本發(fā)明涉及一種用于向澆注室中注入熔體以進行壓鑄的設備，包括具有內部容積的中間容器，該內部容積可被熔體填充。此外，本發(fā)明涉及一種用于借助設備向澆注室中注入熔體以進行壓鑄的方法。

背景技術：

在現(xiàn)代技術中，壓鑄法通常用于批量或大量生產(chǎn)結構部件。在已知的壓鑄法中，在此液態(tài)熔體首先被注入、尤其是計量地注入澆注室中。隨后借助澆注活塞將澆注室中的熔體加速并射入鑄模中。在那里熔體凝固成待制造構件。為了計量進入澆注室中的熔體，在現(xiàn)有技術中在此尤其是公開了兩種裝置。

第一種計量裝置是澆包，該澆包尤其是通過沉入而被液態(tài)熔體填充。熔體為此例如可位于保溫爐中。過多接收的熔體在此例如可通過傾斜澆包而再次流回保溫爐中。為了將熔體注入澆注室，澆包定位于澆注室中的注入口上方并且通過傾斜而倒空到澆注室中。

另一種用于計量注入澆注室中的熔體的可能性是封閉的計量爐，液態(tài)熔體位于該計量爐中。為了填充澆注室，向計量爐的內腔加載壓力。通過位于爐內熔體液位之下的上升管，熔體可上升并且例如通過槽或適合的裝置流入澆注室的注入口中。在達到希望的劑量時，降低爐內的壓力并且由此終止對澆注室的填充。

已知的用于向澆注室中注入熔體的設備和方法在此具有多個缺點。例如在熔體從澆包流入澆注室中時形成逐漸變細的、拋物線狀的熔體束。該熔體束以不可控的角度碰撞到澆注室的內表面上。通過在碰撞時的高脈沖、尤其是基于熔體的高流動速度，可能已在短時間后在澆注室的內表面上產(chǎn)生侵蝕。這種磨損導致澆注室使用壽命縮短。由此產(chǎn)生高維護成本。此外，熔體在澆包和澆注室內表面之間的高下落高度容易在澆注室中碰撞時形成渦流和氧化物。但這種氧化物可不利地影響所制造構件的特性和質量。在使用計量爐時(如上所述)通過爐腔內的過壓調節(jié)來計量熔體量。這種操作方法非常不準確并且可產(chǎn)生高達+/-2.5％的計量誤差。但在澆注室中不同的熔體填充量不利地影響待制造構件的質量，因為在填充量過少時例如用于構件的鑄模沒有被完全填滿并且在填充量過大時壓鑄殘余物過多，其必須被耗費能量和成本地重熔。這導致所制造構件的廢品增加和/或因額外所需的熔化過程引起的制造成本增加。此外，這種基于過壓的計量系統(tǒng)非常遲緩，從而大大影響制造構件時的生產(chǎn)節(jié)拍。

技術實現(xiàn)要素：

因此，本發(fā)明的任務在于至少部分消除上面所描述的、已知的、用于向澆注室中注入熔體以進行壓鑄的設備以及用于向澆注室中注入熔體以進行壓鑄的方法的缺點。本發(fā)明的任務尤其是在于提出一種用于向澆注室中注入熔體以進行壓鑄的設備以及一種用于向澆注室中注入熔體以進行壓鑄的方法，它們以簡單且低成本的方式改善了熔體為了壓鑄而向澆注室中的注入，其中尤其是減少了澆注室的磨損并提高了待通過壓鑄制造的構件的質量。

在本發(fā)明的第一方面，上述任務通過一種具有獨立權利要求1特征的用于向澆注室中注入熔體以進行壓鑄的設備來解決。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，所述任務通過一種具有權利要求13特征的用于向澆注室中注入熔體以進行壓鑄的方法來解決。本發(fā)明的其它特征和細節(jié)由從屬權利要求、說明書和附圖給出。在此關于根據(jù)本發(fā)明的設備所描述的特征和細節(jié)當然也適用于根據(jù)本發(fā)明的方法，反之亦然，從而在公開發(fā)明內容方面始終可相互參考各個發(fā)明方面。

