本發(fā)明涉及真空蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，特別地涉及一種有機(jī)發(fā)光二極管蒸鍍膜補(bǔ)償?shù)姆椒ā?/p>

背景技術(shù)：

真空蒸鍍有機(jī)材料進(jìn)程，需要對(duì)各膜層厚度進(jìn)行精確管控，才能確保蒸鍍出來(lái)的器件能夠合格。薄薄的一石英圓片，一面全鍍，一面鍍成鑰匙孔形，放在探頭夾具內(nèi)并形成完整的通路，與振蕩器相連，通過(guò)晶振片上固有頻率的變化來(lái)監(jiān)控膜厚。晶振片是根據(jù)晶振片固有頻率的變化來(lái)?yè)Q算出晶振片上蒸鍍有機(jī)材料的厚度，當(dāng)蒸鍍膜厚質(zhì)量遠(yuǎn)小于晶振片時(shí)，晶振片固有頻率變化不大，晶振片固有頻率變化可以很精確的反應(yīng)膜厚的變化。但是制程中蒸鍍厚膜，晶振片固有頻率的變化會(huì)受到厚膜的影響，測(cè)量精度會(huì)越來(lái)越低，此時(shí)就需要對(duì)膜厚進(jìn)行補(bǔ)償。

目前最簡(jiǎn)單的膜厚補(bǔ)償是單一的使用修正值(tooling)來(lái)進(jìn)行膜厚補(bǔ)償，即使測(cè)量膜厚滿足下列定義式：目標(biāo)膜厚＝測(cè)量膜厚/修正值，例如蒸鍍的目標(biāo)膜厚為實(shí)際測(cè)量的膜厚只有那么修正值設(shè)為80％，才能使蒸鍍的膜厚為但是隨著檢測(cè)膜厚的晶振片固有頻率降低，目標(biāo)膜厚真實(shí)檢測(cè)出的膜厚會(huì)越來(lái)越薄(因?yàn)榫д衿瑱z測(cè)精度越來(lái)越低)，即測(cè)量膜厚的數(shù)值將逐漸變小，因此需要通過(guò)測(cè)量膜厚的厚度差異(即目標(biāo)膜厚與測(cè)量膜厚之差)并手動(dòng)增加膜厚，給產(chǎn)品的生產(chǎn)帶來(lái)很大的困難，同時(shí)產(chǎn)品生產(chǎn)效率及良率也會(huì)很大影響。

針對(duì)隨著檢測(cè)膜厚的晶振片頻率而導(dǎo)致的真實(shí)膜厚變薄問(wèn)題，采用通過(guò)不斷更改修正值的方法來(lái)補(bǔ)償膜厚；

目標(biāo)膜厚＝測(cè)量的膜厚1/修正值1；

目標(biāo)膜厚＝測(cè)量的膜厚2/修正值2；

目標(biāo)膜厚＝測(cè)量的膜厚3/修正值3；

……

在晶振片頻率衰減的10個(gè)壽命周期(lifetime)里測(cè)試膜厚衰減差異修正值，也就是需要使用10個(gè)修正值來(lái)修正膜厚。

根據(jù)膜厚計(jì)算公式：

其中，nq為at切割晶體頻率常數(shù)，一般為1.688×10¹³hz·a；

dq為石英密度，一般為2.648g/cm³；

df為膜材密度，有機(jī)材料一般為1g/cm³；

z為材料的z值；

fq為欲鍍膜的石英晶體的頻率；

fc為已鍍膜的石英晶體的頻率。

一般情況下，z默認(rèn)為1，則可得：

當(dāng)z(z-ratio)為1時(shí)，此時(shí)沒(méi)有使用z值進(jìn)行膜厚補(bǔ)償，而膜厚測(cè)試儀計(jì)算膜厚方式是跟晶振片頻率有關(guān)，因此是忽略膜厚對(duì)晶振片固有頻率的影響，因此，檢測(cè)到的膜厚會(huì)越來(lái)越薄。

