本實(shí)用新型涉及一種化學(xué)鍍覆裝置,尤其涉及一種用于化學(xué)鍍的裝置。
背景技術(shù):
一般而言,化學(xué)鍍覆方式分為兩種,一種是利用電場(chǎng),即電鍍的方式來實(shí)現(xiàn)的。另一種化學(xué)鍍,是指一種通過化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)而無需使用電的鍍覆類型?;瘜W(xué)鍍作為一種新型的金屬表面處理技術(shù),該技術(shù)以其工藝簡(jiǎn)便、節(jié)能、環(huán)保日益受到人們的關(guān)注。化學(xué)鍍使用范圍很廣,鍍層均勻、裝飾性好。要想獲得性能良好的化學(xué)鍍層,各種各樣用于化學(xué)鍍的裝置也成為目前的研究熱點(diǎn)。印制電路板或晶圓焊盤表面須進(jìn)行涂覆處理以保護(hù)焊盤金屬面不被污染和氧化,保證元器件焊接可靠性,目前焊盤表面處理有熱風(fēng)整平、有機(jī)可焊性保護(hù)膜、化學(xué)錫、化學(xué)銀和化學(xué)鍍鎳浸金等,而化學(xué)鍍鎳浸金因其鍍層平整度高、鍍層耐磨性好且接觸電阻低等優(yōu)越性能,被廣泛應(yīng)用于精密電子產(chǎn)品的印刷電路板的表面處理和微電子芯片與電路板的封裝技術(shù)中。
圖1示出了現(xiàn)有技術(shù)的一種化學(xué)鍍裝置的立體圖。下面,將參照?qǐng)D1對(duì)根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的化學(xué)鍍裝置的操作進(jìn)行描述。在圖1中,該化學(xué)鍍裝置包括:水浴槽1,用來給鍍液槽中的藥液進(jìn)行升溫;花籃2,用于放置受鍍材料;化學(xué)鍍槽3,一般可為鍍鎳槽、鍍鈀槽、鍍金槽等,用來在受鍍材料相關(guān)區(qū)域鍍上鎳鈀金等金屬層;置物架4,用來放置花籃,工作時(shí)可在垂直方向上進(jìn)行運(yùn)動(dòng);受鍍材料5,一般為硅晶圓、PCB板等;鍍液在會(huì)受鍍材料上的某些區(qū)域鍍上金屬。
由于置物架只能在垂直方向上運(yùn)動(dòng),鍍層的均勻性較差,在某些受鍍圖形結(jié)構(gòu)中容易在水平方向上產(chǎn)生較大的鍍層外擴(kuò)現(xiàn)象。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
有鑒于此,本實(shí)用新型提出了一種用于化學(xué)鍍的裝置,可以提高化學(xué)鍍過程中鍍層厚度的均勻性,減輕鍍層外擴(kuò)現(xiàn)象。
本實(shí)用新型提供了一種用于化學(xué)鍍的裝置,該裝置包括:
化學(xué)鍍槽,用于放置鍍液;
旋轉(zhuǎn)夾具,固定于所述化學(xué)鍍槽的內(nèi)壁上,用于放置受鍍樣片。
可選地,所述旋轉(zhuǎn)夾具為同軸心旋轉(zhuǎn)夾具或變軸心旋轉(zhuǎn)夾具。
可選地,該裝置還包括:
第一循環(huán)泵;
水浴槽,用于放置不同溫度的液體;
熱交互器,被設(shè)置在所述水浴槽內(nèi),所述熱交換器的入液口通過第一循環(huán)泵與所述化學(xué)鍍槽的出液口連通,所述熱交換器的出液口通過第一電磁閥與所述化學(xué)鍍槽的入液口連通。
可選地,所述熱交互器為工字形的熱交互器。
可選地,所述水浴槽內(nèi)設(shè)置加熱絲,用于加熱所述水浴槽內(nèi)的水。
可選地,該裝置還包括:
鍍液暫存槽,用于暫時(shí)存放鍍液;
第二電磁閥,所述第二電磁閥的入液口與所述第一循環(huán)泵連通,所述第二電磁閥的出液口分別與所述熱交換器的入液口和所述鍍液暫存槽的入液口連通;
第二循環(huán)泵,設(shè)置在所述鍍液暫存槽的出液口和所述化學(xué)鍍槽的入液口之間。
可選地,該裝置還包括:
第三電磁閥,設(shè)置在所述第二循環(huán)泵與所述化學(xué)鍍槽的入液口之間。
可選地,該裝置還包括:
過濾器,設(shè)置在所述第一循環(huán)泵和所述第二電磁閥之間,用于濾掉生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的顆粒。
可選地,所述第二電磁閥的出液口還與鍍液排放口連通。
可選地,在所述化學(xué)鍍的入液口設(shè)置有多個(gè)導(dǎo)流口。
可選地,所述導(dǎo)流口均勻分布在所述化學(xué)鍍槽底部,以均勻的噴射出所述鍍液。
本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種用于化學(xué)鍍的裝置,通過設(shè)置化學(xué)鍍槽,該化學(xué)鍍槽用于放置鍍液,還在化學(xué)鍍槽的內(nèi)壁上固定連接了旋轉(zhuǎn)夾具,該旋轉(zhuǎn)夾具上可以放置受鍍樣片。因?yàn)榉胖檬苠儤悠膴A具可以旋轉(zhuǎn),即夾具在槽內(nèi)旋轉(zhuǎn),其轉(zhuǎn)速可以根據(jù)實(shí)際需求進(jìn)行調(diào)整。因此可以保證受鍍樣片均勻的受鍍。
