本發(fā)明涉及顯示領(lǐng)域，具體涉及一種蒸鍍裝置及使用該蒸鍍裝置的有機(jī)電致發(fā)光顯示面板蒸鍍方法。

背景技術(shù)：

顯示裝置是一種顯示圖像的裝置。近年來，OLED(Organic Light Emitting Diode)顯示器逐漸進(jìn)入到消費(fèi)品顯示裝置市場(chǎng)中，被人們所認(rèn)知。OLED顯示器具有自發(fā)光特性。因?yàn)镺LED顯示器不需要獨(dú)立的光源，所以其可具有相對(duì)液晶顯示器較小的厚度和重量。此外，OLED顯示器還具有色彩豐富、電壓需求低且省電效率高等特性。

通常地，OLED顯示器包括多個(gè)像素，用于發(fā)射不同顏色的光。多個(gè)像素發(fā)射光以顯示圖像，TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶體管)來驅(qū)動(dòng)每個(gè)像素。另外，絕緣層(如像素限定層)可限定每個(gè)像素的區(qū)域和形狀。進(jìn)一步，每個(gè)像素可定位在其相鄰的像素之間。

隨著高分辨率顯示裝置的應(yīng)用越來越廣泛，對(duì)顯示裝置的分辨率的要求也越來越高。目前，通常通過減小像素的尺寸并減小像素間的間距來達(dá)到提高顯示裝置分辨率的目的，但是隨著工藝技術(shù)的不斷細(xì)化，會(huì)導(dǎo)致顯示裝置的工藝難度和制造成本的增加。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明提出一種蒸鍍裝置及有機(jī)電致發(fā)光顯示面板蒸鍍方法。

一種蒸鍍裝置，包括：主基板，輔助基板，其中，所述主基板包括掩膜版吸附部。

本發(fā)明還提供一種有機(jī)電致發(fā)光顯示面板蒸鍍方法，包括使用上述蒸鍍裝置。

可選的，該有機(jī)電致發(fā)光顯示面板蒸鍍方法，包括：將所述蒸鍍基板放在所述主基板的平滑表面，所述輔助基板的所述吸附裝置開啟，吸附所述掩膜版，將主基板與輔助基板對(duì)位，開啟所述掩膜版吸附部，關(guān)閉所述輔助基板的所述吸附裝置開啟，并將主基板與輔助基板翻轉(zhuǎn)180°，移除輔助基板后，開始有機(jī)電致發(fā)光顯示面板的蒸鍍。

本發(fā)明提供的蒸鍍裝置及有機(jī)電致發(fā)光顯示面板蒸鍍方法，有效的避免了蒸鍍過程中，基板在對(duì)位過程中由于自身重量而下垂，導(dǎo)致掩膜版與基板對(duì)位誤差較大問題，提高產(chǎn)品良率。

附圖說明

圖1為本發(fā)明提供的一種蒸鍍裝置的輔助基板剖視圖；

圖2為本發(fā)明提供的一種蒸鍍裝置的輔助基板示意圖；

圖3為本發(fā)明提供的一種蒸鍍裝置的主基板剖視圖；

圖4為本發(fā)明提供的一種蒸鍍裝置的主基板示意圖；

圖5為本發(fā)明提供的一種掩膜版剖視圖；

圖6為本發(fā)明提供的一種掩膜版示意圖；

圖7a-7f為本發(fā)明提供的一種有機(jī)電致發(fā)光顯示面板蒸鍍方法流程圖。

具體實(shí)施方式

盡管下面將參照附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)的描述，其中表示了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，應(yīng)當(dāng)理解為本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在此描述的基礎(chǔ)上進(jìn)行修改，而仍然可以實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的有利效果。因此，下列的描述應(yīng)當(dāng)被理解為對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員的思路的擴(kuò)展，而并不作為對(duì)本發(fā)明的限制。

為了清楚的描述實(shí)際實(shí)施例的全部特征。在下列描述中，不詳細(xì)描述公知的功能和結(jié)構(gòu)，因?yàn)樗鼈儠?huì)使本發(fā)明由于不必要的細(xì)節(jié)而混亂。應(yīng)當(dāng)認(rèn)為在任何實(shí)際實(shí)施例的開發(fā)中，必須做出大量實(shí)施細(xì)節(jié)以實(shí)現(xiàn)開發(fā)者的特定目標(biāo)，例如按照有關(guān)系統(tǒng)或有關(guān)商業(yè)的限制，由一個(gè)實(shí)施例改變?yōu)榱硪粋€(gè)實(shí)施例。另外，應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種開發(fā)工作可能是復(fù)雜和耗費(fèi)時(shí)間的，但是對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來說僅僅是常規(guī)工作。

在下列段落中參照附圖以舉例方式更具體地描述本發(fā)明。根據(jù)下列說明使本發(fā)明的要點(diǎn)和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比率，僅用以方便、清晰地輔助說明本發(fā)明實(shí)施例的目的。

本發(fā)明實(shí)施方式提供一種蒸鍍裝置，包括：主基板，輔助基板，其中，主基板包括掩膜版吸附部，主基板與輔助基板相對(duì)設(shè)置，掩膜版吸附部可以設(shè)置在主基板內(nèi)部，也可以設(shè)置在主基板表面，在本實(shí)施方式中，對(duì)此不作限定，下面將通過附圖對(duì)本發(fā)明提供的蒸鍍裝置結(jié)構(gòu)進(jìn)行詳盡說明。

