本發(fā)明涉及機械加工技術領域，特別是涉及一種精加工產(chǎn)品區(qū)域拋光裝置。

背景技術：

金屬在精密數(shù)控車和數(shù)控加工中心加工具有能實現(xiàn)大口徑化快速化和低成本等優(yōu)點，但會對金屬切削加工中留下進給走刀痕跡，這些留下的殘留高度會引起可見光散射，進而影響加工的產(chǎn)品組裝成成品后投入市場的應用。

尤其是當產(chǎn)品用于醫(yī)療機械等精密器械時，對產(chǎn)品的關鍵部位的光潔度更是有著嚴格的要求，必須對這些關鍵部位進行拋光，消除加工時產(chǎn)生的走刀痕跡。如，在加工中心桿時，需要將刀頭內(nèi)外兩側(cè)面保持很高的光潔度，受其刀頭部分尺寸限制，目前對中心桿刀頭拋光的方式是利用人工采用氣動筆驅(qū)動拋光輪對中心桿刀頭進行拋光，這就導致拋光不均勻,效率較低，費時費力，難以滿足生產(chǎn)和客戶的需求。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術中存在的技術缺陷，而提供一種精加工產(chǎn)品區(qū)域拋光裝置。

為實現(xiàn)本發(fā)明的目的所采用的技術方案是：

一種精加工產(chǎn)品區(qū)域拋光裝置，包括支架、受驅(qū)動相對支架水平往復運動的載板，設置在所述的載板上且與所述的精加工產(chǎn)品匹配的夾緊機構(gòu)，受驅(qū)動垂直上下移動并與所述的精加工產(chǎn)品的待拋光面接觸的打磨機構(gòu)。

所述的打磨機構(gòu)為氣動筆。

所述的夾緊機構(gòu)包括其上設置有與所述的精加工產(chǎn)品匹配的仿形槽的定位塊，與所述的定位塊對應設置的夾緊氣缸。

所述的定位塊包括其上開設有避讓槽的基塊以及與所述的基塊固定連接的鑲塊，所述的仿形槽設置在所述的鑲塊上。

所述的載板通過直線導向機構(gòu)設置在基板上，與所述的基板固定連接的驅(qū)動電機通過齒輪齒條機構(gòu)驅(qū)動及前限位開關和后限位開關實現(xiàn)所述的載板往復運動。

還包括可相對所述的支架平動的底載板，在所述的底載板上設置有可受驅(qū)動上下移動的豎直板，所述的打磨機構(gòu)固定在所述的豎直板上，所述的底載板與支架間設置有將所述的打磨機構(gòu)與待拋光面壓緊的拉簧。

還包括尾端與所述的支架固定連接且與拉簧平行設置的推動氣缸以推動打磨機構(gòu)離開所述的精加工產(chǎn)品。

所述的豎直板由固定設置在底載板上的升降電機驅(qū)動通過擺臂機構(gòu)驅(qū)動上下往復移動，

在所述的支架上設置有修磨打磨機構(gòu)用的砂輪，所述的砂輪由受驅(qū)動靠近或遠離所述的打磨機構(gòu)。

與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的有益效果是：

本發(fā)明利用夾緊機構(gòu)定位中心桿，同時定位塊上的仿形槽實現(xiàn)了待拋光面的局部露出，氣動筆端部與中心桿端部的待拋光面相擠壓接觸，在打磨機構(gòu)轉(zhuǎn)動打磨的同時，還被驅(qū)動上下移動，同時載板帶動中心桿左右移動，最終體現(xiàn)的是一個三維運動的復合，提高打磨效果，拋光均勻而且效率高，省時省力，滿足客戶之需求。

附圖說明

圖1所示為本發(fā)明的精加工產(chǎn)品區(qū)域拋光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2所示為圖1所示的局部俯視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3所示為底載架部結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

