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一種鍍膜設(shè)備及鍍膜方法與流程

文檔序號:11429020閱讀:229來源:國知局
一種鍍膜設(shè)備及鍍膜方法與流程

本發(fā)明涉及鍍膜設(shè)備及鍍膜方法。



背景技術(shù):

目前,金屬pvd裝飾鍍膜的設(shè)備大多采用單體型、二聯(lián)體、三聯(lián)體結(jié)構(gòu)。傳統(tǒng)采用最多的是圓形或方形單腔體設(shè)備,基材在腔體內(nèi)部采用繞中心公轉(zhuǎn)或公轉(zhuǎn)加自轉(zhuǎn)的方式,生產(chǎn)流程為:裝入基材——關(guān)門抽真空——鍍膜——腔體充氣——取出產(chǎn)品——裝入新基材,此設(shè)備缺點(diǎn)為:1.鍍膜完一爐產(chǎn)品需要破空、重新抽真氣,占用了大量生產(chǎn)時(shí)間;2.工藝重復(fù)性不好;3.因腔體壁板也被鍍上膜層,每次破空后的壓差變化,壁板上的膜層會脫落污染真空室;4.腔體頻繁抽氣、腔體易出現(xiàn)變形、開裂等現(xiàn)象。

為了提高生產(chǎn)效率,減少抽真空占用時(shí)間,提高工藝重復(fù)性,一些廠家開發(fā)了二聯(lián)體、三聯(lián)體、或更多聯(lián)體型設(shè)備。二聯(lián)體一般為單進(jìn)單出式,其生產(chǎn)方式為:裝、卸載室裝入基材——裝、卸載室抽真空——真空隔離閥打開——基材轉(zhuǎn)入鍍膜室——真空隔離閥關(guān)閉——鍍膜——鍍膜完成真空隔離閥打開——基材轉(zhuǎn)入裝、卸載室——真空隔離閥關(guān)閉——裝、卸載室破空取出產(chǎn)品——裝入新基材。

三聯(lián)體設(shè)備為鍍膜腔體的兩邊各有一個(gè)腔體,分別為裝載室和卸載室,相鄰兩個(gè)腔體安裝有真空隔離閥,較二聯(lián)體設(shè)備優(yōu)點(diǎn)在于裝載室在產(chǎn)品轉(zhuǎn)入鍍膜室后,在鍍膜的同時(shí)可以裝入新的產(chǎn)品做加熱烘烤、清洗等鍍膜前處理,產(chǎn)品鍍膜完成后從另外的卸載室出來,相比二聯(lián)體設(shè)備統(tǒng)籌利用了鍍膜時(shí)間,提高了生產(chǎn)效率。

綜上所述,單體設(shè)備為單個(gè)圓形或方形腔體結(jié)構(gòu),聯(lián)體型設(shè)備是多個(gè)單體設(shè)備的聯(lián)結(jié)體,這些設(shè)備的腔體中間空間部位大多數(shù)是無用的空間,且多個(gè)靶位時(shí),相對的兩個(gè)或兩對靶會相互污染,若腔體直徑做大,中間無用的空間會更多,相應(yīng)的要需要更多數(shù)量真空泵,中間的傳動轉(zhuǎn)盤也會相應(yīng)增大,生產(chǎn)成本增加,占地面積增加。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處,本發(fā)明的目的是提供一種鍍膜設(shè)備及鍍膜方法。

本發(fā)明的技術(shù)方案是:

一種鍍膜設(shè)備,包括,設(shè)有環(huán)形腔體的機(jī)體,所述環(huán)形腔體設(shè)有至少三個(gè)腔室,所述三個(gè)腔室環(huán)向設(shè)置,其包括第一鍍膜室,第二鍍膜室,裝卸室;固定于機(jī)體且設(shè)于環(huán)形腔體內(nèi)的真空隔離閥組;用于運(yùn)輸鍍膜件的運(yùn)輸組件,其設(shè)于環(huán)形腔體內(nèi);用于抽真空的若干真空泵,其分別設(shè)于第一鍍膜室,第二鍍膜室,裝卸室的外周;設(shè)于裝卸室外周的充氣組件;用于鍍膜的濺射靶,其固定于機(jī)體且位于第一鍍膜室、第二鍍膜室的一側(cè);其中,所述真空隔離閥組包括設(shè)于裝卸室與第一鍍膜室之間的第一隔離閥,設(shè)于第二鍍膜室與裝卸室之間的第二隔離閥;所述第一隔離閥、第二隔離閥關(guān)閉時(shí),第一鍍膜室,第二鍍膜室分別與裝卸室真空隔絕;所述運(yùn)輸組件將鍍膜件依次運(yùn)輸至裝卸室、第一鍍膜室、第二鍍膜室、裝卸室。