根據(jù)本發(fā)明的第一方面，所述任務通過一種用于向澆注室中注入熔體以進行壓鑄的設備來解決，其包括具有內部容積的中間容器，所述內部容積可被熔體填充。根據(jù)本發(fā)明的設備的特征在于，所述中間容器在澆注室中可倒退地設置在澆注室的內表面上方，所述中間容器具有用于向澆注室中注入熔體的排出口和用于打開和封閉排出口的封閉體。

根據(jù)本發(fā)明的設備構造用于向澆注室中注入熔體以進行壓鑄。作為熔體在此例如可使用熔融鋁。為此所述設備包括具有內部容積的中間容器。該內部容積在此可被熔體填充。本發(fā)明的重點在于，所述中間容器在澆注室中能夠可倒退地設置在澆注室的內表面上方。在此，“設置在澆注室的內表面上方”在本發(fā)明意義中尤其是表示：中間容器至少部分地位于澆注室內部并且在中間容器的排出口與澆注室的內表面之間的距離很小。該距離、即所謂的出口間隙在此優(yōu)選不超過排出口直徑的約10％－200％和/或小于約15cm、優(yōu)選小于約5cm、特別優(yōu)選小于約1cm。

通過在排出口和澆注室的內表面之間的小的出口間隙能夠可靠避免在熔體注入澆注室中時熔體以高碰撞速度落到澆注室的內表面上。由此可防止對澆注室內表面的侵蝕并且總體上減小了澆注室的磨損。從而可延長澆注室的使用壽命。為了向澆注室中注入熔體，首先將熔體注入中間容器的內部容積中。在此尤其是可想到，例如通過適合的激光測量法和/或超聲波測量法和/或渦流法監(jiān)測熔體在中間容器的內部容積中的液位。當然在此所述設備、尤其是中間容器可具有為此所需的傳感器和分析裝置。通過如此監(jiān)測在內部容積中的液位尤其是可確保熔體在中間容器的內部容積中的填充量始終相同。由此可實現(xiàn)以相同的熔體量始終相同地填充澆注室。從而一方面能夠提高待鑄造構件的質量并由此減少因填充量過少引起的缺陷構件廢品。另一方面擠壓殘余物具有所需尺寸。由此可降低構件的制造成本。尤其是例如也可規(guī)定，內部容積作為表面材料至少區(qū)段地具有陶瓷和/或涂層金屬、尤其是涂有涂料的金屬。由此熔體可完全流入澆注室中。通過下述方式可進一步提高構件質量，即，當中間容器設置在澆注室內表面附近并且排出口打開之后，中間容器保持在該位置中直至所有熔體從中間容器的內部容積流入澆注室中。由此一旦液位超過出口間隙，排出口就位于熔體在澆注室中的液位以下。由此可避免熔體在注入澆注室中時穿過氧化層，該氧化層形成于澆注室中的熔體表面上。因此可避免該氧化層揚起和由此引起的氧化層向熔體中的分布。從而可提高澆注室中的熔體純度并且因此又提高了待鑄造構件的質量。因此，總體上可通過根據(jù)本發(fā)明的設備降低所使用澆注室的磨損并且同時提高所制造壓鑄構件的質量。

此外，在根據(jù)本發(fā)明的設備中可規(guī)定，中間容器和/或內部容積構造成漏斗形。在此“漏斗形”在本發(fā)明意義中表示：中間容器和/或內部容積至少區(qū)段地構造成錐形。在此特別優(yōu)選可規(guī)定，漏斗形的中間容器朝向排出口方向逐漸變細。這種漏斗形的中間容器(尤其是中間容器的外部形狀構造成漏斗形)因此至少區(qū)段地具有外部錐形形狀。該造型可用作在澆注室注入口中的插入輔助和/或對中輔助。由此可簡化中間容器在澆注室內表面上方的設置?；诼┒沸蔚膬炔咳莘e可實現(xiàn)：位于中間容器的內部容積中的熔體可特別好地經(jīng)由排出口流出。在此特別優(yōu)選可規(guī)定，內部容積這樣構造成漏斗形，使得內部容積的內徑朝向排出口方向逐漸變細。由此能夠在排出口打開時內部容積已經(jīng)可僅通過重力完全被動地排空并且沒有熔體保留在內部容積中。由此可特別好地計量注入澆注室中的熔體量。

