本發(fā)明涉及有機(jī)el顯示器的制造等中使用的金屬掩模材料和金屬掩模。

背景技術(shù)：

平板顯示器中，與現(xiàn)在主流的液晶顯示器相比，有機(jī)el顯示器具有下述特征：由于結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，因此可以使得產(chǎn)品更?。豢焖僮兓挠跋竦娘@示流暢；還有視野角寬等。該有機(jī)el顯示器已在便攜終端等小型設(shè)備中量產(chǎn)化，作為下一代顯示器的主力，在大型顯示器中的實(shí)用化得以推進(jìn)。

作為制作有機(jī)el顯示器的el(發(fā)光)層的方法，大致分為蒸鍍法和印刷法。蒸鍍法是使在真空中加熱、蒸發(fā)的el物質(zhì)以薄層的形式附著于基板的表面的方法。此外，印刷法是通過在基板的表面上印刷el層從而進(jìn)行制作的方法。蒸鍍法中進(jìn)一步存在發(fā)出rgb(紅綠藍(lán))三色光的類型和使el層發(fā)出白色光的類型。

蒸鍍法中，為了以規(guī)定的圖案在基板的規(guī)定位置處制作el層，存在在蒸鍍?cè)磁c基板之間設(shè)置金屬掩模的彩色圖案形成(colorpatterning)工序。金屬掩模由具有與el層的圖案相對(duì)應(yīng)的開口部的金屬制的板或箔形成。從蒸鍍?cè)凑舭l(fā)而脫離至真空中的el物質(zhì)到達(dá)金屬掩模，穿過金屬掩模的開口部的el物質(zhì)附著于基板，從而形成具有規(guī)定圖案的el層。

然而，在彩色圖案形成工序中，由于從蒸鍍?cè)窗l(fā)出的輻射熱、進(jìn)而溫度高的有機(jī)材料附著在金屬掩模表面上，從而導(dǎo)致存在金屬掩模的溫度上升至100℃左右的情況，為了保持基板上的成型位置的精度，對(duì)于金屬掩模而言需要使用具有與基板相比同等程度以下的熱膨脹的材料。特別地，對(duì)于發(fā)出rgb三色光的類型中的el層的圖案，需要分別形成rgb的三色，因此重要的是抑制因金屬掩模的膨脹而導(dǎo)致的成型位置的偏離。

對(duì)于金屬掩模的厚度，在發(fā)出rgb三色光的類型中主要使用0.02~0.08mm的箔，在使el層發(fā)出白色光的類型中主要使用0.08~0.25mm的板。

然而，如果金屬掩模的圖案形成變得微細(xì)，則掩模的開口部所夾持的掩模部分變細(xì)，從而強(qiáng)度降低，存在彎曲而導(dǎo)致開口部形狀變形的風(fēng)險(xiǎn)。

因此，作為兼顧金屬掩模的強(qiáng)度和開孔部的形狀精度的方法，公開了部分設(shè)置加固金屬線從而防止厚度薄的金屬掩模的彎曲的技術(shù)(專利文獻(xiàn)1)、使開孔形成層變薄并將其與另外的支持層相接合從而制作一片金屬掩模的技術(shù)(專利文獻(xiàn)2、3)。此外，公開了控制表面粗糙度從而提高蝕刻加工精度的技術(shù)(專利文獻(xiàn)4)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開平10-50478號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本專利第4126648號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)3：日本特開2004-039628號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)4：日本特開2010-214447號(hào)公報(bào)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的課題

然而，在專利文獻(xiàn)1中公開的技術(shù)的情況中，由于有機(jī)材料不會(huì)附著于成為加固金屬線的陰影的部分，因此發(fā)生與陰影效應(yīng)類似的現(xiàn)象，形成于基板上的有機(jī)材料的形狀精度變差。此外，在專利文獻(xiàn)2、3中公開的技術(shù)的情況中，為了制造一片金屬掩模而需要兩片金屬箔，進(jìn)一步需要以良好的精度將這些金屬箔接合，因此金屬掩模的成型工序變得復(fù)雜，制造成本上升。

另一方面，在通過蝕刻等方法由金屬掩模材料制造金屬掩模的工序中，通過目視或ccd照相機(jī)等監(jiān)測(cè)金屬掩模材料的表面有無(wú)缺陷，將有缺陷的金屬掩模材料從工序中剔除。

