本發(fā)明涉及屬于鍋具技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層及其制備方法。

背景技術(shù)：

鋁合金、304不銹鋼等材質(zhì)在家用電器產(chǎn)品中應(yīng)用非常廣泛，但這些非磁性或弱導(dǎo)磁性材質(zhì)的鍋具具備的電磁加熱功能不理想。例如，鋁制ih加熱壓力鍋或煎鍋等，傳統(tǒng)工藝部分采用熱壓釬焊或鉚接的方式，在基體鍋具底部制備一層導(dǎo)磁的430不銹鋼薄板。但這兩種工藝無法解決鍋體高位復(fù)底不銹鋼板的問題，其電磁加熱功率較小。尤其是后者的鉚接工藝，在鋁鍋底上進(jìn)行鐵板(或430不銹鋼)復(fù)合工藝時(shí)，需要在鐵板(或430不銹鋼)上開多個(gè)孔，但這樣會(huì)塊體的致密性下降，其切割磁感線的密度下降，導(dǎo)致其電磁加熱的渦流效應(yīng)下降，加熱功率相應(yīng)下降。通過在鍋底部制備一定致密的導(dǎo)磁涂層可有效解決該問題。

通過采用冷噴涂技術(shù)，在這些鍋具底部制備一層高致密性的磁性導(dǎo)磁涂層，以實(shí)現(xiàn)其良好的電磁加熱效果。以fe、ni、co、fe-si合金、430不銹鋼等細(xì)微粉末為原材料，通過控制冷噴涂的工藝參數(shù)，制備孔隙率低的結(jié)構(gòu)致密的磁性導(dǎo)磁涂層(0.05～0.5％)，可以顯著提升非磁性或弱磁性鍋具的電磁加熱效率(最大輸出功率達(dá)1600～2000w)。

該冷噴涂技術(shù)在鋁鍋底部制備的導(dǎo)磁涂層性能明顯優(yōu)于熱噴涂制備的導(dǎo)磁涂層，且有望部分取代目前的鋁合金/復(fù)底不銹鋼板，或鋁合金/不銹鋼復(fù)合板制備的鍋具或炊具，顯著降低ih加熱小家電產(chǎn)品的制造成本，并達(dá)到快速高效電磁加熱的目的。這里ih為inductionheating的簡(jiǎn)寫，指利用了電磁誘導(dǎo)引起的兩次電流(旋渦電流)通過被加熱材料時(shí)發(fā)生的焦耳熱量。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

鑒于現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題，本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層，該導(dǎo)磁涂層是通過嚴(yán)格控制冷噴涂技術(shù)的工藝參數(shù)而得到，具有致密性好、不易脫落、性能穩(wěn)定、可批量穩(wěn)定應(yīng)用，發(fā)明所要解決的另一技術(shù)問題是提供上述結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層的制備方法，發(fā)明所要解決的再一技術(shù)問題是提供含有上述結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層的鍋體和鍋具，所述鍋具良好的電磁加熱效果。

本發(fā)明解決上述技術(shù)問題的技術(shù)方案如下：一種結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層，其已作為層狀涂層施涂在基材的表面上，所述導(dǎo)磁涂層由冷噴涂工藝制成，導(dǎo)磁涂層的孔隙率為0.05～0.25％。

優(yōu)選的，所述導(dǎo)磁涂層的厚度為0.1～0.6mm。

冷噴涂(cs：coldspray)，又稱為氣體動(dòng)力噴涂技術(shù)，是指當(dāng)具有一定塑性的高速固態(tài)粒子與基體碰撞后，經(jīng)過強(qiáng)烈的塑性變形而發(fā)生沉積形成導(dǎo)磁涂層的方法。通常條件下，一般的概念是當(dāng)固態(tài)粒子碰撞到某種基體后將產(chǎn)生固態(tài)粒子對(duì)基體的沖蝕作用。