如圖1、圖2所示，圖1為本發(fā)明提供的一種蒸鍍裝置的輔助基板剖視圖，圖2為本發(fā)明提供的一種蒸鍍裝置的輔助基板示意圖；蒸鍍裝置的輔助基板包括吸附裝置101，在本實(shí)施方式中，吸附裝置101為磁力掩膜版吸附裝置，磁力掩膜版吸附裝置在電流的控制下可以產(chǎn)生磁場(chǎng)，通過磁力吸附至少部分由磁性金屬構(gòu)成的掩膜版。在其他實(shí)施方式中，吸附裝置101也可以為真空掩膜版吸附裝置，吸附裝置用于將掩膜版吸附在輔助基板面向主基板一側(cè)的表面104，輔助基板還包括輔助對(duì)位裝置102，該輔助對(duì)位裝置102可以為攝像頭，用于采集對(duì)位信息，也可以為對(duì)位標(biāo)記，用于提供位置信息。

如圖3、圖4所示，圖3為本發(fā)明提供的一種蒸鍍裝置的主基板剖視圖，圖4為本發(fā)明提供的一種蒸鍍裝置的主基板示意圖；蒸鍍裝置的主基板包括掩膜版吸附部201，掩膜版吸附部201包括電磁單元，電磁單元在電流的控制下可以產(chǎn)生磁場(chǎng)，通過磁力吸附至少部分由磁性金屬構(gòu)成的掩膜版，蒸鍍裝置的主基板還包括真空吸附部，真空吸附部用于吸附蒸鍍基板，將蒸鍍基板固定在所述主基板面向輔助基板一側(cè)的表面204，主基板還包括對(duì)位裝置202，該對(duì)位裝置202可以為對(duì)位標(biāo)記，用于提供位置信息，也可以攝像頭，用于采集對(duì)位信息。主基板面向所述輔助基板一側(cè)面為至少部分區(qū)域?yàn)槠交砻妫员阏翦兓迤秸墓潭ㄔ谥骰迕嫦蜉o助基板一側(cè)的表面204。

上述主基板與輔助基板可以在機(jī)械作用下反轉(zhuǎn)180°，也就是說，可以主基板位于輔助基板上方，也可以通過機(jī)械作用，主基板位于輔助基板下方。

本發(fā)明實(shí)施方式提供的蒸鍍裝置，通過磁力吸附，將掩膜版吸附在主基板一側(cè)，有效的避免了蒸鍍過程中，基板在對(duì)位過程中由于自身重量而下垂，導(dǎo)致掩膜版與基板對(duì)位誤差較大問題，提高產(chǎn)品良率。

可選的，本發(fā)明實(shí)施方式中，主基板還包括主基板溝槽203，輔助基板還包括輔助基板溝槽103，進(jìn)一步參考圖5、圖6，圖5為本發(fā)明提供的一種掩膜版剖視圖，圖6為本發(fā)明提供的一種掩膜版示意圖；掩膜版包括掩膜部分301以及框架302，所述框架302尺寸與所述主基板溝槽203、輔助基板溝槽103相匹配。

本發(fā)明實(shí)施方式還提供一種有機(jī)電致發(fā)光顯示面板蒸鍍方法，如圖7a-7f所示，圖7a-7f為本發(fā)明提供的一種有機(jī)電致發(fā)光顯示面板蒸鍍方法流程圖，該有機(jī)電致發(fā)光顯示面板蒸鍍方法使用上述提供的蒸鍍裝置。

有機(jī)電致發(fā)光顯示面板蒸鍍方法具體包括：

如圖7a所示，將所述蒸鍍基板400放在主基板200的平滑表面，并且蒸鍍基板400放在主基板200朝向輔助基板100的一側(cè)面，輔助基板100的吸附裝置開啟，吸附掩膜版300，掩膜版300位于輔助基板100朝向主基板200的一側(cè)面，如圖7b、7c所示，將主基板與輔助基板對(duì)位，并逐漸靠近，直至掩膜版300與蒸鍍基板400貼合，開啟掩膜版吸附部以及主基板的真空吸附部，關(guān)閉輔助基板的吸附裝置，如圖7d所示，并將主基板200與輔助基板100翻轉(zhuǎn)180°，并如7e所示移除輔助基板100，此時(shí)掩膜版與蒸鍍基板被吸附在主基板表面，如圖7f所示，通過蒸發(fā)源500開始對(duì)有機(jī)電致發(fā)光顯示面板進(jìn)行蒸鍍。

本發(fā)明提供的蒸鍍裝置及有機(jī)電致發(fā)光顯示面板蒸鍍方法，有效的避免了蒸鍍過程中，基板在對(duì)位過程中由于自身重量而下垂，導(dǎo)致掩膜版與基板對(duì)位誤差較大問題，提高產(chǎn)品良率。

綜上所述，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例披露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的前提下可做各種的更動(dòng)與潤飾，因此倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。本發(fā)明的保護(hù)范圍以本發(fā)明的權(quán)利要求為準(zhǔn)。