在根據(jù)本發(fā)明的設備中還可規(guī)定，封閉體構造為用于打開和封閉排出口的閥體，所述閥體在第一位置中封閉排出口并且在第二位置中釋放排出口。閥體在此可以特別簡單的方式提供封閉體。在此特別優(yōu)選地，閥體可設置在中間容器內部容積的內部或至少基本上設置在其內部。在此閥體可在其第一位置中如塞子那樣封閉排出口并且可簡單地朝向內部容積內部的方向移動到其第二位置中，以便釋放并由此打開排出口。這種設置的優(yōu)點尤其是在于，熔體基于重力向閥體施加力，該力將閥體壓向其在排出口上的第一位置中。由此可特別簡單地通過這種閥體實現(xiàn)對排出口的特別密封的封閉。

在根據(jù)本發(fā)明的設備的一種擴展方案中還可規(guī)定，所述閥體具有接觸突出部，該接觸突出部從中間容器、尤其是從排出口突出并且構造用于接觸澆注室的內表面，通過接觸，閥體可從其第一位置移動到其第二位置中。該接觸突出部在其幾何形狀方面這樣設計，使得其可根據(jù)本發(fā)明使用，尤其是其構造用于接觸澆注室中的內表面。在此尤其是可規(guī)定，接觸突出部比出口間隙(其在中間容器設置在內表面上方時保留在排出口和澆注室的內表面之間)更加突出于中間容器或排出口。因此接觸突出部跨接在所述中間容器和澆注室內表面之間的距離。因此，當中間容器設置在澆注室的內表面上方時，在中間容器于澆注室中占據(jù)其最終位置之前接觸突出部就已接觸到澆注室的內表面。由此閥體被壓向中間容器內部并且由此自動打開排出口。這實現(xiàn)了排出口特別簡單的打開，因為這在實現(xiàn)中間容器設置在澆注室內表面上方時自動進行。由此可避免用于打開中間容器排出口的復雜控制機構。從而根據(jù)本發(fā)明的設備可總體上更簡單地構造。

另外，可這樣構造根據(jù)本發(fā)明的設備，即設置彈性元件、尤其是彈簧，其力朝閥體的第一位置的方向作用于閥體。因此該彈性元件將閥體壓入其第一位置中，在該位置中排出口通過閥體封閉。尤其是當接觸突出部未接觸澆注室的內表面時，該彈性元件引起排出口的自動關閉。這在中間容器在熔體注入澆注室后再次移出澆注室時尤為有利。這種彈性元件因此可特別簡單且有利地實現(xiàn)排出口通過閥體自動關閉。不需要附加的致動器、如馬達。因此可進一步簡化根據(jù)本發(fā)明的設備的結構。

在根據(jù)本發(fā)明的設備的另一種擴展方案中還可規(guī)定，所述閥體至少區(qū)段地構造成塞狀、盤狀或凹腔狀、尤其是歐米伽狀。特別優(yōu)選在此可規(guī)定，閥體的造型設置在閥體的可使熔體流入澆注室中的端部上。當然也可規(guī)定，為了接觸排出口表面可設置在閥體上的密封面可與這些不同實施方式相關聯(lián)或者說與這些實施方式匹配。這些不同實施方式在此具有不同優(yōu)點。閥體的塞狀設計允許熔體尤其是層狀地流入澆注室中。因此可避免熔體中擾動的渦流。通過閥體的盤狀設計，熔體可同心地流入澆注室中。熔體均勻地分布在澆注室中，從而可避免例如在熔體點狀碰撞時出現(xiàn)的對澆注室的負荷。通過閥體的凹腔狀設計例如可避免熔體在澆注室中的晃蕩，這種晃蕩可對澆注室造成高局部負荷。通過歐米伽狀設計(即凹腔如希臘字母歐米伽成型)尤其是可為熔體在流出中間容器時賦予優(yōu)選方向，該優(yōu)選方案通過歐米伽的開口規(guī)定。尤其是長形澆注室的填充可通過這種至少部分定向的熔體束改善。

也可這樣擴展根據(jù)本發(fā)明的設備，即：在排出口上設置閥座環(huán)，并且閥體具有用于接觸閥座環(huán)的接觸錐體、尤其是角度約為5°的接觸錐體。優(yōu)選在此閥座環(huán)和/或接觸錐體朝向閥體的第一位置的方向逐漸變細。在此尤其是也可規(guī)定，閥座環(huán)和接觸錐體相互協(xié)調一致。由此可實現(xiàn)對排出口的特別好的密封。