其進(jìn)一步技術(shù)方案為:所述運(yùn)輸組件包括固定于環(huán)形腔體底部的環(huán)形導(dǎo)軌,滑動聯(lián)接于環(huán)形導(dǎo)軌上的載物臺,以及驅(qū)動裝置;所述驅(qū)動裝置驅(qū)動載物臺沿環(huán)形導(dǎo)軌滑動。

其進(jìn)一步技術(shù)方案為:所述驅(qū)動裝置包括若干齒輪傳動組件;所述齒輪傳動組件設(shè)有輸出齒輪;所述載物臺為扇形圓環(huán),其外周設(shè)有與輸出齒輪相嚙合的齒形結(jié)構(gòu)。

其進(jìn)一步技術(shù)方案為:所述齒輪傳動組件間隔式設(shè)置;所述載物臺在軸向的弧線長度大于相鄰兩個(gè)齒輪傳動組件在軸向的弧線長度,以使得所述載物臺至少與一組齒輪傳動組件傳動聯(lián)接。

其進(jìn)一步技術(shù)方案為:所述扇形圓環(huán)的數(shù)量為6個(gè);所述齒輪傳動組件的組數(shù)為10組。

其進(jìn)一步技術(shù)方案為:所述裝卸室的設(shè)有裝載門;所述裝載門關(guān)閉時(shí),所述裝卸室與外界密封隔離。

其進(jìn)一步技術(shù)方案為:所述機(jī)體設(shè)有位于環(huán)形腔體一側(cè)的真空測量裝置或者加熱裝置、溫度測量裝置。

其進(jìn)一步技術(shù)方案為:所述第一鍍膜室和第二鍍膜室分別設(shè)有三個(gè)所述的濺射靶。

其進(jìn)一步技術(shù)方案為:所述機(jī)體設(shè)有用于控制真空隔離閥組的控制裝置;所述控制裝置位于環(huán)形腔體一側(cè)。

一種鍍膜方法,包括以下步驟:s1.裝載第一個(gè)鍍膜件至裝卸室的運(yùn)輸組件上,且第一隔離閥、第二隔離閥打開;s2.真空泵對環(huán)形腔體抽真空,以使得第一鍍膜室、第二鍍膜室、裝卸室處于真空狀態(tài);s3.運(yùn)輸組件將第一個(gè)鍍膜件運(yùn)輸至第一鍍膜室后,第一隔離閥、第二隔離閥關(guān)閉;s4.第一鍍膜室的濺射靶對第一鍍膜件進(jìn)行鍍膜,且充氣閥對裝卸室充氣;s5.裝載第二個(gè)鍍膜件至裝卸室的運(yùn)輸組件上;s6.真空泵對裝卸室抽真空后,第一隔離閥、第二隔離閥打開;s7.運(yùn)輸組件分別將第二個(gè)鍍膜件、第一鍍膜件同步運(yùn)輸至第一鍍膜室、第二鍍膜室后,第一鍍膜室、第二鍍膜室的濺射靶分別對第二個(gè)鍍膜件、第一個(gè)鍍膜件進(jìn)行鍍膜;s8.充氣閥對裝卸室充氣;s9.裝載第三個(gè)鍍膜件至裝卸室的運(yùn)輸組件上;s10.真空泵對裝卸室抽真空后,第一隔離閥、第二隔離閥打開;s11.運(yùn)輸組件分別將第三個(gè)鍍膜件、第二個(gè)鍍膜件、第一個(gè)鍍膜件同步運(yùn)輸至第一鍍膜室、第二鍍膜室、裝卸室后,第一鍍膜室的濺射靶對第三個(gè)鍍膜件進(jìn)行鍍膜,且第二鍍膜室的濺射靶對第二個(gè)鍍膜件進(jìn)行鍍膜;s12.充氣閥對裝卸室充氣后,將第一個(gè)鍍膜件從裝卸室的運(yùn)輸組件上卸載。

