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一種用于涂層的發(fā)生器的制作方法

文檔序號:12101508閱讀:353來源:國知局

本實用新型涉及一種發(fā)生器,尤其涉及一種用于涂層的發(fā)生器,屬于金屬表面處理機械設(shè)備領(lǐng)域。



背景技術(shù):

許多重要的金屬表面性能如硬度、耐磨性、耐蝕性、抗氧化、耐熱性都取決于金屬材料表面的物理和化學(xué)性質(zhì),而人們通常采用表面處理技術(shù)來提高金屬材料的表面性能,如:表面耐磨、耐腐、耐熱等。傳統(tǒng)的表面處理技術(shù),如各種噴涂層、溶層、鍍層等,由于較差的結(jié)合力或受平衡溶解度小及固態(tài)擴散性差的限制,應(yīng)用效果較差。一般情況下,涂層的質(zhì)量效果受到以下因素的影響:1.涂層與金屬基體表面的結(jié)合力;2.涂層自身的均勻性、排氣浮渣等性質(zhì);3.涂層接觸的外界環(huán)境等。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本實用新型旨在解決現(xiàn)有技術(shù)問題,而提出了一種用于涂層的發(fā)生器。本實用新型通過對層流等離子發(fā)生器的設(shè)置,以層流等離子為熱源,在層流等離子的特性下,增加涂層與金屬基體表面的結(jié)合力,提高涂層的均勻性,降低排氣浮渣等,進而保證涂層質(zhì)量。多級冷卻循環(huán)裝置的設(shè)置,為涂層提供多級冷氣循環(huán);當(dāng)對金屬基體涂層完成后,能及時冷卻涂層,并調(diào)節(jié)涂層所接觸的外界環(huán)境,為涂層提供一個穩(wěn)定、平衡環(huán)境,進而提高涂層質(zhì)量,運用范圍更廣。

為了實現(xiàn)上述技術(shù)效果,提出如下的技術(shù)方案:

一種用于涂層的發(fā)生器,包括發(fā)生器本體和多級冷卻循環(huán)裝置,多級冷卻循環(huán)裝置設(shè)置在發(fā)生器本體的前端;所述多級冷卻循環(huán)裝置包括控制器和循環(huán)管,控制器與循環(huán)管相連接,循環(huán)管一端與發(fā)生器本體連接,另一端設(shè)置有冷氣噴嘴,且在冷氣噴嘴內(nèi)設(shè)有干燥裝置。

所述發(fā)生器本體包括陽極結(jié)構(gòu)和陰極結(jié)構(gòu),所述陽極結(jié)構(gòu)為中軸圓柱的陽極結(jié)構(gòu),且沿著陽極結(jié)構(gòu)周圍環(huán)形均勻分布有陰極結(jié)構(gòu);陽極結(jié)構(gòu)和陰極結(jié)構(gòu)均固定安裝在同一個底座上,陽極結(jié)構(gòu)與陰極結(jié)構(gòu)之間設(shè)有絕緣層,且底座有水、電、氣通道,陽極結(jié)構(gòu)的外表面相對絕緣,只有在靠近出口的頭部裸露導(dǎo)電,從而與陰極結(jié)構(gòu)間形成電場;且發(fā)生器本體在電弧通道處設(shè)有合金粉末通道。

所述發(fā)生器本體還包括冷卻裝置,陽極結(jié)構(gòu)、陰極結(jié)構(gòu)、底座和絕緣層之間形成空腔,冷卻裝置設(shè)置在空腔內(nèi)。

所述冷卻裝置和循環(huán)管內(nèi)均設(shè)有流體介質(zhì),流體介質(zhì)為冷卻劑。

所述循環(huán)管一端與發(fā)生器本體內(nèi)的冷卻裝置相連接。

所述發(fā)生器本體一端有電弧等離子體噴嘴,電弧等離子體噴嘴與冷氣噴嘴縱向并列。

所述電弧等離子體噴嘴與冷氣噴嘴之間的距離≥0.04m。

所述發(fā)生器本體與多級冷卻循環(huán)裝置連接方式為可拆卸式連接。

所述控制器包括流量控制器和流速控制器,流量控制器和流速控制器分別與循環(huán)連接。

采用本技術(shù)方案,帶來的有益技術(shù)效果為:

(1)在本實用新型中,通過對層流等離子發(fā)生器的設(shè)置,以層流等離子為熱源,在層流等離子的特性下,增加涂層與金屬基體表面的結(jié)合力,提高涂層的均勻性,降低排氣浮渣等,進而保證涂層質(zhì)量。多級冷卻循環(huán)裝置的設(shè)置,為涂層提供多級冷氣循環(huán);當(dāng)對金屬基體涂層完成后,能及時冷卻涂層,并調(diào)節(jié)涂層所接觸的外界環(huán)境,為涂層提供一個穩(wěn)定、平衡環(huán)境,進而提高涂層質(zhì)量,運用范圍更廣;

(2)在本實用新型中,以層流等離子為熱源進行涂層,利用層流等離子的特性,提高涂層質(zhì)量。由于層流等離子熱量集中,離子弧穩(wěn)定性好,沒有電極熔耗,輸出熱量均勻,便于控制,這樣使得熔鑄區(qū)熱量分布均勻,材料熔合充分均勻,排氣浮渣都充分,收縮應(yīng)力分布均勻;同時,層流等離子設(shè)備控制精度高,對涂層區(qū)和過渡區(qū)的控制方便,且均勻度好,應(yīng)力分配更容易控制合理;層流等離子束為一種電離弧,比弧焊機熱量更集中,所以加熱速度更快,能控制基體溫度不致太高,避免引起退火變形,以激光束、電子束和湍流等離子等加熱速度無法比擬;