在一種擴展方案中也可這樣構造根據(jù)本發(fā)明的設備，使得閥體可線性移動地支承在支承裝置中。這種用于線性支承的支承裝置在此實現(xiàn)閥體在中間容器內特別簡單的可動固定。尤其是在接觸突出部和澆注室內表面接觸時可通過這種支承裝置特別簡單地提供閥體的線性移動。在一種擴展方案中還可規(guī)定，通過相應的螺旋狀凹槽和構造用于嵌入凹槽的銷，可為線性運動疊加幾度、優(yōu)選約15°或更少度數(shù)的轉動運動。在此凹槽可設置在閥體上并且銷可設置在支承裝置上，或者反過來。由此可進一步改善排出口通過閥體的密封。

根據(jù)本發(fā)明的設備的一種特別優(yōu)選的實施方式還可規(guī)定，中間容器固定設置在澆注槽上，中間容器可通過澆注槽進行填充并且可與澆注槽一起轉動以便設置在澆注室的內表面上方。通過這種澆注槽可特別簡單地填充中間容器的內部容積。在根據(jù)本發(fā)明的設備的該實施方式中，中間容器在澆注室內表面上方的設置也可特別簡單地進行。由中間容器和澆注槽構成的系統(tǒng)的轉動在此例如可通過簡單的、具有凸輪的軸實現(xiàn)。尤其是優(yōu)選也可想到，耦合中間容器或澆注槽的運動與澆注活塞在澆注室內的運動，在此活塞設置用于在本來的壓鑄過程中將熔體射入本來的鑄模中。由此可特別簡單地避免可設置在澆注室內的中間容器與在澆注室內運動的活塞的碰撞。

優(yōu)選也可這樣擴展根據(jù)本發(fā)明的設備，即：中間容器和/或澆注槽構造成封閉的。通過這種封閉設計例如可防止熔體在內部容積或澆注槽內的熱量損失，由此可總體上節(jié)約能源。此外這種覆蓋物也可用于保護例如傳感器，其設置用于測量在內部容積內部的液位高度。

此外，在根據(jù)本發(fā)明的設備的一種擴展方案中可規(guī)定，中間容器和/或澆注槽至少部分地可被保護氣體、尤其是氬氣填充或至少部分地被保護氣體、尤其是氬氣填充。通過這種保護氣體尤其是可防止熔體與氧氣、尤其是空氣中的氧氣進行反應。由此尤其是可避免熔體表面上氧化層的形成，從而可總體上改善熔體的純度并且因此提高由熔體制成的構件的質量。

此外，在根據(jù)本發(fā)明的設備中可規(guī)定，中間容器具有用于限制熔體在內部容積中的液位的溢流口。熔體在中間容器內部容積中的液位當然可通過適合的傳感器、如激光傳感器和/或超聲波傳感器和/或用于渦流法的傳感器來監(jiān)測，以確保熔體在內部容積中的填充量相同。但在傳感器故障和/或沒有這種傳感器時，仍可通過溢流口來確保在內部容積中不超過一定的熔體填充量。當內部容積填充了過多熔體時，熔體可通過溢流口流出內部容積。當然在此可規(guī)定，流出的熔體在中間容器之外被收集并且重新使用。因此，通過這種溢流口也可在沒有傳感器或傳感器故障的情況下確保熔體在中間容器的內部容積中的始終相同和/或定義的填充量。

根據(jù)本發(fā)明的第二方面，所述任務通過一種用于借助尤其是具有根據(jù)本發(fā)明第一方面特征的設備向澆注室中注入熔體以進行壓鑄的方法來解決。根據(jù)本發(fā)明的方法的特征在于下述步驟：

a)將熔體注入設備的中間容器內部容積中；

b)將中間容器設置在澆注室的內表面上方；

c)通過中間容器的封閉體打開中間容器的排出口以便將熔體注入澆注室中；

d)將熔體注入澆注室中；

e)通過封閉體封閉排出口；

f)使中間容器遠離內表面移動。

在根據(jù)本發(fā)明的方法中特別優(yōu)選可規(guī)定，該方法通過使用根據(jù)本發(fā)明第一方面的設備來實施。根據(jù)本發(fā)明第一方面構造的根據(jù)本發(fā)明的設備的所有優(yōu)點因此當然也適用于通過使用這種設備實施的根據(jù)本發(fā)明的方法。

