本實(shí)用新型涉及手機(jī)膜掃光的技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種改良的掃光磨皮。
背景技術(shù):
目前,使用掃光機(jī)掃光觸摸屏?xí)r,需要掃光機(jī)內(nèi)的上磨盤和下磨盤配合,在掃光磨皮和掃光粉的輔助下完成對(duì)觸摸屏加工;如說明書附圖1所示,目前掃光機(jī)所用的掃光磨皮是直接依據(jù)產(chǎn)品外形尺寸以及簡單的直線氣槽設(shè)計(jì),這種結(jié)構(gòu)掃光后掃光粉印臟污嚴(yán)重,難以清洗掉,大部分需要經(jīng)過平磨機(jī)方可去除,浪費(fèi)人力物力。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在之缺失,提供一種改良的掃光磨皮,其可使觸摸屏在掃光過程中遺漏到氣槽的掃光粉由中間向四周有回旋的余地,不會(huì)干固在觸摸屏表面。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用如下的技術(shù)方案:
一種改良的掃光磨皮,所述掃光磨皮設(shè)有與觸摸屏縱向中心線對(duì)應(yīng)的縱向氣槽以及與縱向氣槽垂直的第一橫向氣槽、第二橫向氣槽和第三橫向氣槽,所述第一橫向氣槽與觸摸屏的上邊對(duì)應(yīng),所述第二橫向氣槽與觸摸屏橫向中心線對(duì)應(yīng),所述第三橫向氣槽與觸摸屏的下邊對(duì)應(yīng),所述第一橫向氣槽的兩端設(shè)有便于掃光粉擴(kuò)散的第一擴(kuò)散槽,所述第一擴(kuò)散槽與第一橫向氣槽連通,所述第三橫向氣槽的兩端設(shè)有便于掃光粉擴(kuò)散的第二擴(kuò)散槽,所述第二擴(kuò)散槽與第三橫向氣槽連通。
作為一種優(yōu)選方案,所述掃光磨皮上還設(shè)有與縱向氣槽平行的兩條側(cè)縱向氣槽,所述兩條側(cè)縱向氣槽分別對(duì)稱設(shè)于縱向氣槽的兩側(cè),并且分別與第二橫向氣槽的兩端連通。
作為一種優(yōu)選方案,所述第一擴(kuò)散槽和第二擴(kuò)散槽的邊緣為圓弧。
本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果,具體而言,通過設(shè)置第一擴(kuò)散槽和第二擴(kuò)散槽,使觸摸屏在掃光過程中遺漏到氣槽的掃光粉由中間向四周有回旋的余地,不會(huì)干固在觸摸屏表面,而且掃光磨皮在掃光過程中即使出現(xiàn)輕微的坍塌,也不會(huì)形成掃光粉印或臟污,掃光磨皮壽命也大大延長;另外通過設(shè)置第一擴(kuò)散槽和第二擴(kuò)散槽的邊緣使用圓弧設(shè)計(jì),避免殘留的掃光粉堆積到四角形成掃光粉印或臟污,解決清洗的問題,不需平磨,可直接產(chǎn)出90%良品。
為更清楚地闡述本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)特征、技術(shù)手段及其所達(dá)到的具體目的和功能,下面結(jié)合附圖與具體實(shí)施例來對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明:
附圖說明
圖1是傳統(tǒng)掃光磨皮的結(jié)構(gòu)圖;
圖2是本實(shí)用新型之實(shí)施例的結(jié)構(gòu)圖。
附圖標(biāo)識(shí)說明:
10、掃光磨皮 11、縱向氣槽
12、第一橫向氣槽 13、第二橫向氣槽
14、第三橫向氣槽 15、第一擴(kuò)散槽
16、第二擴(kuò)散槽 17、圓弧
18、側(cè)縱向氣槽
具體實(shí)施方式
如圖2所示,一種改良的掃光磨皮10,所述掃光磨皮10設(shè)有與觸摸屏縱向中心線對(duì)應(yīng)的縱向氣槽11以及與縱向氣槽11垂直的第一橫向氣槽12、第二橫向氣槽13和第三橫向氣槽14,所述第一橫向氣槽12與觸摸屏的上邊對(duì)應(yīng),所述第二橫向氣槽13與觸摸屏橫向中心線對(duì)應(yīng),所述第三橫向氣槽14與觸摸屏的下邊對(duì)應(yīng),所述第一橫向氣槽12的兩端設(shè)有便于掃光粉擴(kuò)散的第一擴(kuò)散槽15,所述第一擴(kuò)散槽15與第一橫向氣槽12連通,所述第三橫向氣槽14的兩端設(shè)有便于掃光粉擴(kuò)散的第二擴(kuò)散槽16,所述第二擴(kuò)散槽16與第三橫向氣槽14連通,所述第一擴(kuò)散槽15和第二擴(kuò)散槽16的邊緣為圓弧17,所述掃光磨皮10上還設(shè)有與縱向氣槽11平行的兩條側(cè)縱向氣槽18,所述兩條側(cè)縱向氣槽18分別對(duì)稱設(shè)于縱向氣槽11的兩側(cè),并且分別與第二橫向氣槽13的兩端連通。
以上所述,僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本實(shí)用新型,故凡是依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)際對(duì)以上實(shí)施例所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。