本發(fā)明的有益效果是：所述導(dǎo)磁涂層具有高致密、結(jié)合力強(qiáng)、不易脫落的特點(diǎn)，孔隙率為0.05～0.25％具有提高導(dǎo)磁涂層結(jié)合力和電磁加熱功率的有益效果，低于這一范圍，會(huì)導(dǎo)致工藝過程實(shí)施困難的問題；高于這一范圍，會(huì)導(dǎo)致導(dǎo)磁涂層結(jié)合力和電磁加熱功率下降的問題。

進(jìn)一步，所述導(dǎo)磁涂層為通過工作氣體將導(dǎo)磁金屬的粉末冷噴涂在待噴涂結(jié)構(gòu)的表面所形成的涂層。

進(jìn)一步，所述工作氣體為空氣、氦氣、氮?dú)庵械囊环N或幾種。

進(jìn)一步，所述導(dǎo)磁金屬選自fe、ni、co、fe-si、不銹鋼中一種或幾種的混合。

采用上述技術(shù)方案的有益效果是：fe、ni、co、fe-si、不銹鋼分別具有良好的導(dǎo)磁率的特點(diǎn)，這些粉末制備的導(dǎo)磁涂層，具有良好的電磁加熱效果。

進(jìn)一步，所述導(dǎo)磁金屬的粉末粒度為1～50μm。

采用上述技術(shù)方案的有益效果是：采用較小粒度的導(dǎo)磁金屬的粉末有利于提高導(dǎo)磁涂層的致密性和結(jié)合力，如果粉末粒度過高，容易導(dǎo)致導(dǎo)磁涂層表面粗糙，導(dǎo)磁涂層致密性較差等問題。

本發(fā)明解決上述了另一技術(shù)問題的技術(shù)方案如下：一種結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層的制備方法，包括如下步驟：通過工作氣體將導(dǎo)磁金屬的粉末冷噴涂在待噴涂結(jié)構(gòu)的表面。

進(jìn)一步，所述工作氣體為空氣、氦氣、氮?dú)庵械囊环N或幾種。

采用上述技術(shù)方案的有益效果是空氣、氦氣和氮?dú)夥謩e具有保護(hù)氣氛的特點(diǎn)，在導(dǎo)磁涂層制備過程中，具有保護(hù)導(dǎo)磁涂層的基材粉末不被大量氧化的效果。

進(jìn)一步，所述冷噴涂的噴射壓力為1～3.5mpa。

采用上述技術(shù)方案的有益效果是：采用上述的壓力，有利于保證導(dǎo)磁涂層具備良好的結(jié)合力，如果壓力過高，會(huì)導(dǎo)致后期噴涂的粉末難以沉積，導(dǎo)磁涂層厚度無法增加的問題；如果壓力過低，會(huì)導(dǎo)致金屬粉末的速率低于其沉積的臨界速率，始終難以在基體表面沉積的問題。

進(jìn)一步，所述冷噴涂的噴射溫度為573～1273k。

采用上述技術(shù)方案的有益效果是：采用上述的溫度，有利于提升導(dǎo)磁涂層的致密性和結(jié)合力等，如果溫度過高，會(huì)導(dǎo)致噴槍長(zhǎng)期經(jīng)受高溫，零部件容易損傷的問題；如果溫度過低，會(huì)導(dǎo)致導(dǎo)磁涂層結(jié)合力和致密性較差等問題。

進(jìn)一步，所述冷噴涂的氣體速度為1～2.4m³/min。

采用上述技術(shù)方案的有益效果是：采用上述的氣體速度，有利于保證粉末粒子具有足夠的速度(略高于其沉積的臨界速度)，粉末能有效沉積，如果氣體速度過高，會(huì)導(dǎo)致粒子飛行速度過高，將原有導(dǎo)磁涂層沖蝕掉，后期導(dǎo)磁涂層難以沉積的問題；如果氣體速度過低，會(huì)導(dǎo)致粉末粒子飛行速度低、粉末難以在鍋體表面沉積的問題。