在根據(jù)本發(fā)明的方法的步驟a)中，將熔體注入中間容器的內部容積中。在此當然尤其是可規(guī)定，采取措施來確保熔體在中間容器內部容積中始終相同的填充量。在根據(jù)本發(fā)明的方法的步驟b)中，中間容器設置在澆注室的內表面上方。在此中間容器這樣設置在內表面上方，使得出口間隙、即在中間容器排出口和澆注室內表面之間的距離很小。出口間隙在此優(yōu)選小于排出口直徑的約10％至約200％和/或小于約15cm、優(yōu)選小于5cm、特別優(yōu)選小于約1cm。在根據(jù)本發(fā)明的方法的步驟c)中，通過中間容器的封閉體打開中間容器的排出口，以便允許將熔體注入澆注室中。這在根據(jù)本發(fā)明的方法的步驟d)中進行。在此在步驟d)中尤其是優(yōu)選被動地純粹通過作用于熔體的重力作用向澆注室注入熔體。在此中間容器優(yōu)選在步驟d)的整個注入過程中保持在其位于澆注室內表面上方的位置中。由此熔體可至少暫時在澆注室中的熔體液位下方注入，因此可避免揚起在澆注室中熔體表面上可能存在的氧化層。在熔體向澆注室中的注入結束后，在步驟e)中通過移動封閉體關閉排出口，并且隨后在步驟f)中使中間容器遠離澆注室的內表面移動、尤其是完全移出澆注室。當然可想到，不僅在步驟b)和c)中而且在步驟e)和f)中至少暫時同時進行中間容器的移動和排出口的打開或關閉。因此，借助根據(jù)本發(fā)明的方法在移動時尤其是可通過熔體在排出口和澆注室內表面之間的小的下落高度避免尤其是因侵蝕引起的內表面損傷。通過使用中間容器也可確保用于澆注室的、始終相同的熔體填充量。因此總體上可簡化、加速并降低用熔體填充澆注室的成本。

此外，在根據(jù)本發(fā)明的方法中可規(guī)定，在步驟a)中優(yōu)選通過激光測量法和/或超聲波測量法和/或渦流法監(jiān)測熔體在內部容積中的液位，以便確定在內部容積中的熔體填充量，尤其是在確定填充量時考慮在內部容積中的沉積。當然在此構造用于實施根據(jù)本發(fā)明的方法的設備可具有為此所需的傳感器、如激光傳感器和/或超聲波傳感器和/或用于渦流法的傳感器，并且具有對于分析所需的分析裝置。通過監(jiān)測熔體在內部容積中的液位、尤其是通過附加考慮內部容積中的沉積，可特別簡單地實現(xiàn)熔體在內部容積中和因此澆注室中的始終相同的填充量。由此可特別簡單并且尤其是可再現(xiàn)地實現(xiàn)以正好準確的熔體填充量特別有效地填充澆注室。

也可這樣擴展根據(jù)本發(fā)明的方法，即加熱中間容器、尤其是內部容積、和/或澆注槽，和/或在步驟a)之前凈化中間容器、尤其是內部容積。通過加熱中間容器、尤其是內部容積可避免熔體沉積在內部容積中，因為通過加熱熔體可始終保持液態(tài)?？赡艽嬖诘某练e可通過凈化被清除出中間容器、尤其是內部容積、和/或澆注槽。因此兩種措施可實現(xiàn)無沉積的內部容積，從而可特別簡單地確保熔體在內部容積中的始終相同的填充量。

附圖說明

本發(fā)明的其它優(yōu)點、特征和細節(jié)由下述參考附圖對本發(fā)明實施例的說明詳細給出。在此在權利要求和說明書中提到的特征分別可單獨或以任意組合地對本發(fā)明而言是重要的。具有相同功能和作用方式的元件在附圖中設有相同的附圖標記。附圖如下：