例如z值(z-ratio)為1，對(duì)應(yīng)的修正值t為初始修正值，即t0＝20％，設(shè)定蒸鍍的目標(biāo)膜厚開(kāi)始進(jìn)行蒸鍍：

晶振片初始?jí)勖芷诘恼翦?即lifetime＝0)，t0＝20％，實(shí)際膜厚即d0＝d，因此在開(kāi)始下一個(gè)壽命周期(即第一壽命周期)的蒸鍍時(shí)，修正值保持為t0不變；

晶振片第一壽命周期的蒸鍍(即lifetime＝1)，t1＝20％，實(shí)際膜厚目標(biāo)膜厚與實(shí)際膜厚的差異百分比為4.2％，大于差異常數(shù)(1.5％)，因此需要對(duì)修正值進(jìn)行修正后再開(kāi)始下一個(gè)壽命周期的蒸鍍，即將修正值改為t2，

晶振片第二壽命周期的蒸鍍(即lifetime＝2)，t2＝19.17％，實(shí)際膜厚目標(biāo)膜厚與實(shí)際膜厚的差異百分比為8.3％，大于差異常數(shù)(1.5％)，因此需要對(duì)修正值進(jìn)行修正后再開(kāi)始下一個(gè)壽命周期的蒸鍍，即將修正值改為t3，t3＝18.33％；

晶振片第三壽命周期的蒸鍍(即lifetime＝3)，t3＝18.33％，實(shí)際膜厚目標(biāo)膜厚與實(shí)際膜厚的差異百分大于差異常數(shù)(1.5％)，因此需要對(duì)修正值進(jìn)行修正后再開(kāi)始下一個(gè)壽命周期的蒸鍍，即將修正值改為t4，t4＝17.5％；

晶振片第四壽命周期的蒸鍍(即lifetime＝4)，t4＝17.5％，實(shí)際膜厚目標(biāo)膜厚與實(shí)際膜厚的差異百分大于差異常數(shù)(1.5％)，因此需要對(duì)修正值進(jìn)行修正后再開(kāi)始下一個(gè)壽命周期的蒸鍍，即將修正值改為t5，t5＝16.7％；

晶振片第五壽命周期的蒸鍍(即lifetime＝5)，t5＝16.7％，實(shí)際膜厚目標(biāo)膜厚與實(shí)際膜厚的差異百分大于差異常數(shù)(1.5％)，因此需要對(duì)修正值進(jìn)行修正后再開(kāi)始下一個(gè)壽命周期的蒸鍍，即將修正值改為t6，t6＝15.8％；

晶振片第六壽命周期的蒸鍍(即lifetime＝6)，t6＝15.8％，實(shí)際膜厚目標(biāo)膜厚與實(shí)際膜厚的差異百分大于差異常數(shù)(1.5％)，因此需要對(duì)修正值進(jìn)行修正后再開(kāi)始下一個(gè)壽命周期的蒸鍍，即將修正值改為t7，t7＝15％；

晶振片第七壽命周期的蒸鍍(即lifetime＝7)，t7＝15％，實(shí)際膜厚目標(biāo)膜厚與實(shí)際膜厚的差異百分大于差異常數(shù)(1.5％)，因此需要對(duì)修正值進(jìn)行修正后再開(kāi)始下一個(gè)壽命周期的蒸鍍，即將修正值改為t8，t8＝14.17％；

晶振片第八壽命周期的蒸鍍(即lifetime＝8)，t8＝14.17％，實(shí)際膜厚目標(biāo)膜厚與實(shí)際膜厚的差異百分大于差異常數(shù)(1.5％)，因此需要對(duì)修正值進(jìn)行修正后再開(kāi)始下一個(gè)壽命周期的蒸鍍，即將修正值改為t9，t9＝13.33％；