進(jìn)一步，所述冷噴涂的導(dǎo)磁粉末輸送速度為5～15kg/h。

采用上述技術(shù)方案的有益效果是：采用上述的輸送速度，有利于提高粉末的有效沉積率，如果輸送速度過高，會(huì)導(dǎo)致粉末的平均飛行速率下降，粉末的沉積率下降的問題；如果輸送速度過低，會(huì)導(dǎo)致粉末的有效沉積速率下降的問題。

進(jìn)一步，所述冷噴涂的噴射距離為10～50mm。

采用上述技術(shù)方案的有益效果是：采用上述的噴射距離，有利于提高導(dǎo)磁涂層的沉積效率，如果噴射距離過高，會(huì)導(dǎo)致粒子飛行至基體表面時(shí)的速度過低，難以沉積的問題；如果噴射距離過低，會(huì)導(dǎo)致粒子飛行至基體表面時(shí)的速度過高，將前期制備的導(dǎo)磁涂層沖蝕掉而后期的導(dǎo)磁涂層難以沉積增厚的問題。

進(jìn)一步，所述冷噴涂的消耗功率為15～55kw。

采用上述技術(shù)方案的有益效果是：采用上述的消耗功率，有利于對(duì)保護(hù)氣體進(jìn)行有效加熱，熱的保護(hù)氣體可對(duì)粉末進(jìn)行良好的預(yù)熱，使其達(dá)到合適的噴涂溫度，如果消耗功率過高，會(huì)導(dǎo)致氣體溫度過高，容易對(duì)噴嘴的密封圈等造成損傷問題；如果消耗功率過低，會(huì)導(dǎo)致保護(hù)氣體的加熱溫度較低，粉末預(yù)熱溫度不足，導(dǎo)磁涂層結(jié)合力較差等問題。

進(jìn)一步，所述導(dǎo)磁金屬選自fe、ni、co、fe-si、不銹鋼中一種或幾種的混合。

采用上述技術(shù)方案的有益效果是：fe、ni、co、fe-si、不銹鋼分別具有良好的導(dǎo)磁率的特點(diǎn)，這些粉末制備的導(dǎo)磁涂層，具有良好的電磁加熱效果。

進(jìn)一步，所述導(dǎo)磁金屬的粉末粒度為1～50μm。

采用上述技術(shù)方案的有益效果是：采用較小粒度的導(dǎo)磁金屬的粉末有利于提高導(dǎo)磁涂層的致密性和結(jié)合力，如果粉末粒度過高，容易導(dǎo)致導(dǎo)磁涂層表面粗糙，導(dǎo)磁涂層致密性較差等問題。

進(jìn)一步，所述導(dǎo)磁涂層的厚度為0.1～0.6mm。

采用上述技術(shù)方案的有益效果是：導(dǎo)磁涂層的厚度為0.1～0.6mm，有利于保證導(dǎo)磁涂層具備良好的電磁加熱效果，并提高生產(chǎn)效率，如果厚度過高，會(huì)導(dǎo)致生產(chǎn)效率下降等問題；如果厚度過低，會(huì)導(dǎo)致導(dǎo)磁涂層的電磁加熱功率較低的問題。

一種鍋體，包括鍋本體和所述結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層，所述導(dǎo)磁涂層位于鍋本體的外表面，且位于鍋本體的側(cè)壁的下部和/或底部上。

進(jìn)一步，所述鍋本體的材質(zhì)為鋁合金、不銹鋼、高強(qiáng)陶瓷、高強(qiáng)玻璃中的一種或幾種。

采用上述技術(shù)方案的有益效果是：鋁合金、不銹鋼、高強(qiáng)陶瓷、高強(qiáng)玻璃分別具有非導(dǎo)磁或弱導(dǎo)磁的特點(diǎn)，在其表面制備導(dǎo)磁涂層后，均具有良好的電磁加熱效果。