圖1、2、3示出在實施根據(jù)本發(fā)明的方法時根據(jù)本發(fā)明的設備的第一種實施方式；

圖4、5、6示出在實施根據(jù)本發(fā)明的方法時根據(jù)本發(fā)明的設備的第二種實施方式；

圖7示出根據(jù)本發(fā)明的設備的閥體的不同實施方式。

具體實施方式

圖1、圖2和圖3示出在根據(jù)本發(fā)明的方法的各個階段中根據(jù)本發(fā)明的設備10的第一種實施方式。因此下面一起說明圖1、圖2和圖3，在此在適當和必要之處引用各圖。根據(jù)本發(fā)明的設備10構造用于向澆注室50中注入熔體60。為此根據(jù)本發(fā)明的設備10包括中間容器20。所述中間容器20具有內部容積26，該內部容積可被熔體60填充。通過封閉體27封閉在中間容器20的下端部上的排出口21，所述封閉體在當前實施方式中構造為閥體30并且在圖1和圖2中位于其第一位置33中。尤其是，閥體30具有接觸錐體32，該接觸錐體匹配排出口21的閥座環(huán)22。由此可實現(xiàn)對中間容器20的內部容積26特別好的密封，從而熔體60可在排出口21封閉時可靠地保留在內部容積26中。在此例如通過激光和/或超聲波測量和/或渦流法可監(jiān)測熔體60在內部容積26中的液位61，以確保熔體60在內部容積26中的始終相同的填充量。

中間容器20在此構造成漏斗形的、即尤其是錐形的，由此在中間容器20設置在澆注室50的內表面51上方時，即在中間容器20通過注入口52至少區(qū)段地插入澆注室50內部時，可簡化中間容器20向澆注室50中的插入并且例如也可實現(xiàn)中間容器20在注入口中的自動對中。圖2示出根據(jù)本發(fā)明的設備10，其中，中間容器20處于根據(jù)本發(fā)明的方法的步驟b)中，即在將中間容器20設置在澆注室50的內表面51上方時。尤其是示出了閥體30具有接觸突出部31，該接觸突出部構造用于接觸澆注室50的內表面51。在中間容器20進一步下降到澆注室50中時，接觸突出部31防止閥體30隨著中間容器20的其余部分繼續(xù)下降。閥體30相對于中間容器20被壓向上方。由此排出口21自動釋放并且因此打開。隨后熔體60可從同樣構造為漏斗形的內部容積26流入澆注室50中。由于中間容器20可設置在澆注室50的內表面51上方，熔體60從中間容器20的排出口21到澆注室50的內表面51的下落高度很小、尤其是優(yōu)選小于約1cm。由此可避免對內表面51的侵蝕，這種侵蝕可通過熔體60以高速碰撞內表面51產(chǎn)生。圖3示出根據(jù)本發(fā)明的設備10，其完全設置在其于澆注室50內表面51上方的最終位置中。通過接觸突出部31的接觸，閥體30被頂回中間容器20的內部容積26中。排出口21打開并且熔體60已經(jīng)從中間容器20流入澆注室50中。在中間容器20向上運動并且因此移出澆注室50時，閥體30例如僅通過重力作用從其在圖3中所示的第二位置34返回到其第一位置33(參見圖1、圖2)中。在中間容器20移出澆注室50后，活塞(未示出)可將處于澆注室50中的熔體60射入鑄模(未示出)中，以便完成壓鑄過程。在射入熔體60時和/或在壓鑄過程進一步進行時，已經(jīng)可重新向中間容器20的內部容積26中注入熔體60，由此尤其是也可實現(xiàn)壓鑄過程的高生產(chǎn)節(jié)拍。因此，總的來說，根據(jù)本發(fā)明的設備10一方面可通過監(jiān)測熔體60在內部容積26內的填充量來確保澆注室50被熔體60始終相同地填充并且另一方面也可通過熔體60在排出口21和內表面51之間的較小下落高度避免澆注室50損傷。從而總體上可在實施壓鑄過程時節(jié)約成本和時間。