(3)在本實用新型中,控制器包括流量控制器和流速控制器,流量控制器控制循環(huán)管內(nèi)流體介質(zhì)的流量,流速控制器控制循環(huán)管內(nèi)流體介質(zhì)的流速,進而對循環(huán)管進行多級控制,控制冷氣噴嘴噴出冷氣的溫度、冷氣量和流速等,最終為涂層提供一個穩(wěn)定、平衡環(huán)境,提高涂層質(zhì)量;

(4)在本實用新型中,冷氣噴嘴內(nèi)設(shè)有干燥裝置,便于對冷氣噴嘴噴出的冷氣進行干燥,而排除潮濕冷氣對涂層質(zhì)量影響;

(5)在本實用新型中,電弧等離子體噴嘴與冷氣噴嘴之間的距離≥0.04m,為涂層結(jié)束后,在進行冷卻,提供一個緩沖時間;

(6)在本實用新型中,發(fā)生器本體與多級冷卻循環(huán)裝置連接方式為可拆卸式連接,便于檢修和更換。

附圖說明

圖1 本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖

圖中:1、發(fā)生器本體,2、多級冷卻循環(huán)裝置,201、控制器,202、循環(huán)管,3、冷氣噴嘴,4、干燥裝置,5、陽極結(jié)構(gòu),6、陰極結(jié)構(gòu),7、底座,8、合金粉末通道,9、電弧等離子體噴嘴,10、冷卻裝置。

具體實施方式

下面通過對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅是本實用新型的一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。

實施例1

一種用于涂層的發(fā)生器,包括發(fā)生器本體1和多級冷卻循環(huán)裝置2,多級冷卻循環(huán)裝置2設(shè)置在發(fā)生器本體1的前端;所述多級冷卻循環(huán)裝置2包括控制器201和循環(huán)管202,控制器201與循環(huán)管202相連接,循環(huán)管202一端與發(fā)生器本體1連接,另一端設(shè)置有冷氣噴嘴3,且在冷氣噴嘴3內(nèi)設(shè)有干燥裝置4。

所述發(fā)生器本體1包括陽極結(jié)構(gòu)5和陰極結(jié)構(gòu)6,所述陽極結(jié)構(gòu)5為中軸圓柱的陽極結(jié)構(gòu)5,且沿著陽極結(jié)構(gòu)5周圍環(huán)形均勻分布有陰極結(jié)構(gòu)6;陽極結(jié)構(gòu)5和陰極結(jié)構(gòu)6均固定安裝在同一個底座7上,陽極結(jié)構(gòu)5與陰極結(jié)構(gòu)6之間設(shè)有絕緣層,且底座7有水、電、氣通道,陽極結(jié)構(gòu)5的外表面相對絕緣,只有在靠近出口的頭部裸露導(dǎo)電,從而與陰極結(jié)構(gòu)6間形成電場;且發(fā)生器本體1在電弧通道處設(shè)有合金粉末通道8。

實施例2

如圖1所示:一種用于涂層的發(fā)生器,包括發(fā)生器本體1和多級冷卻循環(huán)裝置2,多級冷卻循環(huán)裝置2設(shè)置在發(fā)生器本體1的前端;所述多級冷卻循環(huán)裝置2包括控制器201和循環(huán)管202,控制器201與循環(huán)管202相連接,循環(huán)管202一端與發(fā)生器本體1連接,另一端設(shè)置有冷氣噴嘴3,且在冷氣噴嘴3內(nèi)設(shè)有干燥裝置4。

所述發(fā)生器本體1包括陽極結(jié)構(gòu)5和陰極結(jié)構(gòu)6,所述陽極結(jié)構(gòu)5為中軸圓柱的陽極結(jié)構(gòu)5,且沿著陽極結(jié)構(gòu)5周圍環(huán)形均勻分布有陰極結(jié)構(gòu)6;陽極結(jié)構(gòu)5和陰極結(jié)構(gòu)6均固定安裝在同一個底座7上,陽極結(jié)構(gòu)5與陰極結(jié)構(gòu)6之間設(shè)有絕緣層,且底座7有水、電、氣通道,陽極結(jié)構(gòu)5的外表面相對絕緣,只有在靠近出口的頭部裸露導(dǎo)電,從而與陰極結(jié)構(gòu)6間形成電場;且發(fā)生器本體1在電弧通道處設(shè)有合金粉末通道8。

所述發(fā)生器本體1還包括冷卻裝置10,陽極結(jié)構(gòu)5、陰極結(jié)構(gòu)6、底座7和絕緣層之間形成空腔,冷卻裝置10設(shè)置在空腔內(nèi)。

所述冷卻裝置10和循環(huán)管202內(nèi)均設(shè)有流體介質(zhì),流體介質(zhì)為冷卻劑。

所述循環(huán)管202一端與發(fā)生器本體1內(nèi)的冷卻裝置10相連接。

所述發(fā)生器本體1一端有電弧等離子體噴嘴8,電弧等離子體噴嘴8與冷氣噴嘴3縱向并列。

所述電弧等離子體噴嘴8與冷氣噴嘴3之間的距離為0.04m。

所述發(fā)生器本體1與多級冷卻循環(huán)裝置2連接方式為可拆卸式連接。

所述控制器201包括流量控制器201和流速控制器201,流量控制器201和流速控制器201分別與循環(huán)連接。

實施例3

在實施例2的基礎(chǔ),又有另一方案:電弧等離子體噴嘴8與冷氣噴嘴3之間的距離為0.06m。

實施例4

在實施例2的基礎(chǔ),又有另一方案:電弧等離子體噴嘴8與冷氣噴嘴3之間的距離為0.07m。

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