晶振片第九壽命周期的蒸鍍(即lifetime＝9)，t9＝13.33％，實(shí)際膜厚目標(biāo)膜厚與實(shí)際膜厚的差異百分大于差異常數(shù)(1.5％)，因此需要對(duì)修正值進(jìn)行修正后再開(kāi)始下一個(gè)壽命周期的蒸鍍，即將修正值改為t10，t10＝12.5％；

晶振片第十壽命周期的蒸鍍(即lifetime＝10)，t10＝12.5％，實(shí)際膜厚目標(biāo)膜厚與實(shí)際膜厚的差異百分大于差異常數(shù)(1.5％)，因此需要對(duì)修正值進(jìn)行修正后再開(kāi)始下一個(gè)壽命周期的蒸鍍，即將修正值改為11.67％。

從上述例子可看出，檢測(cè)到的實(shí)際膜厚越來(lái)越薄，而在z值為1時(shí)，理論膜厚，即目標(biāo)膜厚保持不變，因此理論膜厚與實(shí)際膜厚的變化趨勢(shì)存在很大的差異，特別是在晶振片的壽命周期較大時(shí)，差異很明顯。

此外，在晶振片的10個(gè)壽命周期內(nèi)，需要對(duì)修正值進(jìn)行10次修改，就需要10個(gè)修正值，而當(dāng)硬件稍有變化，這10個(gè)修正值就得重新修正，工作量太大，嚴(yán)重影響生產(chǎn)效率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種有機(jī)發(fā)光二極管蒸鍍膜補(bǔ)償?shù)姆椒?，用于解決上述生產(chǎn)過(guò)程中可操作性差、需要進(jìn)行多次參數(shù)的更改和生產(chǎn)效率低的技術(shù)問(wèn)題。

本發(fā)明提供一種宏觀自動(dòng)檢查機(jī)，包括以下步驟：

s10：將z值設(shè)定為z0，z0為大于1且小于99的整數(shù)；將修正值t設(shè)定為與z0對(duì)應(yīng)的初始修正值t0；設(shè)定目標(biāo)膜厚d后從晶振片的初始?jí)勖芷陂_(kāi)始進(jìn)行蒸鍍；

s20：獲得步驟s10中的實(shí)際膜厚d0，所述實(shí)際膜厚d0與目標(biāo)膜厚d相同；

s30：進(jìn)行晶振片的第n個(gè)壽命周期蒸鍍，獲得相應(yīng)的實(shí)際膜厚dn，若實(shí)際膜厚dn與目標(biāo)膜厚d滿足下列定義式：

其中，n為大于等于1的整數(shù)；

d為目標(biāo)膜厚；

dn為晶振片的第n個(gè)壽命周期的實(shí)際膜厚；

q為1.5％；

則將z值更改為zn，zn為大于1且小于99的整數(shù)，且zn不等于z0；

其中，zn為晶振片的第n個(gè)壽命周期的z值；

z0為晶振片的初始?jí)勖芷诘膠值；

并將修正值t更改為與zn對(duì)應(yīng)的初始修正值tn0；

s40：進(jìn)行晶振片的第n+1個(gè)壽命周期蒸鍍，直至最后一個(gè)壽命周期結(jié)束為止。

在一個(gè)實(shí)施方式中，步驟s30中，若z0小于或等于5，則zn滿足下列定義式：zn>z0；

在一個(gè)實(shí)施方式中，步驟s30中，若z0大于5，則zn滿足下列定義式：zn<z0；

在一個(gè)實(shí)施方式中，步驟s30中更改z值的次數(shù)為一次或兩次。

在一個(gè)實(shí)施方式中，步驟s30中，若實(shí)際膜厚dn與目標(biāo)膜厚d滿足下列定義式：

則將修正值t更改為tn，所述tn滿足下列定義式：

其中，tn為晶振片的第n個(gè)壽命周期的修正值，

t0為與z0對(duì)應(yīng)的初始修正值。

在一個(gè)實(shí)施方式中，步驟s30中，n為大于等于1且小于10的整數(shù)。

在一個(gè)實(shí)施方式中，步驟s10中，z0為2、5、6、7、10、11或17。

在一個(gè)實(shí)施方式中，步驟s10中，z0為5；步驟s30中，z5為6。

在一個(gè)實(shí)施方式中，步驟s30中，修改z值前，修正值t均保持不變。

在一個(gè)實(shí)施方式中，所述晶振片的初始?jí)勖芷跒?，所述初始?jí)勖芷趯?duì)應(yīng)的晶振頻率為6hz。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于：