本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比的技術(shù)效果是:一種鍍膜設(shè)備,第一鍍膜室,第二鍍膜室,裝卸室設(shè)置在一個(gè)圓環(huán)上,鍍膜件通過運(yùn)輸組件依次傳輸,第一鍍膜室、第二鍍膜室分別與裝卸室通過真空隔離閥組進(jìn)行真空隔離,濺射靶位于真空室外周,濺射靶和濺射靶之間沒有對射污染。并且,第一鍍膜室,第二鍍膜室一直處于真空隔離狀態(tài),不會頻繁在真空與大氣壓狀態(tài)切換,能較好的保護(hù)腔室內(nèi)表面的膜層,提高了使用壽命。由于鍍膜室和裝卸室相互真空隔絕,因此,第一鍍膜室、第二鍍膜室在真空狀態(tài)下,能將已鍍膜件從裝卸室取走,將未鍍膜件裝載至運(yùn)輸組件上,為下個(gè)步驟做準(zhǔn)備,因此,本發(fā)明的鍍膜設(shè)備生產(chǎn)效率高。

一種鍍膜方法,第一鍍膜室和第二鍍膜室對鍍膜件進(jìn)行鍍膜時(shí),裝卸室可以進(jìn)行裝載工作,因此,可以快速、高效的對鍍膜件進(jìn)行鍍膜,提高了生產(chǎn)效率。

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步描述。

附圖說明

圖1為本發(fā)明一種鍍膜設(shè)備的內(nèi)部結(jié)構(gòu)視圖;

圖2為圖1的俯視圖;

圖3為本發(fā)明一種鍍膜方法的流程圖之一;

圖4為本發(fā)明一種鍍膜方法的流程圖之二。

附圖標(biāo)記

10鍍膜設(shè)備1機(jī)體

11第一鍍膜室12第二鍍膜室

13裝卸室131充氣閥

2運(yùn)輸組件21環(huán)形導(dǎo)軌

22載物臺23驅(qū)動裝置

3真空泵31機(jī)械泵

32分子泵4濺射靶

51第一隔離閥52第二隔離閥

6裝載門

具體實(shí)施方式

為了更充分理解本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容,下面結(jié)合示意圖對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)一步介紹和說明,但不局限于此。

一種鍍膜設(shè)備,包括,設(shè)有環(huán)形腔體的機(jī)體,固定于機(jī)體且設(shè)于環(huán)形腔體內(nèi)的真空隔離閥組,用于運(yùn)輸鍍膜件的運(yùn)輸組件,用于抽真空的若干真空泵,設(shè)于裝卸室外周的充氣組件,用于鍍膜的濺射靶。

環(huán)形腔體設(shè)有三個(gè)腔室,三個(gè)腔室環(huán)向設(shè)置,其包括第一鍍膜室,第二鍍膜室,裝卸室。

運(yùn)輸組件設(shè)于環(huán)形腔體內(nèi),將鍍膜件依次運(yùn)輸至裝卸室、第一鍍膜室、第二鍍膜室、裝卸室。

真空泵分別設(shè)于第一鍍膜室,第二鍍膜室,裝卸室的外周。真空隔離閥組包括設(shè)于裝卸室與第一鍍膜室之間的第一隔離閥,設(shè)于第二鍍膜室與裝卸室之間的第二隔離閥。第一隔離閥、第二隔離閥關(guān)閉時(shí),第一鍍膜室,第二鍍膜室分別與裝卸室真空隔絕。

濺射靶固定于機(jī)體且位于第一鍍膜室、第二鍍膜室的一側(cè)。當(dāng)運(yùn)輸組件將鍍膜件運(yùn)輸至第一鍍膜室/第二鍍膜室時(shí),第一鍍膜室/第二鍍膜室的濺射靶對鍍膜件進(jìn)行鍍膜。在具體實(shí)施時(shí),濺射靶的數(shù)量及位置根據(jù)具體的需要設(shè)計(jì)。

