1.一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，包括基底存放腔室(1)、樣品收集腔室(4)、反應(yīng)腔室(2)、過渡腔室(3)及將基底料帶由所述基底存放腔室(1)運(yùn)送至所述樣品收集腔室(4)的物料輸送裝置，所述基底存放腔室(1)、所述樣品收集腔室(4)、所述反應(yīng)腔室(2)和所述過渡腔室(3)形成密閉的輸料通道，所述反應(yīng)腔室(2)和所述過渡腔室(3)位于所述基底存放腔室(1)和所述樣品收集腔室(4)之間，且所述反應(yīng)腔室(2)至少為兩個(gè)，相鄰兩個(gè)所述反應(yīng)腔室(2)通過所述過渡腔室(3)間隔；
所述物料輸送裝置包括位于所述基底存放腔室(1)的第一卷繞傳送裝置(5)及位于所述樣品收集腔室(4)的第二卷繞傳送裝置(6)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，所述過渡腔室(3)包括沿基底運(yùn)動(dòng)方向間隔布置的通氣腔(31)和抽氣腔(32)，所述通氣腔(31)設(shè)有通氣進(jìn)口，所述抽氣腔(32)設(shè)有氣體出口。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備，所述過渡腔室(3)包括腔室主體，且所述腔室主體通過間隔裝置(35)形成所述通氣腔(31)和所述抽氣腔(32)或；
所述通氣腔(31)和所述抽氣腔(32)為相互獨(dú)立設(shè)置的裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，所述通氣腔(31)和所述抽氣腔(32)之間設(shè)有隔熱裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，所述過渡腔室(3)還包括氣體流量控制裝置(33)，所述氣體流量控制裝置(33)與所述通氣腔(31)連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，所述過渡腔室(3)還包括抽氣裝置(34)，所述抽氣裝置(34)與所述抽氣腔(32)連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，還包括用于支撐基底料帶的基底支撐裝置，所述基底支撐裝置位于所述輸料通道內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，沿基底運(yùn)動(dòng)方向，所述反應(yīng)腔室(2)的長度與所對應(yīng)的特定反應(yīng)步驟所需時(shí)間成正比。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，所述基底存放腔室(1)、所述樣品收集腔室(4)、所述反應(yīng)腔室(2)、所述過渡腔室(3)為一個(gè)腔室通過間隔裝置(7)形成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，所述第一卷繞傳送裝置(5)包括第一驅(qū)動(dòng)電機(jī)及與所述第一驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出軸連接的第一轉(zhuǎn)動(dòng)輥；所述第二卷繞傳送裝置(6)包括第二驅(qū)動(dòng)電機(jī)及與所述第二驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出軸連接的第二轉(zhuǎn)動(dòng)輥。