1.一種適用于鎂合金的鍍層結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括鎂合金基材、微弧氧化層、化學(xué)鎳層和化學(xué)鍍金屬層；所述微弧氧化層鍍覆在鎂合金基材的上表面，所述化學(xué)鎳層鍍覆在微弧氧化層的上表面，所述化學(xué)鍍金屬層鍍覆在化學(xué)鎳層的上表面，且所述微弧氧化層、化學(xué)鎳層和化學(xué)鍍金屬層由下至上依次層疊在鎂合金基材上表面后形成該鎂合金基材的鍍層結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于鎂合金的鍍層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述化學(xué)鍍金屬層為化學(xué)鈀層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于鎂合金的鍍層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述化學(xué)鍍金屬層為化學(xué)鍍金層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于鎂合金的鍍層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述化學(xué)鍍金屬層為化學(xué)鍍鈀層和化學(xué)鍍金層，所述化學(xué)鍍鈀層鍍覆在化學(xué)鎳層和化學(xué)鍍金層之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于鎂合金的鍍層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述微弧氧化層的厚度在10-100微米之間，所述化學(xué)鎳層的厚度在1-10微米之間，所述化學(xué)鍍金屬層的在0.01-0.5微米之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于鎂合金的鍍層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述微弧氧化層的厚度在1-200微米之間，所述化學(xué)鎳層的厚度在0.5-50微米之間，所述化學(xué)鍍金屬層的在0.02-0.2微米之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于鎂合金的鍍層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述鎂合金基材為AZ91系列鎂合金或AZ31系列鎂合金。