此外，對(duì)于金屬掩模的開口部以外的部位，雖然未到達(dá)基板上的被遮蔽的蒸鍍物質(zhì)會(huì)沉積，但通過洗滌從而可以作為金屬掩模重復(fù)使用。針對(duì)這樣的重復(fù)使用的金屬掩模的表面有無(wú)缺陷，也通過目視或ccd照相機(jī)等進(jìn)行監(jiān)測(cè)，將有缺陷的金屬掩模從工序中剔除。

作為金屬掩模的缺陷，可以舉出在表面上附著的異物、局部的變色和光澤不良，對(duì)于這些缺陷中無(wú)法通過目視確認(rèn)的微小缺陷，通過利用ccd照相機(jī)等對(duì)表面進(jìn)行放大拍攝而得到的圖像來(lái)進(jìn)行檢查?？梢匀菀椎貦z測(cè)缺陷之中色調(diào)與金屬掩模材料不同的異物和局部變色。此外，對(duì)于色調(diào)與金屬掩模材料相同的異物、例如金屬片，與色調(diào)不同的異物、局部變色相比變得難以檢測(cè)。進(jìn)一步，對(duì)于局部的光澤不良，由于輪廓不清晰、且色調(diào)與金屬掩模材料相同，因此變得更難以在ccd照相機(jī)圖像上進(jìn)行識(shí)別。

因此，金屬掩模材料的表面的凹凸和紋理明顯時(shí)，通過目視檢查難以檢測(cè)上述局部的光澤不良等輕微且微弱的缺陷，進(jìn)一步，即使是ccd照相機(jī)圖像，也存在也無(wú)法檢測(cè)的風(fēng)險(xiǎn)，對(duì)于這一點(diǎn)，專利文獻(xiàn)4記載的技術(shù)盡管通過使表面粗糙度適度變粗糙從而提高蝕刻加工精度，但由于表面的凹凸而導(dǎo)致在通過ccd照相機(jī)圖像以良好的精度檢測(cè)上述局部的光澤不良方面不充分。

因此，本發(fā)明的課題在于，提供能夠提高蝕刻加工精度、且能夠以良好的精度檢測(cè)自身缺陷的金屬掩模材料和金屬掩模。

用于解決課題的手段

本發(fā)明人等反復(fù)進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過將60度光澤度g60控制在規(guī)定的范圍，可以具有能夠提高蝕刻加工精度、且能夠以良好的精度檢測(cè)自身缺陷的適度的表面凹凸。

即，本發(fā)明的金屬掩模材料由fe-ni系合金的軋制板形成，所述fe-ni系合金的軋制板包含總計(jì)30~45質(zhì)量%的ni和co，其中含有0~6質(zhì)量%的co，且剩余部分由fe和無(wú)法避免的雜質(zhì)構(gòu)成，厚度t大于0.08mm，沿軋制平行方向和軋制垂直方向按照jis-b0601測(cè)定的算術(shù)平均粗糙度ra為0.01~0.20μm，并且，沿軋制平行方向和軋制垂直方向按照jis-z8741測(cè)定的60度光澤度g60為200~600。

此外，本發(fā)明的金屬掩模為使用前述金屬掩模材料而成。

發(fā)明的效果

根據(jù)本發(fā)明，可以提供能夠提高蝕刻加工精度、且能夠以良好的精度檢測(cè)自身缺陷的金屬掩模材料和金屬掩模。

附圖說(shuō)明

圖1是顯示精軋后的因晶粒截?cái)喽纬傻募y理的光學(xué)顯微鏡圖像的圖。

具體實(shí)施方式

以下，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的金屬掩模材料進(jìn)行說(shuō)明。應(yīng)予說(shuō)明，在沒有特別說(shuō)明的情況下，“%”表示“質(zhì)量%”。

(合金成分)

對(duì)于有機(jī)el的基板，使用玻璃，需要調(diào)整合金成分以使得設(shè)置于基板上的金屬掩模的熱膨脹系數(shù)達(dá)到玻璃的熱膨脹系數(shù)10×10^-6/℃以下。熱膨脹系數(shù)可以通過在fe中添加規(guī)定濃度的ni和/或co來(lái)進(jìn)行調(diào)整，形成ni和co總計(jì)為30~45%、且co為0~6%的fe-ni系合金。如果ni和co的總計(jì)濃度和co的濃度偏離該范圍，則金屬掩模的熱膨脹系數(shù)變得大于玻璃的熱膨脹系數(shù)，因此是不合適的。優(yōu)選ni和co總計(jì)為34~38%、且co為0~6%。

