技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種等離子體鍍膜裝置，本發(fā)明包括真空室以及與真空室連接的等離子體射頻電源，真空室下部設(shè)有至少一個(gè)抽氣口，真空室內(nèi)部的上部設(shè)有靶、下部設(shè)有用于盛放樣品的陽極，陽極與旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)連接，真空室上設(shè)有用于穿過等離子體探針的動(dòng)密封結(jié)構(gòu)，等離子體探針一端深入真空室內(nèi)部，另一端連接控制與傳輸系統(tǒng)，本發(fā)明以等離子體探針作為等離子體參數(shù)監(jiān)測(cè)手段，對(duì)鍍膜過程中的參數(shù)進(jìn)行控制，使得鍍膜過程完全智能自動(dòng)化，制得具有高品質(zhì)的成膜產(chǎn)品。

技術(shù)研發(fā)人員：滕海燕
受保護(hù)的技術(shù)使用者：合肥優(yōu)億科機(jī)電科技有限公司
文檔號(hào)碼：201611267455
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.31
技術(shù)公布日：2017.05.10