一種烹飪器具，包括電磁感應(yīng)線圈和上述的鍋體，所述電磁感應(yīng)線圈和導(dǎo)磁涂層對(duì)應(yīng)設(shè)置。烹飪器具可以為但不限于鍋具。

采用上述技術(shù)方案的有益效果是：鍋具本身具有較高的強(qiáng)度，其表面可有效冷噴沉積導(dǎo)磁涂層，并根據(jù)導(dǎo)磁涂層的特征保證其良好的電磁加熱效果。

進(jìn)一步，所述電磁感應(yīng)線圈往所述鍋體的投影為投影區(qū)，所述投影區(qū)位于所述導(dǎo)磁涂層內(nèi)，且所述投影區(qū)的區(qū)域邊緣距離所述導(dǎo)磁涂層的邊緣1mm以上。

采用上述方案的有益效果為：因?yàn)槔鋰娡客繉拥倪吘壨ǔＶ旅芏榷疾粔虻?，通過這樣的設(shè)計(jì)，可以保證冷噴涂層的感應(yīng)充分發(fā)熱。

進(jìn)一步，所述電磁感應(yīng)線圈和所述導(dǎo)磁涂層外表面之間的間距小于10mm。

采取上述方案的有益效果為：這樣可以最大限度地利用磁場(chǎng)，特別是穿透0.1～0.6mm厚度范圍的導(dǎo)磁涂層，使得整個(gè)導(dǎo)磁涂層都具有電流從而產(chǎn)生焦耳熱發(fā)熱。

附圖說明

圖1為本發(fā)明局部結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為實(shí)施例2的孔隙率的檢測(cè)結(jié)果。

附圖中，各標(biāo)號(hào)所代表的部件列表如下：

1、鍋本體，2、導(dǎo)磁涂層。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的原理和特征進(jìn)行描述，所舉實(shí)例只用于解釋本發(fā)明，并非用于限定本發(fā)明的范圍。

本發(fā)明為一種結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層，其已作為層狀涂層施涂在基材的表面上，所述導(dǎo)磁涂層由冷噴涂工藝制成，導(dǎo)磁涂層的孔隙率為0.05～0.25％。優(yōu)選的，導(dǎo)磁涂層的厚度為0.1～0.6mm。

本發(fā)明還公開了一種結(jié)構(gòu)致密的導(dǎo)磁涂層的制備方法，包括如下步驟：通過工作氣體將導(dǎo)磁金屬的粉末冷噴涂在待噴涂結(jié)構(gòu)的表面。

所述工作氣體為空氣、氦氣、氮?dú)庵械囊环N或幾種。所述冷噴涂的噴射壓力為1～3.5mpa。所述冷噴涂的噴射溫度為573～1273k。所述冷噴涂的氣體速度為1～2.4m³/min。所述冷噴涂的導(dǎo)磁粉末輸送速度為5～15kg/h。所述冷噴涂的噴射距離為10～50mm。所述冷噴涂的消耗功率為15～55kw。所述導(dǎo)磁金屬選自fe、ni、co、fe-si、不銹鋼中一種或幾種的混合。所述導(dǎo)磁金屬的粉末粒度為1～50μm。所述導(dǎo)磁涂層的厚度為0.1～0.6mm。

進(jìn)一步，上述的工藝條件還可以為：所述工作氣體為空氣、氦氣、氮?dú)庵械囊环N或幾種。所述冷噴涂的噴射壓力為1.8～2.5mpa。所述冷噴涂的噴射溫度為1173～1273k。所述冷噴涂的氣體速度為1.6～2.4m³/min。所述冷噴涂的導(dǎo)磁粉末輸送速度為7～10kg/h。所述冷噴涂的噴射距離為20～40mm。所述冷噴涂的消耗功率為20～50kw。所述導(dǎo)磁金屬選自fe、ni、co、fe-si、不銹鋼中一種或幾種的混合。所述導(dǎo)磁金屬的粉末粒度為10～40μm。所述導(dǎo)磁涂層的厚度為0.15～0.4mm。導(dǎo)磁涂層的孔隙率為0.1～0.24％。