(厚度)

本發(fā)明的金屬掩模材料的厚度大于0.08mm，優(yōu)選為0.08~0.25mm，更優(yōu)選為0.10~0.20mm。如果金屬掩模材料的厚度為0.08mm以下，則因有機(jī)材料的沉積而導(dǎo)致在金屬掩模中容易產(chǎn)生應(yīng)變或變形，因此存在形成于基板上的有機(jī)材料的位置精度差的情況。如果金屬掩模材料的厚度大于0.25mm，則存在顯著地發(fā)生下述所謂陰影效應(yīng)的情況：在遠(yuǎn)離蒸鍍?cè)吹奈恢?，有機(jī)材料的入射角變淺時(shí)開孔部壁成為陰影，從而使有機(jī)材料的圖案形狀成型為與開孔部不同的形狀，變得難以保持形狀精度。

(算術(shù)平均粗糙度ra)

對(duì)本發(fā)明的金屬掩模材料的表面沿軋制平行方向和軋制垂直方向按照jis-b0601測(cè)定的算術(shù)平均粗糙度ra為0.01~0.20μm，優(yōu)選為0.01~0.08μm。如果ra小于0.01μm從而過度地降低表面粗糙度，則由于表面平滑，因此容易在通過蝕刻而由金屬掩模材料制造金屬掩模的生產(chǎn)線的材料導(dǎo)引輥(送箔輥、送板輥)處發(fā)生滑動(dòng)從而產(chǎn)生損傷。此外，如果ra大于0.20μm從而過度增大表面粗糙度，則變得難以在ccd照相機(jī)圖像上識(shí)別輪廓不清晰、且色調(diào)與金屬掩模材料相同的局部的光澤不良。

此外，對(duì)本發(fā)明的金屬掩模材料的表面沿軋制平行方向和軋制垂直方向按照jis-b0601測(cè)定的最大高度ry優(yōu)選為0.1~2.0μm。

(60度光澤度g60)

本發(fā)明的金屬掩模材料的表面的沿軋制平行方向和軋制垂直方向按照jis-z8741測(cè)定的60度光澤度g60為200~600，優(yōu)選為400~600。如果金屬掩模材料的g60小于200，則表面的凹凸和紋理明顯，變得難以通過ccd照相機(jī)圖像檢測(cè)輪廓不清晰、且色調(diào)與金屬掩模材料相同的局部的光澤不良。如果金屬掩模材料的g60大于600，則由于表面變得過于平滑，因此在表面控制因子(例如軋制輥的形狀、表面粗糙度、軋制油的粘度、在軋制輥表面與金屬掩模材料表面之間形成的油膜的厚度、以及軋制前的金屬掩模材料的表面粗糙度)的偏差的影響下g60大幅變化，變得難以確保表面的均勻性，從而容易產(chǎn)生外觀上的品質(zhì)不良(例如條紋、不均)。

(金屬掩模材料的制造方法)

本發(fā)明的金屬掩模材料可以例如以下述方式制造，但并非意圖為限定于下述所示的方法。

首先，在熔融爐中將原料熔融，得到上述fe-ni系合金組成的熔融液。此時(shí)，如果熔融液的氧濃度高，則存在氧化物等結(jié)晶物的生成量增多從而成為蝕刻不良的原因的情況，因此通過常規(guī)的脫氧方法、例如添加碳并進(jìn)行真空感應(yīng)熔化等來(lái)提高熔融液的純度，然后鑄造成錠。然后，在熱軋、磨削除去氧化層后，反復(fù)進(jìn)行冷軋和退火從而精加工成規(guī)定的厚度。對(duì)于冷軋和退火，例如，可以依次進(jìn)行中間再結(jié)晶退火、中間冷軋、最終再結(jié)晶退火、精冷軋、去應(yīng)力退火的工序。

(中間再結(jié)晶退火)