附圖說明
通過閱讀參照以下附圖說明所作的對(duì)非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述,本實(shí)用新型的其它特征、目的和優(yōu)點(diǎn)將變得更明顯。
圖1為現(xiàn)有技術(shù)的化學(xué)鍍裝置示意圖;
圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的一種用于化學(xué)鍍的裝置示意圖;
圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的一種用于化學(xué)鍍的裝置示意圖;
圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的同軸心旋轉(zhuǎn)夾具結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的變軸心旋轉(zhuǎn)夾具結(jié)構(gòu)示意圖;
圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的徑向同軸心旋轉(zhuǎn)夾具結(jié)構(gòu)示意圖;
圖7為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的徑向變軸心旋轉(zhuǎn)夾具結(jié)構(gòu)示意圖;
圖8為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的同軸心旋轉(zhuǎn)夾具軸心運(yùn)動(dòng)軌跡示意圖;
圖9為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的變軸心旋轉(zhuǎn)夾具軸心運(yùn)動(dòng)軌跡示意圖;
圖10為本實(shí)用新型實(shí)施例二提供的一種用于化學(xué)鍍的裝置示意圖;
圖11為本實(shí)用新型實(shí)施例三提供的一種用于化學(xué)鍍的裝置示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖并通過具體實(shí)施方式來進(jìn)一步說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案??梢岳斫獾氖?,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用于解釋本實(shí)用新型,而非對(duì)本實(shí)用新型的限定。另外還需要說明的是,為了便于描述,附圖中僅示出了與本實(shí)用新型相關(guān)的部分而非全部結(jié)構(gòu)。
實(shí)施例一
圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的一種用于化學(xué)鍍的裝置示意圖;圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的一種用于化學(xué)鍍的裝置示意圖;圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的同軸心旋轉(zhuǎn)夾具結(jié)構(gòu)示意圖;圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的變軸心旋轉(zhuǎn)夾具結(jié)構(gòu)示意圖;圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的徑向同軸心旋轉(zhuǎn)夾具結(jié)構(gòu)示意圖;圖7為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的徑向變軸心旋轉(zhuǎn)夾具結(jié)構(gòu)示意圖;圖8為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的同軸心旋轉(zhuǎn)夾具軸心運(yùn)動(dòng)軌跡示意圖;圖9為本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的變軸心旋轉(zhuǎn)夾具軸心運(yùn)動(dòng)軌跡示意圖。
本實(shí)用新型提供了一種用于化學(xué)鍍的裝置,參照?qǐng)D2,該裝置包括:
化學(xué)鍍槽10,用于放置鍍液;
旋轉(zhuǎn)夾具20,固定于化學(xué)鍍槽10的內(nèi)壁上,用于放置受鍍樣片30。
