本發(fā)明涉及精密加工領(lǐng)域，尤其涉及一種澆注成型的拋光臺的制作方法。

背景技術(shù)：

拋光臺是為提高工件的均勻性和平面度的一種研磨工具，其主要是利用拋光臺基板上放置拋光粉等，利用工件與拋光臺之間的相互轉(zhuǎn)動，通過磨粉相互輕微的摩擦來克服工件表面的粗糙度。

一般拋光臺是用大理石基材或純鋼構(gòu)件構(gòu)成，但其由于制作時(shí)剛性太大，在較高轉(zhuǎn)速下，絲磨需要極其精確，給操作帶來一定的難度。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種澆注成型的拋光臺的制作方法，其在客觀上改善了拋光臺面的平整程度及剛性，給工作人員操作帶來極大的方便。

本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

一種澆注成型的拋光臺的制作方法，按如下步驟進(jìn)行：

步驟1，選取鋼底，并對鋼底上表面進(jìn)行打磨，使表面平整；

步驟2，按質(zhì)量比，將瀝青10-20%、松香50-80%及拋光粉0-30%熱熔，全部熔融且均勻后，在該熔融狀態(tài)下將其澆注于上述鋼底鋼件上；

步驟3，上述步驟2中澆注完成后，待其重新固化冷卻后，對澆注后的表面即拋光臺面進(jìn)行修復(fù)處理，使其均勻平整；

步驟4，上述步驟3中已經(jīng)制作好的拋光臺面，用切割工具對表面進(jìn)行開一定深度的槽線，用于儲存拋光粉或研磨劑。

進(jìn)一步地，所述拋光粉為氧化鈰或氧化鋯或氧化鋰。

進(jìn)一步地，所述步驟1中，鋼底為平臺或設(shè)有一定高度的柱體。

進(jìn)一步地，所述步驟3中，熔融溫度為150-250℃。

有益效果：本發(fā)明用瀝青、松香及拋光粉制作的拋光臺，其剛性較低，絲磨時(shí)，給操作帶來方便，且用鋼底構(gòu)件保證了拋光臺的穩(wěn)定性，同時(shí)在拋光臺上表面開細(xì)槽方便附著研磨助劑或磨粒。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的整體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本發(fā)明的鋼底結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3是本發(fā)明的另一種鋼底結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。

實(shí)施例1，如圖1和2所示，本實(shí)施方式的一種澆注成型的拋光臺的制作方法，按如下步驟進(jìn)行：

步驟1，選取平臺式鋼底1，并對鋼底上表面進(jìn)行打磨，使表面平整；

步驟2，按質(zhì)量比，將瀝青15%、松香75%及拋光粉10%熱熔，在180℃下，將上全部熔融且均勻后，在該熔融狀態(tài)下將其澆注于上述平臺式鋼底鋼件上；

步驟3，上述步驟2中澆注完成后，待其重新固化冷卻后，對澆注后的表面即拋光臺2進(jìn)行修復(fù)處理，使其均勻平整；

步驟4，上述步驟3中已經(jīng)制作好的拋光臺面，用切割工具對表面進(jìn)行開一定深度的槽線3，用于儲存拋光粉或研磨劑。

在本實(shí)施方式中，所述拋光粉為氧化鈰或氧化鋯或氧化鋰。

實(shí)施例2、如圖1和3所示，本實(shí)施方式的一種澆注成型的拋光臺的制作方法，按如下步驟進(jìn)行：

步驟1，選取柱狀式鋼底1，并對鋼底上表面進(jìn)行打磨，使表面平整；

步驟2，按質(zhì)量比，將瀝青10%、松香80%及拋光粉10%熱熔，在150℃下，將上全部熔融且均勻后，在該熔融狀態(tài)下將其澆注于上述柱狀式鋼底鋼件上；

步驟3，上述步驟2中澆注完成后，待其重新固化冷卻后，對澆注后的表面即拋光臺2進(jìn)行修復(fù)處理，使其均勻平整；

步驟4，上述步驟3中已經(jīng)制作好的拋光臺，用切割工具對表面進(jìn)行開一定深度的槽線3，用于儲存拋光粉或研磨劑。

在本實(shí)施方式中，所述拋光粉為氧化鈰或氧化鋯或氧化鋰。

以上描述是結(jié)合具體實(shí)施方式和附圖對本發(fā)明所做的進(jìn)一步說明。但是，本發(fā)明顯然能夠以多種不同于此描述的其它方法來實(shí)施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)容的情況下根據(jù)實(shí)際使用情況進(jìn)行推廣、演繹，因此，上述具體實(shí)施例的內(nèi)容不應(yīng)限制本發(fā)明確定的保護(hù)范圍。