在圖4、圖5和圖6中示出根據(jù)本發(fā)明的設備10的另一種可能的實施方式，尤其是分別在圖1和圖4、圖2和圖5以及圖3和圖6中示出根據(jù)本發(fā)明的方法的同一過程時間點。所有關于圖1、圖2和圖3所描述的根據(jù)本發(fā)明的設備的實施方式的優(yōu)點因此也類似地適用于在圖4、圖5和圖6中所描述的根據(jù)本發(fā)明的設備的實施方式。因此下面尤其是說明兩種實施方式的區(qū)別。例如在圖4、圖5、圖6中所示的根據(jù)本發(fā)明的設備的實施方式具有澆注槽24，該澆注槽與中間容器20固定連接。因此，為了將中間容器20設置在澆注室50的內表面51上方，只需簡單地一同轉動中間容器20和澆注槽24。這種轉動在此例如可通過具有凸輪的軸實現(xiàn)，該軸作用于澆注槽24(未示出)。此外，中間容器20設有蓋28。通過該蓋28可減小或甚至完全避免熔體60例如通過熱輻射引起的能量損失。由此例如可確保在中間容器20的內部容積26中的熔體60在整個實施根據(jù)本發(fā)明的方法期間始終保持液態(tài)。在蓋28中還設有傳感器11，該傳感器構造用于監(jiān)測熔體60在中間容器20的內部容積26中的液位61。由此可確保在每次實施根據(jù)本發(fā)明的方法時在內部容積26中存在始終相同量的熔體60。此外，所示中間容器20具有溢流口25。在傳感器11故障的情況下，當液位61超過溢流口25的高度時，熔體60可通過該溢流口流出中間容器20。因此在此情況下也可確保熔體60在內部容積26中始終相同的填充量。從而能夠可靠避免以過多的熔體60過度填充澆注室50。在圖4、圖5和圖6中也示出支承裝置23，在該支承裝置中閥體30可線性移動地支承。通過彈性元件40、尤其是彈簧41，閥體30被壓向其第一位置33的方向。由此可確保排出口21通過接觸錐體32與閥座環(huán)22的接觸而可靠封閉。只有通過接觸突出部31與澆注室50的內表面51的接觸，閥體30才克服彈簧41的力被壓向內部容積26的內部并且由此打開排出口21，參見圖6。在接下來中間容器20移出澆注室50時，閥體30通過彈簧41自動返回其第一位置33中，在該第一位置中排出口21被閥體30封閉。

圖7示出根據(jù)本發(fā)明的設備10的封閉體27的三種不同實施方式。封閉體27在此分別構造為閥體30。在閥體30的端部上分別設有一個接觸突出部31，該接觸突出部構造用于接觸澆注室50的內表面51(未示出)。閥體30也分別具有一個接觸錐體32，該接觸錐體構造用于接觸在中間容器20中的排出口21的閥座環(huán)22(未示出)并且也與之相匹配。由此可實現(xiàn)對排出口21(未示出)的特別密封的封閉。三種示出的閥體30的形狀互不相同，由此相應改變熔體60從根據(jù)本發(fā)明的設備10中流出的流出特性。因此，左側閥體30構造成塞狀。由此可實現(xiàn)熔體60尤其是層狀地從排出口21流出。中間閥體在其下端部上構造成盤狀。由于盤狀成形部設置在接觸錐體和接觸突出部之間，因此當閥體30設置在根據(jù)本發(fā)明的設備10中時該盤狀成形部位于內部容積26之外。當熔體60從內部容積26流出時，熔體碰撞到盤狀成型部上并且因此徑向且因而同心地流入澆注室50(未示出)。由此尤其是可避免熔體60點狀碰撞到澆注室50的內表面51上。右側閥體30在其下端部上具有凹腔狀成形部。該凹腔狀成形部在根據(jù)本發(fā)明的設備10的組裝狀態(tài)中也設置在內部容積26之外。通過在閥體30端部上的這種凹腔，尤其是可在熔體60注入澆注室50中時防止熔體60晃蕩。在此優(yōu)選可規(guī)定凹腔構造成歐米伽狀?！皻W米伽狀”在此意味著凹腔朝向一側開口。熔體60因此在注入澆注室50時優(yōu)選朝向凹腔開口方向流出，因此可在填充澆注室50時實現(xiàn)一種優(yōu)選方向。這在長形的澆注室50的情況下尤為有利。

附圖標記列表

10設備

11傳感器

20中間容器

21排出口

22閥座環(huán)

23支承裝置

24澆注槽

25溢流口

26內部容積

27封閉體

28蓋

30閥體

31接觸突出部

32接觸錐體

33第一位置

34第二位置

40彈性元件

41彈簧

50澆注室

51內表面

52注入口

60熔體

61熔體的液位