如圖1、圖2所示,一種鍍膜設(shè)備10,包括,設(shè)有環(huán)形腔體的機(jī)體1,固定于機(jī)體1且設(shè)于環(huán)形腔體內(nèi)的真空隔離閥組,用于運(yùn)輸鍍膜件的運(yùn)輸組件2,用于抽真空的五組真空泵3,設(shè)于裝卸室13外周的充氣組件,用于鍍膜的濺射靶4。

環(huán)形腔體設(shè)有三個(gè)腔室,三個(gè)腔室環(huán)向設(shè)置,其包括第一鍍膜室11,第二鍍膜室12,裝卸室13。

運(yùn)輸組件2設(shè)于環(huán)形腔體內(nèi),將鍍膜件依次運(yùn)輸至裝卸室13、第一鍍膜室11、第二鍍膜室12、裝卸室13。

真空泵3分別設(shè)于第一鍍膜室11,第二鍍膜室12,裝卸室13的外周。在具體實(shí)施例時(shí),可根據(jù)具體的情況,在第一鍍膜室11,第二鍍膜室12,裝卸室13的外周設(shè)置真空泵3。機(jī)體1設(shè)有位于環(huán)形腔體一側(cè)的真空測量裝置或者加熱裝置、溫度測量裝置。鍍膜時(shí),根據(jù)具體情況,真空泵3分別對第一鍍膜室11,第二鍍膜室12、裝卸室13抽真空。在本實(shí)施例中,裝卸室13的真空泵采用機(jī)械泵31,第一鍍膜室11,第二鍍膜室12的真空泵采用分子泵32。

真空隔離閥組包括設(shè)于裝卸室13與第一鍍膜室11之間的第一隔離閥51,設(shè)于第二鍍膜室12與裝卸室13之間的第二隔離閥52。第一隔離閥51、第二隔離閥52關(guān)閉時(shí),第一鍍膜室11,第二鍍膜室12分別與裝卸室13真空隔絕。機(jī)體1設(shè)有用于控制真空隔離閥組的控制裝置,控制裝置位于環(huán)形腔體一側(cè),真空隔離閥可以單獨(dú)打開或關(guān)閉。

濺射靶4固定于機(jī)體1且位于第一鍍膜室11、第二鍍膜室12的一側(cè)。當(dāng)運(yùn)輸組件2將鍍膜件運(yùn)輸至第一鍍膜室11/第二鍍膜室12時(shí),第一鍍膜室11/第二鍍膜室12的濺射靶4對鍍膜件進(jìn)行鍍膜。第一鍍膜室11和第二鍍膜室12分別設(shè)有三個(gè)濺射靶4。

運(yùn)輸組件2包括固定于環(huán)形腔體底部的環(huán)形導(dǎo)軌21,滑動聯(lián)接于環(huán)形導(dǎo)軌21上的載物臺22,以及驅(qū)動裝置23,驅(qū)動裝置23驅(qū)動載物臺22沿環(huán)形導(dǎo)軌21滑動。驅(qū)動裝置23包括齒輪傳動組件,齒輪傳動組件設(shè)有輸出齒輪,載物臺22為扇形圓環(huán),其外周設(shè)有與輸出齒輪相嚙合的齒形結(jié)構(gòu)。齒輪傳動組件間隔式設(shè)置,載物臺22在軸向的弧線長度大于相鄰兩個(gè)齒輪傳動組件在軸向的弧線長度,以使得所述載物臺22至少與一組齒輪傳動組件傳動聯(lián)接,從而保證載物臺22能在任何位置都能獲得動力輸入。優(yōu)選的,本實(shí)施例中,扇形圓環(huán)的數(shù)量為6個(gè),齒輪傳動組件的組數(shù)為10組。

裝卸室13的設(shè)有裝載門6,裝載門6關(guān)閉時(shí),裝卸室13與外界密封隔離。裝卸室13破真空后,工人打開裝載門就能將鍍膜件轉(zhuǎn)載到載物臺22上,其上部設(shè)有與充氣組件連通的充氣閥131,充氣組件充氣完成后,裝卸室的氣壓與外界大氣壓接近。

在其他實(shí)施例中,第一鍍膜室,第二鍍膜室,裝卸室之間設(shè)有其他工藝的腔室,其他腔室的設(shè)置與具體情況而定,比如鍍膜前加熱烘烤、清洗等,真空泵的數(shù)量也可以進(jìn)行相應(yīng)的調(diào)整。