(1)先使用一個(gè)z值來(lái)近似模擬晶振片開(kāi)始使用時(shí)膜厚與晶振片頻率變化的規(guī)律，若實(shí)際膜厚與目標(biāo)膜厚之間的差異在大于1.5％時(shí)，說(shuō)明此時(shí)使用之前的z值存在局限，此時(shí)通過(guò)改變z值，即選用新的z值來(lái)模擬膜厚與頻率變化的規(guī)律；而由于更改了z值，在此過(guò)程中再進(jìn)行更改修正值時(shí)，對(duì)修正值的改動(dòng)次數(shù)減少，操作更簡(jiǎn)單，更利于實(shí)際生產(chǎn)操作。

(2)其次，由于更改了z值，將會(huì)使膜厚突變的改動(dòng)較小，使膜厚與頻率之間的曲線更接近于z值為1時(shí)的理論曲線，因此使工藝更穩(wěn)定，可以不用看效果連續(xù)進(jìn)行生產(chǎn)。

(3)此外，在設(shè)備硬件有變化時(shí)，可繼續(xù)沿用同樣的z值，不需要更改，只需要更改修正值或者手動(dòng)更改目標(biāo)厚度就可以，使生產(chǎn)的可操作性大大提高。

附圖說(shuō)明

在下文中將基于實(shí)施例并參考附圖來(lái)對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)的描述。

圖1為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例中晶振片頻率與膜厚變化趨勢(shì)的曲線圖。

在附圖中，相同的部件使用相同的附圖標(biāo)記。附圖并未按照實(shí)際的比例繪制。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。

本發(fā)明提供了一種有機(jī)發(fā)光二極管蒸鍍膜補(bǔ)償?shù)姆椒?，即通過(guò)改變z值(z-ratio)的方法來(lái)近似模擬晶振片開(kāi)始使用時(shí)膜厚與晶振片頻率變化的規(guī)律，在對(duì)z值進(jìn)行修改后，使更改修正值的次數(shù)大大降低，使生產(chǎn)過(guò)程中的可操作性更好。

例如，z值為1，修正值為20％，晶振片的壽命周期為0時(shí)，蒸鍍目標(biāo)膜厚的膜厚，實(shí)際測(cè)量的膜厚為

z值為1，修正值為20％，晶振片的壽命周期為3時(shí)，蒸鍍目標(biāo)膜厚的膜厚，實(shí)際測(cè)量的膜厚為

但是若將z值更改為5，此時(shí)對(duì)應(yīng)的修正值為15％，晶振片壽命周期為0，蒸鍍目標(biāo)膜厚的膜厚，實(shí)際測(cè)量的膜厚為

而且，z值為5，修正值為15％，晶振片壽命周期為3，蒸鍍目標(biāo)膜厚的膜厚，實(shí)際測(cè)量的膜厚仍然為

從上述例子可看出，z值為1和z值為5時(shí)，采用的修正值不同，是因?yàn)楦鶕?jù)膜厚的定義式：

當(dāng)z值為1和z值為5時(shí)，af的計(jì)算方式不一樣，即af不同，而af與修正值滿足以下定義式：af＝目標(biāo)膜厚/修正值，因此當(dāng)af不同時(shí)，需要采用不用的修正值進(jìn)行修正。

