本發(fā)明涉及磨具領域，特別是涉及一種濕式皮革輪及其制備方法。
背景技術：
拋光是指利用機械、化學或電化學的作用，使工件表面的粗糙度降低，以獲得光亮、平整表面的加工方法。涂附磨具是一種用粘結劑將磨料粘附在可繞曲的基材上制成的磨具，被稱為“萬能磨工具”，具有加工范圍寬、磨削效率高的優(yōu)點，能實現(xiàn)高尺寸精度和低表面粗糙度的拋光效果。
紙、布、麻料等片狀柔性基體制成的磨具適合用于精細加工，但由于柔性基體的形狀不固定，通常只能用于手工拋光操作或者配合手動工具完成拋光操作，不能用于機器設備上，因此拋光效率較低。而且紙、布、麻料等柔性基體制成的磨具耐水性差，不適合配合水或拋光液進行濕式拋光使用，拋光時散熱不良，摩擦產(chǎn)生的熱量會導致工件表面灼傷變色而影響整體拋光效果，另外拋光時產(chǎn)生的大量粉塵無法消除，造成加工環(huán)境惡劣。
技術實現(xiàn)要素：
基于此，本發(fā)明的目的在于提供一種濕式皮革輪，該濕式皮革輪能用于機器設備上，具有磨削效率高、可用于濕式拋光、散熱效果好的優(yōu)點。
本發(fā)明采用的技術方案如下：
一種濕式皮革輪，包括基材、磨料和粘結劑，所述磨料通過粘結劑粘附在所述基材表面，所述基材為皮革料，所述磨料按質(zhì)量分數(shù)由48％納米級金剛石、24％碳化硅、13％白剛玉、10％鋯剛玉和5％微晶氧化鋁組成。
進一步地，所述基材為牛皮、豬皮、羊皮和鹿皮中任意一種的革料。
進一步地，所述基材的厚度為5mm～15mm。
進一步地，所述磨料的平均粒徑為60μm～100μm，適用于工件的精加工。
進一步地，所述粘結劑為脲醛樹脂、酚醛樹脂、環(huán)氧樹脂和醇酸樹脂中一種或多種組合，具有粘結強度高、耐水性好的優(yōu)點。
本發(fā)明的另一目的在于提供上述濕式皮革輪的制備方法，該制備方法包括以下步驟：
(1)將粘結劑涂附在基材表面，形成底膠層；
(2)將磨料植于所述底膠層上，再進行干燥；
(3)將粘結劑涂附在磨料之上，形成復膠層，再經(jīng)干燥、固化、裁切得到圓形料片；
(4)將多片圓形料片疊合壓緊，然后經(jīng)縫合、鉆孔制成產(chǎn)品。
相對于現(xiàn)有技術，本發(fā)明的濕式皮革輪采用皮革作為基材，其質(zhì)地柔軟，能實現(xiàn)工件中細小間隙的打磨，且形狀比紙、布、麻料等固定，可安裝在機器設備上使用，更換方便，磨削效率高，能有效降低研磨拋光的工作強度，再者，該濕式皮革輪的耐水性更高，可配合水或拋光液進行濕式拋光使用，散熱效果好，使用壽命長，還能避免拋光時粉塵的產(chǎn)生，改善加工環(huán)境。本發(fā)明的濕式皮革輪可用于金屬或非金屬材料的研磨、精磨、超精磨和鏡面磨削，如：不銹鋼制品、顯像管玻殼、LCD平面、玻璃、寶石、大理石、飛機配件、汽車配件、電子產(chǎn)品的精磨和拋光等。
具體實施方式
本發(fā)明提供一種濕式皮革輪，所述濕式皮革輪包括基材、磨料和粘結劑，所述磨料通過粘結劑粘附在所述基材表面。
所述基材為皮革料，具體為牛皮、豬皮、羊皮和鹿皮中任意一種的革料，其厚度為5mm～15mm。所述磨料按質(zhì)量分數(shù)由48％納米級金剛石、24％碳化硅、13％白剛玉、10％鋯剛玉和5％微晶氧化鋁組成。所述磨料的平均粒徑為60μm～100μm。所述粘結劑為脲醛樹脂、酚醛樹脂、環(huán)氧樹脂和醇酸樹脂中一種或多種組合。
所述濕式皮革輪的制備方法如下：
(1)將粘結劑涂附在基材表面，形成厚度為0.03mm～0.05mm的底膠層。
(2)利用重力植砂機將磨料植于所述底膠層上，再于80℃～100℃下進行干燥；
(3)將粘結劑涂附在磨料之上，形成厚度為0.06mm～0.1mm的復膠層，再于80℃～100℃下干燥、固化后，經(jīng)裁切得到圓形料片；
(4)將5片～20片圓形料片疊合壓緊，然后經(jīng)縫合、鉆孔制成產(chǎn)品。
相對于現(xiàn)有技術，本發(fā)明的濕式皮革輪采用皮革作為基材，其質(zhì)地柔軟，能實現(xiàn)工件中細小間隙的打磨，且形狀比紙、布、麻料等固定，可安裝在機器設備上使用，更換方便，磨削效率高，能有效降低研磨拋光的工作強度，再者，該濕式皮革輪的耐水性更高，可配合水或拋光液進行濕式拋光使用，散熱效果好，使用壽命長，還能避免拋光時粉塵的產(chǎn)生，改善加工環(huán)境。本發(fā)明的濕式皮革輪可用于金屬或非金屬材料的研磨、精磨、超精磨和鏡面磨削，如：不銹鋼制品、顯像管玻殼、LCD平面、玻璃、寶石、大理石、飛機配件、汽車配件、電子產(chǎn)品的精磨和拋光等。
以上所述實施例僅表達了本發(fā)明的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對發(fā)明專利范圍的限制。應當指出的是，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。