一種鍋體，包括鍋本體和上述導(dǎo)磁涂層，所述導(dǎo)磁涂層位于鍋本體的外表面，且位于鍋本體的側(cè)壁的下部及底部。所述鍋本體的材質(zhì)為鋁合金、不銹鋼、高強(qiáng)陶瓷、高強(qiáng)玻璃中的一種或幾種。

在鍋體進(jìn)行制備時(shí)，可以對(duì)鍋本體的外表面進(jìn)行基體預(yù)處理，所述基體預(yù)處理的方法為對(duì)鍋本體的基材外表面雜質(zhì)進(jìn)行除油脫脂處理；可選擇的，在基體預(yù)處理之前，對(duì)鍋本體的基材待噴涂表面進(jìn)行噴砂處理。

一種烹飪器具，包括電磁感應(yīng)線圈和上述的鍋體，所述電磁感應(yīng)線圈和導(dǎo)磁涂層對(duì)應(yīng)設(shè)置。所述電磁感應(yīng)線圈往所述鍋體的投影為投影區(qū)，所述投影區(qū)位于所述導(dǎo)磁涂層內(nèi)，且所述投影區(qū)的區(qū)域邊緣距離所述導(dǎo)磁涂層的邊緣1mm以上，以保證冷噴涂層的感應(yīng)充分發(fā)熱。所述電磁感應(yīng)線圈和所述導(dǎo)磁涂層外表面之間的間距小于10mm，使得整個(gè)導(dǎo)磁涂層都具有電流從而產(chǎn)生焦耳熱發(fā)熱。

下面通過一些具體的實(shí)施例來進(jìn)行具體介紹。

采用冷噴涂系統(tǒng)，壓縮空氣加速導(dǎo)磁金屬粉末到零界速度，經(jīng)噴嘴噴出，導(dǎo)磁金屬粉末直擊到鍋體外表面后發(fā)生物理形變。導(dǎo)磁金屬粉末撞扁在鍋體外表面并牢固附著，形成一層致密性很好的導(dǎo)磁層，使鍋具有導(dǎo)磁性能。

說明書附圖中附圖1為摘要附圖，如圖1所示，圖1是本發(fā)明含冷噴涂導(dǎo)磁涂層鍋具的局部結(jié)構(gòu)示意圖。在鍋本體1的底部、或底部+圓弧過渡處，噴涂導(dǎo)磁涂層2，鍋本體1與導(dǎo)磁涂層2之間主要以機(jī)械結(jié)合的方式結(jié)合在一起，二者構(gòu)成可電磁加熱的鍋具/炊具。

實(shí)施例1

一種鍋體，包括鍋本體和導(dǎo)磁涂層，所述導(dǎo)磁涂層位于鍋本體的外表面。所述鍋本體的材質(zhì)為鋁合金。

利用冷噴涂工藝在鍋本體上制備導(dǎo)磁涂層，包括以下步驟：

1.對(duì)鍋本體的外表面待噴涂表面進(jìn)行除油脫脂處理；

2.通過工作氣體將導(dǎo)磁金屬的粉末冷噴涂在鍋本體的外表面，所述導(dǎo)磁金屬的粉末在鍋本體的表面形成導(dǎo)磁涂層，具體的工藝參數(shù)為：

(1)導(dǎo)磁粉末選自采用純度為99.0-99.8％的fe粉末，粉末粒度為10～20μm；工作氣體采用高純氮?dú)?，氮?dú)獾募兌葹?9.99％，噴涂距離為25～30mm；噴涂溫度(即氣體加熱溫度)為1223～1273k；消耗功率為20～35kw；導(dǎo)磁粉末輸送速度為7～8kg/h；噴射壓力為1.8～2.0mpa；氣體速度為1.6～1.8m³/min；