而且，當(dāng)z值為1時(shí)，晶振片經(jīng)過(guò)3個(gè)壽命周期后，檢測(cè)的實(shí)際膜厚越來(lái)越薄，與目標(biāo)膜厚之間的差異較大；而當(dāng)z值為5時(shí)，晶振片經(jīng)過(guò)3個(gè)壽命周期后，檢測(cè)的實(shí)際膜厚與目標(biāo)膜厚之間的差異較小，因此，通過(guò)采用改變z值的方法，能夠使實(shí)際膜厚與目標(biāo)膜厚之間的差異始終保持在差異常數(shù)的范圍之內(nèi)，從而使晶振片頻率與膜厚的變化趨于線性變化，以保證穩(wěn)定的生產(chǎn)工藝。

具體來(lái)說(shuō)，包括以下步驟：

第一步：將z值設(shè)定為z0，z0為大于1且小于99的整數(shù)；將修正值t設(shè)定為與z0對(duì)應(yīng)的初始修正值t0；設(shè)定目標(biāo)膜厚d后從晶振片的初始?jí)勖芷陂_(kāi)始進(jìn)行蒸鍍；例如，可將z0設(shè)定為5，此時(shí)對(duì)應(yīng)的t0為15％，將目標(biāo)膜厚d設(shè)定為后開(kāi)始初始?jí)勖芷趂＝0時(shí)的蒸鍍。

第二步：獲得第一步中的實(shí)際膜厚d0，實(shí)際膜厚d0與目標(biāo)膜厚d相同；即初始?jí)勖芷趂＝0時(shí)，d0＝d。

第三步：進(jìn)行晶振片的第n個(gè)壽命周期蒸鍍，獲得相應(yīng)的實(shí)際膜厚dn，若實(shí)際膜厚dn與目標(biāo)膜厚d滿足下列定義式：

其中，n為大于等于1的整數(shù)；

d為目標(biāo)膜厚；

dn為晶振片的第n個(gè)壽命周期的實(shí)際膜厚；

q為1.5％；

則將z值更改為zn，zn為大于1且小于99的整數(shù)，且zn不等于z0；

其中，zn為晶振片的第n個(gè)壽命周期的z值；

z0為晶振片的初始?jí)勖芷诘膠值；

并將修正值t更改為與zn對(duì)應(yīng)的初始修正值tn0。

例如使z＝5，t＝15％進(jìn)行晶振片的第5個(gè)壽命周期(即n＝5)蒸鍍時(shí)，其相應(yīng)的實(shí)際膜厚為由于

因此，此時(shí)需要更改z值，將z值更改為6，即z5＝6，并將修正值t更改為z值為6時(shí)對(duì)應(yīng)的修正值t60，t60＝17％。

此外，還可將q設(shè)置為5％，在實(shí)際生產(chǎn)中可根據(jù)設(shè)定的目標(biāo)膜厚進(jìn)行調(diào)整。

進(jìn)一步的，修改z值前，修正值t均保持不變。即若z值不變，則修正值保持為初始修正值t0。

第四步，進(jìn)行晶振片的第n+1個(gè)壽命周期蒸鍍，直至最后一個(gè)壽命周期結(jié)束為止。

例如，進(jìn)行晶振片的第6個(gè)壽命周期蒸鍍是上述z值改變后的條件進(jìn)行，即z＝6，t＝17％。

在一個(gè)實(shí)施例中，第三步中更改z值時(shí)，若z0小于或等于5，則zn滿足下列定義式：zn>z0。

例如當(dāng)z0為5時(shí)，進(jìn)行晶振片的第6個(gè)壽命周期蒸鍍時(shí)，可使z6＝6。

在一個(gè)實(shí)施例中，第三步中更改z值時(shí)，若z0大于5，則zn滿足下列定義式：zn<z0。

例如當(dāng)z0為7時(shí)，進(jìn)行晶振片的第6個(gè)壽命周期蒸鍍時(shí)，可使z6＝6。

在一個(gè)實(shí)施例中，第三步中更改z值的次數(shù)為一次或兩次。優(yōu)選的，更改z值的次數(shù)為一次，即整個(gè)操作中有兩個(gè)z值，既能夠方便實(shí)際生產(chǎn)操作，同時(shí)使用兩個(gè)z值和若干個(gè)修正值就能夠模擬出整個(gè)晶振片頻率與膜厚的近似線性的變化規(guī)律，如圖1中的71和72所示。

