1.一種AlTiON熱作模具鋼復(fù)合梯度涂層，其特征在于，基片表面與AlTiON功能層之間依次沉積有粘結(jié)層CrN，支撐層CrN/AlTiN， 梯度層AlTiON，其中支撐層CrN/AlTiN由CrN、AlTiN交替沉積制作。
2.一種如權(quán)利要求1所述的AlTiON熱作模具鋼復(fù)合梯度涂層的制備方法，其特征在于，所述涂層由離子弧PVD沉積制備，包括如下具體步驟：
步驟1：將清洗干凈的基片固定在鍍膜室的載具上，載具轉(zhuǎn)速控制在2~8 r/min，腔體溫度控制在200~450 °C,腔體室內(nèi)通入Ar氣200~320SCCM ，真空室壓強(qiáng)為0.3~2 Pa, 基片加600~800V負(fù)偏壓， Cr靶電流控制在50~120A, 對基片進(jìn)行輝光放電清洗10~20 min; 調(diào)整基片所加負(fù)偏壓至50~200V, Cr靶電流調(diào)整為50~90A，關(guān)掉Ar氣閥同時(shí)打開N2氣流量閥至250~350 SCCM，調(diào)整真空室壓力為1~3Pa沉積CrN粘結(jié)層4~10 min；
步驟2： 調(diào)整N2氣流量至380~450SCCM, Cr靶電流調(diào)整為60~110A， AlTi靶電流調(diào)整為55~115A，交替沉積支撐層CrN/AlTiN 30~60 min;
步驟3：關(guān)閉Cr靶電流，向腔體內(nèi)通入O2和N2氣，保持AlTi靶電流55~115A不變，腔體溫度控制在200~450°C，隨著涂層進(jìn)行N2氣流量從380~450SCCM勻速下降至340~410 SCCM， O2氣流量從0 SCCM勻速上升到25~35 SCCM，沉積AlTiON梯度層15~25 min;
步驟4: 繼續(xù)向腔體通入O2和N2氣，保持在步驟3收尾階段N2和O2氣流量不變，AlTi靶電流不變，沉積功能層AlTiON 15~30min;
步驟5: 停止鍍膜，腔體真空度調(diào)整為4×10-3 Pa，基片溫度加熱至650~850°C，保溫3~5h 高溫原位退火。