優(yōu)選進(jìn)行結(jié)晶粒度編號(hào)gsno.(jisg0551“鋼-結(jié)晶粒度的顯微鏡試驗(yàn)方法”中規(guī)定的編號(hào))達(dá)到9.0~11.0的再結(jié)晶退火。通過增大結(jié)晶粒度編號(hào)gsno.，從而通過最終再結(jié)晶退火得到取向?yàn)?200)的金屬組織。對(duì)于通過最終再結(jié)晶退火而取向?yàn)?200)的金屬組織，在精冷軋中不易產(chǎn)生晶粒的截?cái)嗉y理，可以切實(shí)地使60度光澤度g60為200以上。如果結(jié)晶粒度編號(hào)gsno.小、即晶粒大，則存在無(wú)法通過最終再結(jié)晶退火得到充分地取向?yàn)?200)的金屬組織的情況，因此結(jié)晶粒度編號(hào)gsno.的下限為9.0。另一方面，如果結(jié)晶粒度編號(hào)gsno.過大、即晶粒過小，則將會(huì)在再結(jié)晶組織中分散生成未再結(jié)晶部，成為在最終再結(jié)晶退火中產(chǎn)生不均勻的再結(jié)晶組織的原因，因此結(jié)晶粒度編號(hào)gsno.的上限為11.0。

在此，如果提高中間再結(jié)晶退火的溫度或延長(zhǎng)時(shí)間，則gsno.變小，如果降低溫度或縮短時(shí)間，則gsno.變大。

(中間冷軋)

優(yōu)選進(jìn)行下式所定義的加工度為85%以上的冷軋。

加工度＝{(軋制前的板厚-軋制后的板厚)/(軋制前的板厚)}×100(%)。

通過提高加工度，從而通過最終再結(jié)晶退火得到取向?yàn)?200)的金屬組織，如上所述，60度光澤度g60變高。如果加工度小，則存在無(wú)法通過最終再結(jié)晶退火得到充分地取向?yàn)?200)的金屬組織的情況，因此加工度的下限為85%。另一方面，即使加工度過高，也不會(huì)進(jìn)一步增大最終再結(jié)晶退火中的(200)的取向度，此外硬度變高從而生產(chǎn)率降低，因此加工度的上限為90%。

(最終再結(jié)晶退火)

在最終再結(jié)晶退火中，如果進(jìn)行結(jié)晶粒度編號(hào)gsno.達(dá)到9.0~11.0的再結(jié)晶退火，則根據(jù)與中間再結(jié)晶退火的情況相同的理由，可以切實(shí)地使60度光澤度g60為200以上。

(精冷軋)

金屬掩模材料的表面性狀(算術(shù)平均粗糙度ra和60度光澤度g60)根據(jù)精冷軋中生成的表面凹凸的不同而發(fā)生變化。精冷軋中，軋制輥痕被轉(zhuǎn)印至材料，從而導(dǎo)致產(chǎn)生表面凹凸。此外，軋制油流入至精冷軋中的軋制輥與材料之間，產(chǎn)生油坑(oilpit)，由此也產(chǎn)生表面凹凸。也即是說(shuō)，在軋制輥與材料之間存在油膜，在油膜局部地厚的部分，軋制輥與材料的接觸變得不充分，從而未轉(zhuǎn)印軋制輥痕而呈現(xiàn)坑狀的凹凸，這成為油坑。作為軋制油局部地變厚的原因，可以舉出軋制輥表面的凹凸和材料的加工性的偏差。特別地，如果表面變得平滑，則偏差的影響的敏感性提高，容易產(chǎn)生油膜的厚度的偏差。

進(jìn)一步，在精冷軋中晶粒截?cái)鄰亩a(chǎn)生紋理，對(duì)60度光澤度g60產(chǎn)生很大影響。

圖1顯示精冷軋后的因晶粒截?cái)喽纬傻募y理的光學(xué)顯微鏡圖像。因晶粒截?cái)喽纬傻募y理沿軋制方向rd斷續(xù)分布成一列，如圖1的箭頭所指示地，各紋理是在與軋制方向rd相交叉的方向上延伸的條紋狀。應(yīng)予說(shuō)明，圖1中，沿軋制方向rd生成2條(2列)清晰的紋理。

在此，圖1的記號(hào)g表示在冷軋中在軋制方向rd上延展的橢圓狀的1個(gè)晶粒。可知，截?cái)嗉y理產(chǎn)生于該晶粒g的內(nèi)部。

應(yīng)予說(shuō)明，圖1中，由于使光學(xué)顯微鏡圖像的焦點(diǎn)對(duì)焦于晶粒截?cái)嗉y理，因此焦點(diǎn)位置與晶粒截?cái)嗉y理有很大不同的油坑、軋制輥痕的轉(zhuǎn)印等表面凹凸并未在圖1中映出。