在一個(gè)實(shí)施例中，進(jìn)行晶振片的第n個(gè)壽命周期蒸鍍，獲得相應(yīng)的實(shí)際膜厚dn后，若實(shí)際膜厚dn與目標(biāo)膜厚d滿足下列定義式：

則將修正值t更改為tn后再進(jìn)行晶振片的第n+1個(gè)壽命周期蒸鍍。

具體地，更改后的tn滿足下列定義式：

其中，tn為晶振片的第n個(gè)壽命周期的修正值，

t0為與z0對(duì)應(yīng)的初始修正值。

例如，進(jìn)行晶振片的第3個(gè)壽命周期蒸鍍時(shí)，其相應(yīng)的實(shí)際膜厚為由于實(shí)際膜厚dn與目標(biāo)膜厚d滿足下列定義式：

因此，此時(shí)無(wú)需更改z值，僅需更改修正值即可。將修正值更改為t3后再進(jìn)行晶振片的第4個(gè)壽命周期蒸鍍，具體地，t3根據(jù)下列定義式計(jì)算得出。

其中，t0＝15％，

在一個(gè)實(shí)施例中，n為小于10的整數(shù)。即在晶振片的10個(gè)壽命周期內(nèi)進(jìn)行蒸鍍。

在一個(gè)實(shí)施例中，z0為2、5、6、7、10、11或17。上述z值為常用的z值，在實(shí)際生產(chǎn)中可根據(jù)設(shè)定的目標(biāo)膜厚進(jìn)行調(diào)整。

在一個(gè)實(shí)施例中，步驟s10中，z0為5；步驟s30中，z5為6。下面以蒸鍍的目標(biāo)膜厚為為例，對(duì)本實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明。

首先，將z0設(shè)置為5，將修正值t設(shè)定為與z0對(duì)應(yīng)的初始修正值t0，t0為15％；設(shè)定目標(biāo)膜厚后從晶振片的初始?jí)勖芷陂_(kāi)始進(jìn)行蒸鍍，初始?jí)勖芷跒?，對(duì)應(yīng)的晶振片的頻率為6hz。

其次，獲得上述初始?jí)勖芷谡翦兒蟮膶?shí)際膜厚d0，即d0＝d。

第三，按z＝5，t0＝15％進(jìn)行晶振片的第3個(gè)壽命周期蒸鍍(lifetime＝3)，獲得實(shí)際膜厚d3，目標(biāo)膜厚與實(shí)際膜厚d3之間差異的百分比為0.83％，小于1.5％，因此需要修改修正值，將修正值修改為t3，t3＝14.88％后在進(jìn)行下一個(gè)壽命周期的蒸鍍。

第四，按z＝5，t3＝14.88％進(jìn)行晶振片的第5個(gè)壽命周期蒸鍍(lifetime＝5)，獲得實(shí)際膜厚d6，目標(biāo)膜厚與實(shí)際膜厚d3之間差異的百分比為4.2％，大于1.5％，因此需要修改z值，將z值修改為z5，z5＝6，同時(shí)將修正值修改為z5＝6對(duì)應(yīng)的修正值，即t6＝17％后在進(jìn)行下一個(gè)壽命周期的蒸鍍。

第五，按z＝6，t5＝17％進(jìn)行晶振片的第5個(gè)壽命周期蒸鍍(lifetime＝5)，獲得實(shí)際膜厚d5，即d5＝d。

第六，按z＝6，t5＝17％進(jìn)行晶振片的第9個(gè)壽命周期蒸鍍(lifetime＝9)，獲得實(shí)際膜厚d9，目標(biāo)膜厚與實(shí)際膜厚d3之間差異的百分比為0.83％，小于1.5％。