(2)制備的導(dǎo)磁涂層厚度為0.15～0.2mm，孔隙率為0.14～0.16％；安裝有該鍋體的鍋具，鍋具的電磁加熱最大功率高達(dá)1800w。

實(shí)施例2

一種鍋體，包括鍋本體和導(dǎo)磁涂層，所述導(dǎo)磁涂層位于鍋本體的外表面。所述鍋本體的材質(zhì)為304不銹鋼。

利用冷噴涂工藝在鍋本體上制備導(dǎo)磁涂層，包括以下步驟：

1.對(duì)鍋本體的外表面待噴涂表面進(jìn)行不需噴涂的位置用遮蔽治具進(jìn)行遮擋處理；

2.通過工作氣體將導(dǎo)磁金屬的粉末冷噴涂在鍋本體的表面，所述導(dǎo)磁金屬的粉末在鍋本體的表面形成導(dǎo)磁涂層，具體的工藝參數(shù)為：

(1)導(dǎo)磁粉末選自采用純度為99.0-99.8％的fe粉末，粉末粒度為10～20μm；工作氣體采用高純氮?dú)?，氮?dú)獾募兌葹?9.99％，噴涂距離為25～30mm；噴涂溫度(即氣體加熱溫度)為1173～1223k；消耗功率為25～30kw；導(dǎo)磁粉末輸送速度為8～9kg/h；噴射壓力為2～2.1mpa；氣體速度為1.8～2.0m³/min；

(2)制備的導(dǎo)磁涂層厚度為0.3～0.4mm，孔隙率為0.10～0.12％；安裝有該鍋體的鍋具，鍋具的電磁加熱最大功率高達(dá)1840w。

實(shí)施例3

一種鍋體，包括鍋本體和導(dǎo)磁涂層，所述導(dǎo)磁涂層位于鍋本體的外表面。所述鍋本體的材質(zhì)為鋁合金內(nèi)鍋。

利用冷噴涂工藝在鍋本體上制備導(dǎo)磁涂層，包括以下步驟：

1.對(duì)鍋本體的外表面不需噴涂的位置用遮蔽治具進(jìn)行遮擋處理，所述鍋本體為鋁合金內(nèi)鍋；

2.通過工作氣體將導(dǎo)磁金屬的粉末冷噴涂在鍋本體的表面，所述導(dǎo)磁金屬的粉末在鍋本體的表面形成導(dǎo)磁涂層，具體的工藝參數(shù)為：

(1)導(dǎo)磁粉末選自采用純度為99.0-99.5％的fe-si合金粉末，粉末粒度為20～40μm；工作氣體采用高純氮?dú)?，氮?dú)獾募兌葹?9.99％，噴涂距離為25～40mm；噴涂溫度(即氣體加熱溫度)為1173～1223k；消耗功率為25～30kw；導(dǎo)磁粉末輸送速度為7～9kg/h；噴射壓力為1.8～2.1mpa；氣體速度為1.8～2.0m³/min；