參照?qǐng)D2,本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種用于化學(xué)鍍的裝置,通過設(shè)置化學(xué)鍍槽10,該化學(xué)鍍槽10用于放置鍍液,還在化學(xué)鍍槽10的內(nèi)壁上固定連接了旋轉(zhuǎn)夾具20,該旋轉(zhuǎn)夾具20上可以放置受鍍樣片30。因?yàn)榉胖檬苠儤悠?0的旋轉(zhuǎn)夾具20可以做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),旋轉(zhuǎn)夾具在槽內(nèi)旋轉(zhuǎn),其轉(zhuǎn)速可以根據(jù)實(shí)際需求進(jìn)行調(diào)整。因此可以保證受鍍樣片均勻的受鍍。
在上述技術(shù)方案中,常用的鍍液有化學(xué)鍍鎳、鈀和金等鍍液。受鍍樣片,一般為晶圓,也可以為PCB板。旋轉(zhuǎn)夾具20,用于放置受鍍樣片30,可以根據(jù)受鍍樣片的大小定制尺寸。參照?qǐng)D3,在上述技術(shù)方案中,可選地,在化學(xué)鍍的入液口11設(shè)置有多個(gè)導(dǎo)流口12??蛇x地,導(dǎo)流口12均勻分布在化學(xué)鍍槽10底部,以均勻的噴射出鍍液。導(dǎo)流口數(shù)量的多少可以根據(jù)鍍液的量進(jìn)行調(diào)整。
可選地,在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種用于化學(xué)鍍的裝置。旋轉(zhuǎn)夾具20為同軸心旋轉(zhuǎn)夾具或變軸心旋轉(zhuǎn)夾具。兩種旋轉(zhuǎn)夾具只是固定方式不同。當(dāng)旋轉(zhuǎn)夾具20為同軸心旋轉(zhuǎn)夾具時(shí),參見照?qǐng)D4,化學(xué)鍍槽10的內(nèi)壁上固定連接了旋轉(zhuǎn)夾具20的軸心。當(dāng)旋轉(zhuǎn)夾具20為變軸心旋轉(zhuǎn)夾具時(shí),參照?qǐng)D5,化學(xué)鍍槽10的內(nèi)壁上固定連接了旋轉(zhuǎn)夾具20的邊緣處。從徑向看,同軸心旋轉(zhuǎn)夾具參照?qǐng)D6,變軸心旋轉(zhuǎn)夾具參照?qǐng)D7。當(dāng)同軸心旋轉(zhuǎn)夾具在化學(xué)鍍槽內(nèi)旋轉(zhuǎn)時(shí),軸心的運(yùn)動(dòng)軌跡參照?qǐng)D8。當(dāng)變軸心旋轉(zhuǎn)夾具在化學(xué)鍍槽內(nèi)旋轉(zhuǎn)時(shí),軸心的運(yùn)動(dòng)軌跡參照?qǐng)D9。
實(shí)施例二
圖10為實(shí)用新型實(shí)施例二提供的一種用于化學(xué)鍍的裝置示意圖。
如圖10所示,本實(shí)用新型實(shí)施例提供的用于化學(xué)鍍的裝置,除和上述實(shí)施例一樣包含化學(xué)鍍槽10,旋轉(zhuǎn)夾具20,受鍍樣片30、化學(xué)鍍槽10的入液口11和多個(gè)導(dǎo)流口12之外,還包括:第一循環(huán)泵40;水浴槽50,用于放置不同溫度的液體;熱交互器51,被設(shè)置在水浴槽50內(nèi),熱交互器51的入液口通過第一循環(huán)泵40與化學(xué)鍍槽10的出液口連通,熱交互器51的出液口通過第一電磁閥60與化學(xué)鍍槽10的入液口連通。
在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上,本實(shí)用新型實(shí)施例通過水浴槽50的不同溫度的水和熱交互器51的鍍液實(shí)現(xiàn)熱交換,得到合適溫度的鍍液,熱交互器51的鍍液通過第一循環(huán)泵40經(jīng)過化學(xué)鍍槽10的出液口,流入化學(xué)鍍槽10,水浴槽50的液體一方面可以與熱交互器51內(nèi)的鍍液進(jìn)行熱交換,同時(shí)也可以與化學(xué)鍍槽10內(nèi)的鍍液進(jìn)行熱交換。增加了熱交互器51內(nèi)的鍍液和水浴槽50內(nèi)的鍍液進(jìn)行熱交換,使得熱交換的速率更高。其中,第一循環(huán)泵40的循環(huán)流量可調(diào)。本實(shí)施例中采用水浴槽50,來對(duì)化學(xué)鍍槽10進(jìn)行加熱,可以確保加熱的均勻性。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,可選地,熱交互器51為工字形的熱交互器。工字形的熱交互器51可以使得鍍液和水浴液體的接觸更充分。
可選地,水浴槽50內(nèi)設(shè)置加熱絲,用于加熱水浴槽50內(nèi)的水。通過加熱絲可以對(duì)水浴槽50內(nèi)的水升溫。繼而對(duì)鍍液進(jìn)行加熱。需要說明的是,可以通過通入室溫的水或者更低溫度的冷水對(duì)鍍液進(jìn)行快速降溫。