以下結(jié)合附圖和具體實施例對本發(fā)明作進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

如圖所示，本發(fā)明以中心桿100為例進行示范性說明，本發(fā)明的精加工產(chǎn)品區(qū)域拋光裝置包括支架1、受驅(qū)動相對支架的上基板11水平往復運動的載板2，設置在所述的載板上且與所述的精加工產(chǎn)品匹配的夾緊機構(gòu)，受驅(qū)動垂直上下移動并與所述的精加工產(chǎn)品的待拋光面接觸的打磨機構(gòu)3，如氣動筆或拋光輪等。具體來說，所述的夾緊機構(gòu)包括其上設置有與所述的精加工產(chǎn)品匹配的仿形槽的定位塊21，與所述的定位塊對應設置的夾緊氣缸22。所述的打磨機構(gòu)可設置在待拋光的精加工產(chǎn)品的上方或下方，如果位于下方，則在支架的基板上開設允許其穿出的槽孔12即可。

本發(fā)明利用夾緊機構(gòu)定位中心桿，同時定位塊上的仿形槽實現(xiàn)了待拋光面的局部露出，氣動筆端部與中心桿端部的待拋光面相擠壓接觸，在打磨機構(gòu)轉(zhuǎn)動打磨的同時，還被驅(qū)動上下移動，同時載板帶動中心桿左右移動，最終體現(xiàn)的是一個三維運動的復合，提高打磨效果，拋光均勻而且效率高，省時省力，滿足客戶之需求。

同時，對于本具體實施例的中心桿，所述的定位塊上包括其上開設有避讓槽的基塊210以及與所述的基塊固定連接的鑲塊211，所述的仿形槽設置在所述的鑲塊上，采用鑲塊結(jié)構(gòu)能提高對產(chǎn)品規(guī)格的適應性，而且鑲塊可采用高強度材料，防止過度拋光。而且，對于桿狀產(chǎn)品，所述的支架上還固定設置有托架13以進行桿體支撐。

為實現(xiàn)載板的往復運動，所述的載板2通過軌道滑塊機構(gòu)設置在支架的上基板11上，與所述的基板或支架固定連接的驅(qū)動電機通過齒輪齒條機構(gòu)驅(qū)動及前限位開關23和后限位開關24實現(xiàn)所述的載板2往復運動。即，載板一側(cè)設置齒條，驅(qū)動電機輸出軸端設置齒輪，借助軌道滑塊等線性引導機構(gòu)實現(xiàn)其水平移動，而且利用限位開關的設置可實現(xiàn)往復，限位塊開關設置便利，可提高調(diào)整的便利性。

為實現(xiàn)打磨機構(gòu)的上下運動，以及裝卸精加工產(chǎn)品，還包括可相對所述的支架的下基板14平動的底載板15，在所述的底載板上設置有可受驅(qū)動上下移動的豎直板16，所述的打磨機構(gòu)固定在所述的豎直板上，所述的底載板與支架間設置有將所述的打磨機構(gòu)與待拋光面壓緊的拉簧17。其中，所述的豎直板由固定設置在底載板上的升降電機18驅(qū)動通過擺臂機構(gòu)驅(qū)動上下往復移動。

將打磨機構(gòu)設置在底載板上，所述的底載板可為L型或者設置在支架立面的平板型，只要能實現(xiàn)其功能即可，所述的底載板與支架間設置有軌道滑塊等線性引導機構(gòu)以實現(xiàn)其與載板移動方向垂直的水平面內(nèi)的平動，即借助拉簧等彈性部件將打磨機構(gòu)和待拋光面保持預定力度的接觸，實現(xiàn)穩(wěn)定可靠的打磨小姑。

其中，還包括尾端與所述的支架固定連接、前端為底載板相頂持且與拉簧平行設置的推動氣缸19以推動打磨機構(gòu)離開所述的精加工產(chǎn)品。利用推動氣缸的作用，可便捷將打磨機構(gòu)與待拋光面分開，提供操作空間。

打磨機構(gòu)在使用一段時間后，需要進行修磨，在所述的支架上設置有修磨打磨機構(gòu)用的砂輪6，所述的砂輪由手輪驅(qū)動靠近或遠離所述的打磨機構(gòu)，通過移動砂輪，即可實現(xiàn)在線式修磨，提高使用便利性，減少不必要的拆卸，保證整個設備的精度和使用效果。

以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應當指出的是，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本發(fā)明的保護范圍。