(2)制備的導(dǎo)磁涂層厚度為0.2～0.3mm，孔隙率為0.15～0.18％；安裝有該鍋體的鍋具，鍋具的電磁加熱最大功率高達(dá)1780w。

實(shí)施例4

一種鍋體，包括鍋本體和導(dǎo)磁涂層，所述導(dǎo)磁涂層位于鍋本體的外表面。所述鍋本體的材質(zhì)為鋁合金內(nèi)鍋。

利用冷噴涂工藝在鍋本體上制備導(dǎo)磁涂層，包括以下步驟：

1.對(duì)鍋本體的外表面不需噴涂的位置用遮蔽治具進(jìn)行遮擋處理，所述鍋本體為鋁合金內(nèi)鍋；

2.通過工作氣體將導(dǎo)磁金屬的粉末冷噴涂在鍋本體的表面，所述導(dǎo)磁金屬的粉末在鍋本體的表面形成導(dǎo)磁涂層，具體的工藝參數(shù)為：

(1)導(dǎo)磁粉末選自采用純度為99.0-99.5％的ni粉末，粉末粒度為20～40μm；工作氣體采用高純氮?dú)?，氮?dú)獾募兌葹?9.99％，噴涂距離為30～40mm；噴涂溫度(即氣體加熱溫度)為1223～1273k；消耗功率為30～50kw；導(dǎo)磁粉末輸送速度為8～10kg/h；噴射壓力為2.3～2.5mpa；氣體速度為2.0～2.2m³/min；

(2)制備的導(dǎo)磁涂層厚度為0.3～0.4mm，孔隙率為0.15～0.18％，安裝有該鍋體的鍋具，鍋具的電磁加熱最大功率高達(dá)1750w。

實(shí)施例5

一種鍋體，包括鍋本體和導(dǎo)磁涂層，所述導(dǎo)磁涂層位于鍋本體的外表面。所述鍋本體的材質(zhì)為高硼玻璃內(nèi)鍋。

利用冷噴涂工藝在鍋本體上制備導(dǎo)磁涂層，包括以下步驟：

1.對(duì)鍋本體的外表面不需噴涂的位置用遮蔽治具進(jìn)行遮擋處理，所述鍋本體為高硼玻璃內(nèi)鍋；

2.通過工作氣體將導(dǎo)磁金屬的粉末冷噴涂在鍋本體的表面，所述導(dǎo)磁金屬的粉末在鍋本體的表面形成導(dǎo)磁涂層，具體的工藝參數(shù)為：

(1)導(dǎo)磁粉末選自采用純度為99.0-99.5％的fe合金粉末，粉末粒度為20～40μm；工作氣體采用高純氦氣，氦氣的純度為99.9％，噴涂距離為25～40mm；噴涂溫度(即氣體加熱溫度)為1223～1273k；消耗功率為30～40kw；導(dǎo)磁粉末輸送速度為7～9kg/h；噴射壓力為2.1～2.4mpa；氣體速度為2.0～2.4m³/min；

(2)制備的導(dǎo)磁涂層厚度為0.2～0.3mm，孔隙率為0.18～0.2％，安裝有該鍋體的鍋具，鍋具的電磁加熱最大功率高達(dá)1850w。

實(shí)施例6

一種鍋體，包括鍋本體和導(dǎo)磁涂層，所述導(dǎo)磁涂層位于鍋本體的外表面。所述鍋本體的材質(zhì)為高強(qiáng)氧化鋁陶瓷內(nèi)鍋。

利用冷噴涂工藝在鍋本體上制備導(dǎo)磁涂層，包括以下步驟：

1.對(duì)鍋本體的外表面不需噴涂的位置用遮蔽治具進(jìn)行遮擋處理，所述鍋本體為高強(qiáng)氧化鋁陶瓷內(nèi)鍋；

2.通過工作氣體將導(dǎo)磁金屬的粉末冷噴涂在鍋本體的外表面，所述導(dǎo)磁金屬的粉末在鍋本體的表面形成導(dǎo)磁涂層，具體的工藝參數(shù)為：

(1)導(dǎo)磁粉末選自采用純度為99.0-99.5％的430不銹鋼粉末，粉末粒度為10～20μm；工作氣體采用高純氦氣，氦氣的純度為99.9％，噴涂距離為25～40mm；噴涂溫度(即氣體加熱溫度)為1123～1173k；消耗功率為20～30kw；導(dǎo)磁粉末輸送速度為7～9kg/h；噴射壓力為1.8～2.0mpa；氣體速度為1.7～2.0m³/min；