從上述操作中可看出，通過(guò)改變z值，且改變z值的次數(shù)為1次，改變修正值的次數(shù)為3次，即僅需兩個(gè)z值以及3個(gè)修正值即可完成膜厚的補(bǔ)償，相比現(xiàn)有技術(shù)中需要10個(gè)修正值而言，本發(fā)明實(shí)施例提供的方法需要改變的參數(shù)更少，操作更簡(jiǎn)單。

進(jìn)一步地，若設(shè)備硬件有變化時(shí)，例如膜厚測(cè)試儀發(fā)生變化時(shí)，由于z值體現(xiàn)為膜厚測(cè)試儀計(jì)算膜厚的方式，因此不需要重新設(shè)定z值，而是可以沿用上一個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中的z值，只需相應(yīng)的更改修正值或者手動(dòng)更改目標(biāo)厚度即可，使操作更簡(jiǎn)單，且生產(chǎn)的連貫性更好。

圖1為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例中晶振片頻率與膜厚變化趨勢(shì)的曲線圖，圖中橫坐標(biāo)為晶振片的頻率，單位為hz，縱坐標(biāo)為膜厚，單位為如圖1所示，1是z值為1時(shí)頻率與膜厚變化的理論曲線，2是z值為1時(shí)頻率與膜厚變化的實(shí)際曲線；3是z值為2時(shí)頻率與膜厚變化的實(shí)際曲線；4是z值為5時(shí)頻率與膜厚變化的實(shí)際曲線；5是z值為6時(shí)頻率與膜厚變化的實(shí)際曲線；6是z值為7時(shí)頻率與膜厚變化的實(shí)際曲線；71與72分別是根據(jù)上述實(shí)施例獲得的更改z值后的頻率與膜厚變化的實(shí)際曲線。

位于z值為1的理論曲線以下的曲線分別是z值為1、2、3、4和5時(shí)的曲線，而位于z值為1的理論曲線以上的曲線分別是z值為大于5時(shí)的曲線，因此當(dāng)初始的z0小于或等于5，更改z值時(shí)，需要使改變后的z值大于z0，即可使該曲線更接近于z＝1的理論曲線；同樣的，當(dāng)z0大于5，更改z值時(shí)，需要使改變后的z值小于z0，即可使該曲線更接近于z＝1的理論曲線。

圖1中的71和72兩條曲線在壽命周期為5時(shí)被打斷，這是由于改變了z值所帶來(lái)的變化，使71與71的變化趨勢(shì)都更接近線性變化，并且都與z值為1時(shí)的理論曲線更接近。

綜上所述，本發(fā)明提供的方法，通過(guò)改變z值，以及相應(yīng)的調(diào)整修正值，使生產(chǎn)過(guò)程中需要更改的參數(shù)大大減少，也就減少了生產(chǎn)過(guò)程中的不穩(wěn)定因素，便于生產(chǎn)穩(wěn)定和控制；此外，通過(guò)采用不同的z值和修正值，使實(shí)際膜厚與晶體管的頻率之間的變化趨勢(shì)趨于線性，使產(chǎn)品的品質(zhì)更可靠，能夠提高產(chǎn)品的合格率和生產(chǎn)效率。

雖然已經(jīng)參考優(yōu)選實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了描述，但在不脫離本發(fā)明的范圍的情況下，可以對(duì)其進(jìn)行各種改進(jìn)并且可以用等效物替換其中的部件。尤其是，只要不存在結(jié)構(gòu)沖突，各個(gè)實(shí)施例中所提到的各項(xiàng)技術(shù)特征均可以任意方式組合起來(lái)。本發(fā)明并不局限于文中公開(kāi)的特定實(shí)施例，而是包括落入權(quán)利要求的范圍內(nèi)的所有技術(shù)方案。