實(shí)施例三
圖11為實(shí)用新型實(shí)施例三提供的一種用于化學(xué)鍍的裝置示意圖。
如圖11所示,本實(shí)用新型實(shí)施例提供的用于化學(xué)鍍的裝置,除和上述實(shí)施例一樣包括:化學(xué)鍍槽10,用于放置鍍液;旋轉(zhuǎn)夾具20,固定于化學(xué)鍍槽10的內(nèi)壁上,用于放置受鍍樣片30,在化學(xué)鍍槽10的入液口設(shè)置有多個(gè)導(dǎo)流口12,用于均勻噴出鍍液,第一循環(huán)泵40;水浴槽50,用于放置不同溫度的液體;熱交互器51,被設(shè)置在水浴槽50內(nèi),熱交互器51的入液口通過第一循環(huán)泵40與化學(xué)鍍槽10的出液口連通,熱交互器51的出液口通過第一電磁閥60與化學(xué)鍍槽10的入液口連通,還包括鍍液暫存槽70,用于暫時(shí)存放鍍液;第二電磁閥61的入液口與第一循環(huán)泵40連通,第二電磁閥61的出液口分別與熱交互器51的入液口和鍍液暫存槽70的入液口連通;第二循環(huán)泵80,設(shè)置在鍍液暫存槽70的出液口和化學(xué)鍍槽10的入液口11之間。
可選地,第三電磁閥62,設(shè)置在第二循環(huán)泵80與化學(xué)鍍槽10的入液口11之間。
可選地,過濾器90,設(shè)置在第一循環(huán)泵40和第二電磁閥61之間,用于濾掉生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的顆粒。
可選地,第二電磁閥61的出液口還與鍍液排放口連通。
在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)之上,針對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種用于化學(xué)鍍的裝置,首先在化學(xué)鍍槽10內(nèi)進(jìn)行配置鍍液,可以是化學(xué)鍍鎳、鈀和金等鍍液,配完鍍液后,開啟第一循環(huán)泵40和第二電磁閥61進(jìn)行鍍液循環(huán),同時(shí)對(duì)水浴槽50進(jìn)行升溫,待鍍液溫度達(dá)到工作溫度后,將放置有受鍍樣片30的旋轉(zhuǎn)夾具20放入化學(xué)鍍槽10內(nèi),使旋轉(zhuǎn)夾具20在化學(xué)鍍槽10內(nèi)旋轉(zhuǎn),其轉(zhuǎn)速可根據(jù)實(shí)際需求進(jìn)行調(diào)整。等工藝完成后,將旋轉(zhuǎn)夾具20從化學(xué)鍍槽10內(nèi)提出或移至下一個(gè)化學(xué)鍍槽;此時(shí),對(duì)水浴槽50內(nèi)的水進(jìn)行快速降溫,這個(gè)過程中保持鍍液的循環(huán),從而可以對(duì)鍍液進(jìn)行快速降溫處理;當(dāng)化學(xué)鍍槽內(nèi)有大量顆?;蚪饘僭嬖跁r(shí),為了避免顆?;蚪饘僭鼘?duì)受鍍樣片30的表面造成污染,可以開啟第二電磁閥61,使其流入鍍液暫存槽70內(nèi),然后可以方便的對(duì)化學(xué)鍍槽進(jìn)行洗槽處理。待化學(xué)鍍槽10內(nèi)洗槽完畢后,可以將鍍液暫存槽70內(nèi)的鍍液輸運(yùn)回化學(xué)鍍槽內(nèi)。當(dāng)鍍液完全失效不能使用時(shí),可以開啟第二電磁閥61,使其流入排放管道。
需要說明的是第二電磁閥61有3通閥門,可以實(shí)現(xiàn)分別控制第二電磁閥61的入液口與第一循環(huán)泵40的連通,第二電磁閥61的出液口分別與熱交互器51的入液口和鍍液暫存槽70的入液口連通。
注意,上述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例及所運(yùn)用技術(shù)原理。本領(lǐng)域技術(shù)人員會(huì)理解,本實(shí)用新型不限于這里所述的特定實(shí)施例,對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來說能夠進(jìn)行各種明顯的變化、重新調(diào)整和替代而不會(huì)脫離本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。因此,雖然通過以上實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了較為詳細(xì)的說明,但是本實(shí)用新型不僅僅限于以上實(shí)施例,在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的情況下,還可以包括更多其他等效實(shí)施例,而本實(shí)用新型的范圍由所附的權(quán)利要求范圍決定。