從生產(chǎn)率的觀點(diǎn)出發(fā)，以高加工度進(jìn)行板的冷軋，因此晶粒被較長(zhǎng)地延展，從而變得容易截?cái)唷Ｔ摻財(cái)嗟木ЯＨ鐖D1所示地在表面上呈現(xiàn)為紋理，導(dǎo)致60度光澤度g60的降低。

在此，發(fā)生晶粒的截?cái)嗟碾y易度受晶粒的取向影響，根據(jù)晶粒的取向的不同，截?cái)嚯y易度不同。其原因在于結(jié)晶的變形能力根據(jù)結(jié)晶取向的不同而不同。并且，本發(fā)明的金屬掩模材料的合金體系中的主要衍射峰為(200)面、(220)面、(311)面和(111)面，但在(200)面上晶粒最難截?cái)?。因此，如上所述地通過中間再結(jié)晶退火和最終再結(jié)晶退火使其取向?yàn)?200)面，由此變得不易因精冷軋而發(fā)生晶粒的截?cái)?，可以?0度光澤度g60為200以上。

優(yōu)選使精冷軋的加工度成為70%以上。加工度越高，則因壓縮加工的效果而導(dǎo)致在精冷軋中生成的晶粒的截?cái)嗉y理變得越小，60度光澤度g60變得越高。另一方面，即使加工度過高，因壓縮加工而導(dǎo)致的晶粒的截?cái)嗉y理微弱化的效果也會(huì)飽和，此外硬度變高從而生產(chǎn)率降低，因此，加工度的上限為90%。

在此，使用直徑盡可能小的軋制輥來(lái)進(jìn)行冷軋，從而軋制油的卷入變少，軋制材料的表面變得平滑。即，使用直徑小的軋制輥時(shí)，可以抑制油坑的產(chǎn)生，進(jìn)而可以使晶粒的截?cái)嗉y理變小。此外，與軋制輥徑同樣，通過使軋制速度為低速，從而軋制油的卷入變少，軋制材料的表面變得平滑。即，使軋制速度為低速時(shí)，可以抑制油坑的產(chǎn)生，進(jìn)而可以使晶粒截?cái)嗉y理變小。

應(yīng)予說(shuō)明，冷軋的軋制輥的直徑和軋制速度根據(jù)制造的金屬掩模材料的厚度、寬度而改變，在可以控制ra和g60的范圍內(nèi)適當(dāng)設(shè)定軋制輥的直徑和軋制速度即可，優(yōu)選使軋制速度為60m/分鐘以下。

應(yīng)予說(shuō)明，油坑和晶粒截?cái)嗉y理是各自因不同的因子而產(chǎn)生的，因此優(yōu)選在確認(rèn)油坑和晶粒截?cái)嗉y理的產(chǎn)生情況的同時(shí)設(shè)定可以抑制兩者的制造條件。

(去應(yīng)力退火)

進(jìn)一步，優(yōu)選最后在200~400℃下進(jìn)行去應(yīng)力退火。去應(yīng)力退火的時(shí)間例如可以為1~24小時(shí)。

實(shí)施例

以下，示出本發(fā)明的實(shí)施例，但這些實(shí)施例是為了更好地理解本發(fā)明而提供的，并不意圖為限制本發(fā)明。

(1)金屬掩模材料的制造

通過真空感應(yīng)熔化，熔融制作在fe中添加36質(zhì)量%的ni而得到的原料，鑄造厚度為50mm的錠。將其熱軋至8mm，磨削除去表面的氧化膜后，反復(fù)進(jìn)行冷軋和退火，制成冷軋材料，然后，在表1所示的條件下依次進(jìn)行中間再結(jié)晶退火、中間冷軋、最終再結(jié)晶退火、精冷軋的工序，精加工成表1的實(shí)施例1~8、比較例1~4的產(chǎn)品厚度的金屬掩模材料。進(jìn)一步，在300℃下進(jìn)行12小時(shí)的去應(yīng)力退火。此外，作為實(shí)施例9，制造在fe中添加31質(zhì)量%的ni和5質(zhì)量%的co而得到的組成的材料。實(shí)施例9的制造工序與其他實(shí)施例相同。

應(yīng)予說(shuō)明，中間再結(jié)晶退火中的結(jié)晶粒度編號(hào)gsno.為10.0。此外，對(duì)于每個(gè)實(shí)施例，分別調(diào)整軋制輥的表面粗糙度以使得產(chǎn)品表面的算術(shù)平均粗糙度ra達(dá)到0.07~0.08(0.065~0.084)。

