本實用新型涉及鍍鋁膜技術領域,具體是一種新型卷繞吹氣防皺裝置。
背景技術:
真空鍍鋁過程中,上室11靠前級泵抽真空到1x10-2 mbar-1x10-3mbar,蒸鍍室8靠擴散泵抽真空到1x10-4mbar-1x10-6mbar,鍍鋁過程發(fā)生在蒸鍍室8,此時薄膜6緊貼水輪輥2,在鋁蒸汽覆蓋薄膜6后,又通過水輪輥2冷卻薄膜,如此過程使薄膜6成為鋁膜,這是當代鍍鋁機中普遍采用的鍍鋁方法,然而,在此過程中,由于薄膜6一面經(jīng)受1700℃鋁蒸汽熏陶,一面經(jīng)受水輪輥的冷卻,如此導致薄膜6在水輪輥上形成皺痕,這樣會拉動后面未蒸鍍的薄膜,從而導致了鍍空線的發(fā)生;一直以來的鍍鋁膜中,鍍空線成為困擾鍍鋁產(chǎn)商最大的一個問題,而一些鍍鋁機的改善通過加大水輪輥前弧形輥的弧度來消除鍍空線,或者通過控制鍍鋁速度與厚度來消除鍍空線,但是這種效果不太明顯,而且還產(chǎn)生新的問題-過度輾平導致薄膜擦傷。
技術實現(xiàn)要素:
本實用新型的目的在于提供一種新型卷繞吹氣防皺裝置,以解決上述背景技術中提出的問題。
為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提供如下技術方案:
一種新型卷繞吹氣防皺裝置,包括上室隔離板、水輪輥、鋁蒸汽擋板、鋁蒸汽滑板、下室隔離板、薄膜、導輥、蒸鍍室、吹氣管固架、吹氣管和上真空室;所述蒸鍍室和上真空室之間上下交錯設置有上室隔離板和下隔離板,所述上室隔離板和下隔離板之間設置有水輪輥,所述水輪輥、上室隔離板和下隔離板將蒸鍍室和上真空室隔離開;所述蒸鍍室內(nèi)設置有鋁蒸汽滑板,所述下室隔離板上方的上真空室內(nèi)設置有導輥;導輥和水輪輥上設置有薄膜;上真空室內(nèi)導輥和水輪輥之間設置有吹氣管,吹氣管通過吹氣管固架固定在上真空室內(nèi)。
作為本實用新型進一步的方案:所述鋁蒸汽滑板上設置有與水輪輥配合的鋁蒸汽擋板。
與現(xiàn)有技術相比,本實用新型的有益效果是:本實用新型提供一種新型卷繞吹氣防皺裝置,結(jié)構新穎;一直以來的鍍鋁膜中,鍍空線成為困擾鍍鋁產(chǎn)商最大的一個問題,而一些鍍鋁機的改善通過加大水輪輥前弧形輥的弧度來消除鍍空線,或者通過控制鍍鋁速度與厚度來消除鍍空線,但是這種效果不太明顯,而且還產(chǎn)生新的問題-過度輾平導致薄膜擦傷,本實用新型通過做好上下室隔離,引進吹氣管,可以完全消除鍍鋁過程中產(chǎn)生的鍍空線問題。
附圖說明
圖1為新型卷繞吹氣防皺裝置的結(jié)構示意圖。
圖中:1-上室隔離板、2-水輪輥、3-鋁蒸汽擋板、4-鋁蒸汽滑板、5-下室隔離板、6-薄膜、7-導輥、8-蒸鍍室、9-吹氣管固架、10-吹氣管、11-上真空室。
具體實施方式
下面結(jié)合具體實施方式對本專利的技術方案作進一步詳細地說明。
請參閱圖1,一種新型卷繞吹氣防皺裝置,包括上室隔離板1、水輪輥2、鋁蒸汽擋板3、鋁蒸汽滑板4、下室隔離板5、薄膜6、導輥7、蒸鍍室8、吹氣管固架9、吹氣管10和上真空室11;所述蒸鍍室8和上真空室11之間上下交錯設置有上室隔離板1和下隔離板5,所述上室隔離板1和下隔離板5之間設置有水輪輥2,所述水輪輥2、上室隔離板1和下隔離板5將蒸鍍室8和上真空室11隔離開;所述蒸鍍室8內(nèi)設置有鋁蒸汽滑板4,所述鋁蒸汽滑板4上設置有與水輪輥2配合的鋁蒸汽擋板3;所述下室隔離板5上方的上真空室11內(nèi)設置有導輥7;導輥7和水輪輥2上設置有薄膜6;上真空室11內(nèi)導輥7和水輪輥2之間設置有吹氣管10,吹氣管10通過吹氣管固架9固定在上真空室11內(nèi)。
本實用新型的工作原理是:
真空鍍鋁過程中,上室11靠前級泵抽真空到1x10-2 mbar-1x10-3mbar,蒸鍍室8靠擴散泵抽真空到1x10-4mbar-1x10-6mbar,鍍鋁過程發(fā)生在蒸鍍室8,此時薄膜6緊貼水輪輥2,在鋁蒸汽覆蓋薄膜6后,又通過水輪輥2冷卻薄膜,如此過程使薄膜6成為鋁膜,這是當代鍍鋁機中普遍采用的鍍鋁方法,然而,在此過程中,由于薄膜6一面經(jīng)受1700℃鋁蒸汽熏陶,一面經(jīng)受水輪輥的冷卻,如此導致薄膜6在水輪輥上形成皺痕,這樣會拉動后面未蒸鍍的薄膜,從而導致了鍍空線的發(fā)生,經(jīng)過若干次的調(diào)試實驗研究,本實用新型將上真空室和蒸鍍室隔離做到極高水平時,可以運用吹氣裝置解決鍍空線問題,利用固定在吹氣管固架9的吹氣管10,在薄膜6線速度達到200m/min以上時,給予吹氣管通入微量大氣,此時本實用新型完美解決鍍空線問題;做好良好的隔離措施將上真空室和蒸鍍室隔離開,吹氣管位于水輪輥與導輥之間,在上真空室真空度達到1x10-2 mbar-1x10-3mbar,蒸鍍室真空達到1x10-4mbar-1x10-6mbar時,具有消除鍍空線的良好效果。
上面對本專利的較佳實施方式作了詳細說明,但是本專利并不限于上述實施方式,在本領域的普通技術人員所具備的知識范圍內(nèi),還可以在不脫離本專利宗旨的前提下做出各種變化。