表面進行處理,制備得到復合涂層材料,工藝參數(shù)為:激光束垂直于工件表面掃描,過程中側向吹送氬氣保護,氣流量為20L/min,激光功率為3500W,掃描速度為600mm/min,離焦量為40mm。熔覆層組織細小均勻,無明顯的氣孔和裂紋,與基體結合良好,如圖1所示。圖2和圖3為復合涂層的SEM圖,結合圖5中XRD分析結果可以發(fā)現(xiàn)涂層主要由枝晶狀的三元金屬硅化物MoNiSi和二元金屬硅化物Ni2Si及銅基固溶體組成。本實施例的復合涂層的EDS分析圖下表所示,其結果如下表所示:表1:圖2組織的EDS分析結果表ElementWt%At%SiK22.1738.26MoL3.271.65NiK51.4842.49CuK23.0817.6MatrixCorrectionZAF表2:圖3組織的EDS分析結果表ElementWt%At%SiK16.1334.4MoL50.0731.26NiK31.8632.51CuK1.941.83MatrixCorrectionZAF對所制備的復合涂層材料進行摩擦磨損測試,試驗的條件和參數(shù)為:電機頻率為15Hz,載荷為30N,摩擦半徑4mm,摩擦時間為60min。摩擦系數(shù)曲線如圖4所示。本實施案例熔覆層組織細小均勻,無明顯的氣孔和裂紋,與基體形成良好的冶金結合。三元金屬硅化物MoNiSi在保持單相二元金屬硅化物固有的高強度、高硬度和很強的原子間結合力的同時,具有更好的韌性。涂層具有較高的硬度,摩擦系數(shù)是不銹鋼的2倍,具有很好的耐摩擦磨損性能。實施例2(1)、將Si、W和Ni三種粒徑為150目的單元素粉末,三種粉末的純度均大于或等于99.5%。按照原子個數(shù)百分比計為:30%Si、30%Mo、40%Ni的比例稱取,然后在球磨機中進行粉末混合1小時,得到均勻的混合粉體;(2)、將純銅基體表面進行清理、打磨,并擦凈,吹干、備用;(3)、稱取步驟(1)中的混合粉體15g,加入適量的二丙酮醇溶液,將粉末調至粘稠狀,預置在步驟(2)中的基體表面形成涂覆層并自然風干,在干燥箱內烘干1.5小時,干燥溫度為150℃,其涂覆層的厚度為1.2mm。(4)、采用激光熔覆技術,將激光束對步驟(3)中的基體表面進行處理,制備得到耐磨激光熔覆層材料,工藝參數(shù)為:激光束垂直于工件表面掃描,過程中側向吹送氬氣保護,氣流量為20L/min,激光功率為3500W,掃描速度為800mm/min,離焦量為35mm。圖2為本實施例的復合涂層的SEM圖,表3為復合涂層的EDS分析結果如下表所示:表3:EDS分析結果表ElementWt%At%SiK12.5327.95MoL50.8433.2NiK33.7335.99CuK2.92.86MatrixCorrectionZAF對所制備的耐磨激光熔覆層材料進行摩擦磨損測試,試驗的條件和參數(shù)為:電機頻率為15Hz,載荷為30N,摩擦半徑4mm,摩擦時間為60min。摩擦系數(shù)曲線如圖4所示。綜上所述,本實施例制備的復合涂層材料具有非常高硬度、優(yōu)異的高溫耐磨性,對于純銅材料的表面改性效果極為顯著。以上所述為本發(fā)明的較佳實施例而已,但本發(fā)明不應該局限于該實施例所公開的內容。所以凡是不脫離本發(fā)明所公開的精神下完成的等效或修改,都落入本發(fā)明保護的范圍。當前第1頁1 2 3 
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