針對(duì)去應(yīng)力退火后的各實(shí)施例及比較例的金屬掩模材料，進(jìn)行以下的評(píng)價(jià)。

(1)算術(shù)平均粗糙度ra

如上所述進(jìn)行測(cè)定。測(cè)定使用接觸式表面粗糙度計(jì)(小坂研究所制se-3400)，求出以n≥3進(jìn)行測(cè)定而得到的平均值。

(2)60度光澤度g60

如上所述進(jìn)行測(cè)定。測(cè)定使用日本電色工業(yè)株式會(huì)社制的手持型光澤度計(jì)pg-1，求出以n≥3進(jìn)行測(cè)定而得到的平均值。

(3)表面缺陷的誤測(cè)定是否存在

分別在各實(shí)施例及比較例的金屬掩模材料上故意制作5個(gè)等級(jí)的表面缺陷，用ccd照相機(jī)測(cè)定表面缺陷。

具體而言，在各金屬掩模材料的表面上粘貼50mm×50mm的耐酸膠帶，在其中央設(shè)置10mm×10mm的開口部從而使表面部分露出。在該露出部上，涂布下述5種濃度的蝕刻液從而使其形成表面凹凸，制成表面缺陷。該露出部可以通過目視確認(rèn)到與周圍相比更模糊的狀態(tài)，因此將其視為成為基準(zhǔn)的表面缺陷。

蝕刻液為將47波美度的氯化鐵水溶液直接使用、用水將其分別稀釋至2倍、4倍、8倍、16倍得到的溶液總計(jì)5種，用鑷子夾持浸滲有蝕刻液的脫脂棉，用脫脂棉擦拭露出部15秒從而進(jìn)行蝕刻。蝕刻后，用浸滲有水的布拭去蝕刻液，剝離耐酸膠帶，完成作業(yè)。應(yīng)予說(shuō)明，在將氯化鐵水溶液在未稀釋的情況下用于蝕刻時(shí)，露出部的金屬光澤完全喪失，呈現(xiàn)白色，隨著稀釋率變高，露出部的模糊程度變?nèi)?。此外，在稀釋率?2倍時(shí)，無(wú)法通過目視確認(rèn)到露出部的模糊，因此視為未形成表面缺陷，從而使用稀釋率達(dá)到16倍為止的蝕刻液。因此，通過上述5種蝕刻液進(jìn)行的蝕刻中，形成可以通過目視確認(rèn)到的表面缺陷，只要不受金屬掩模材料的表面凹凸的影響，則本來(lái)也應(yīng)當(dāng)被ccd檢測(cè)為表面缺陷。

接著，針對(duì)上述5種表面缺陷，通過ccd照相機(jī)拍攝256級(jí)(±128)的像素?cái)?shù)據(jù)。在此，將遮擋反射光的狀態(tài)作為最暗的反射，將其亮度設(shè)定為-128，將來(lái)自金屬掩模材料的表面中恒定部(露出部周圍的部位)的反射設(shè)定為±0。并且，將亮度落在±20的范圍內(nèi)的反射定義為恒定部中的正常反射，將亮度脫離±20的范圍的反射定義為表面缺陷中的異常反射，確認(rèn)能否在露出部處檢測(cè)到該異常反射。

針對(duì)各實(shí)施例及比較例的金屬掩模材料，將可以檢測(cè)到所有上述5種表面缺陷的情況判斷為“無(wú)表面缺陷的誤測(cè)定”，將未能檢測(cè)到5種中1種以上的表面缺陷的情況判斷為“有表面缺陷的誤測(cè)定”。

【表1】

由表1表明，ra為0.01~0.20μm、g60為200~600的各實(shí)施例的情況下，未發(fā)生表面缺陷的誤測(cè)定。

另一方面，在精冷軋的加工度小于70%的比較例1、和精冷軋的軋制速度大于60m/分鐘的比較例2的情況下，g60小于200，發(fā)生表面缺陷的誤測(cè)定。

在最終再結(jié)晶退火的結(jié)晶粒徑(gsno.)小于9.0的條件下進(jìn)行最終再結(jié)晶退火的比較例3的情況下、和中間冷軋的加工度小于85%的比較例4的情況下，g60小于200，發(fā)生表面缺陷的誤測(cè)定。