(2)制備的導(dǎo)磁涂層厚度為0.2～0.3mm，孔隙率為0.2～0.22％，安裝有該鍋體的鍋具，鍋具的電磁加熱最大功率高達(dá)1760w。

實(shí)施例7

一種鍋體，包括鍋本體和導(dǎo)磁涂層，所述導(dǎo)磁涂層位于鍋本體的外表面。所述鍋本體的材質(zhì)為304不銹鋼內(nèi)鍋。

利用冷噴涂工藝在鍋本體上制備導(dǎo)磁涂層，包括以下步驟：

1.對(duì)鍋本體的外表面不需噴涂的位置用遮蔽治具進(jìn)行遮擋處理，所述鍋本體為304不銹鋼內(nèi)鍋；

2.通過工作氣體將導(dǎo)磁金屬的粉末冷噴涂在鍋本體的表面，所述導(dǎo)磁金屬的粉末在鍋本體的表面形成導(dǎo)磁涂層，具體的工藝參數(shù)為：

(1)導(dǎo)磁粉末選自采用純度為99.0-99.5％的ni粉末，粉末粒度為10～40μm；工作氣體采用高純氮?dú)?，氮?dú)獾募兌葹?9.99％，噴涂距離為20～40mm；噴涂溫度(即氣體加熱溫度)為1173～1223k；消耗功率為20～35kw；導(dǎo)磁粉末輸送速度為8～9kg/h；噴射壓力為2.1～2.4mpa；氣體速度為2.0～2.1m³/min；

(2)制備的導(dǎo)磁涂層厚度為0.2～0.3mm，孔隙率為0.22～0.24％，安裝有該鍋體的鍋具，鍋具的電磁加熱最大功率高達(dá)1780w。

對(duì)比例1

在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上調(diào)整了噴涂溫度(即氣體加熱溫度)為423～573k，其余均與實(shí)施例1相同。

對(duì)比例2

在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上調(diào)整了噴涂溫度(即氣體加熱溫度)為573～623k，其余均與實(shí)施例1相同。

對(duì)比例3

在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上調(diào)整了噴涂距離為40～50mm，其余均與實(shí)施例1相同。

對(duì)比例4

在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上調(diào)整了噴涂距離為50～60mm，其余均與實(shí)施例1相同。

對(duì)比例5

在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上調(diào)整了粉末粒度為50～80μm，其余均與實(shí)施例1相同。

對(duì)比例6

在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上調(diào)整了粉末粒度為80～100μm，其余均與實(shí)施例1相同。

對(duì)比例7

在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上調(diào)整了噴射壓力為0.8～1.0mpa，其余均與實(shí)施例1相同。

下面分別將各實(shí)施例以及各對(duì)比例進(jìn)行孔隙率、結(jié)合力和電磁加熱功率的檢測(cè)。

圖2為本發(fā)明實(shí)施例2的孔隙率測(cè)量結(jié)果。孔隙率的計(jì)算方法為：孔隙的面積與待測(cè)樣品的面積的百分比。經(jīng)檢測(cè)，孔隙率為0.12％，說明涂層孔隙少、非常致密、致密性好。

孔隙率、結(jié)合力和電磁加熱功率的檢測(cè)結(jié)果見表1。

表1

根據(jù)表1中的數(shù)據(jù)可以看出，通過嚴(yán)格控制冷噴涂的工藝參數(shù)，可以在非導(dǎo)磁材質(zhì)的鍋具或炊具表面制備一層高致密的磁性導(dǎo)磁涂層。可有效實(shí)現(xiàn)非磁性材質(zhì)鍋具的導(dǎo)磁性能或提高弱導(dǎo)磁性材質(zhì)鍋具的電磁加熱功能。且該導(dǎo)磁涂層的結(jié)合力強(qiáng)。導(dǎo)磁涂層的原材料為導(dǎo)磁性能優(yōu)良的fe、ni、co、fe-si、430不銹鋼等細(xì)微粉末，優(yōu)選導(dǎo)磁涂層的特征為：孔隙率為0.1～0.25％。

在本發(fā)明的描述中，需要說明的是，術(shù)語“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。此外，術(shù)語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。