在其他實(shí)施中,載物臺可以設(shè)置為一圓環(huán)的齒輪,腔體內(nèi)設(shè)置有與齒輪嚙合的動力組件,通過動力組件驅(qū)動載物臺轉(zhuǎn)動。

如圖3、圖4所示,一種鍍膜方法,包括以下步驟:

s1.裝載第一個(gè)鍍膜件至裝卸室的運(yùn)輸組件上,且第一隔離閥、第二隔離閥打開;

s2.真空泵對環(huán)形腔體抽真空,以使得第一鍍膜室、第二鍍膜室、裝卸室處于真空狀態(tài);

s3.運(yùn)輸組件將第一個(gè)鍍膜件運(yùn)輸至第一鍍膜室后,第一隔離閥、第二隔離閥關(guān)閉;

s4.第一鍍膜室的濺射靶對第一鍍膜件進(jìn)行鍍膜,且充氣閥對裝卸室充氣;

s5.裝載第二個(gè)鍍膜件至裝卸室的運(yùn)輸組件上;

s6.真空泵對裝卸室抽真空后,第一隔離閥、第二隔離閥打開;

s7.運(yùn)輸組件分別將第二個(gè)鍍膜件、第一鍍膜件同步運(yùn)輸至第一鍍膜室、第二鍍膜室后,第一鍍膜室、第二鍍膜室的濺射靶分別對第二個(gè)鍍膜件、第一個(gè)鍍膜件進(jìn)行鍍膜;

s8.充氣閥對裝卸室充氣;

s9.裝載第三個(gè)鍍膜件至裝卸室的運(yùn)輸組件上;

s10.真空泵對裝卸室抽真空后,第一隔離閥、第二隔離閥打開;

s11.運(yùn)輸組件分別將第三個(gè)鍍膜件、第二個(gè)鍍膜件、第一個(gè)鍍膜件同步運(yùn)輸至第一鍍膜室、第二鍍膜室、裝卸室后,第一鍍膜室的濺射靶對第三個(gè)鍍膜件進(jìn)行鍍膜,且第二鍍膜室的濺射靶對第二個(gè)鍍膜件進(jìn)行鍍膜;

s12.充氣閥對裝卸室充氣后,將第一個(gè)鍍膜件從裝卸室的運(yùn)輸組件上卸載。

具體操作時(shí),第一鍍膜室、第二鍍膜室、裝卸室全部處于真空狀態(tài),第一隔離閥、第二隔離閥關(guān)閉,裝卸室分別與第一鍍膜室、第二鍍膜室真空隔離,充氣組件將空氣充入到裝卸室,裝卸室充至大氣狀態(tài)時(shí),裝卸門打開,操作人員可以將需要鍍膜的第一組鍍膜件裝載至裝卸室的載物臺,裝卸門關(guān)閉,真空泵對裝卸室抽真空,第一隔離閥、第二隔離閥開啟,運(yùn)輸組件將鍍膜件從裝卸室運(yùn)輸至第一鍍膜室后,第一隔離閥、第二隔離閥關(guān)閉,裝卸室分別與第一鍍膜室、第二鍍膜室真空隔離,充氣組件將空氣充入到裝卸室,操作人員可以將下一組需要鍍膜的鍍膜件裝載至裝卸室的載物臺,真空泵再次對裝卸室抽真空,第一隔離閥、第二隔離閥開啟,運(yùn)輸組件將鍍膜件從裝卸室運(yùn)輸至第一鍍膜室,同時(shí),第一組鍍膜也被向第二鍍膜室方向運(yùn)輸,如此反復(fù)直至載物臺全部裝滿鍍膜件.鍍膜時(shí)第一鍍膜室、第二鍍膜室、裝卸室全部處于真空狀態(tài),第一隔離閥、第二隔離閥開啟,第一鍍膜室、第二鍍膜室、裝卸室連通成一個(gè)環(huán)形真空室,鍍膜件在運(yùn)輸組件上在真空室內(nèi)做圓周運(yùn)動,第一鍍膜室和第二鍍膜室的濺射靶對鍍膜件進(jìn)行鍍膜,鍍膜完成后,第一隔離閥、第二隔離閥關(guān)閉,裝卸室和第一鍍膜室、第二鍍膜室真空隔離,充氣組件將空氣充入到裝卸室,操作人員可以將已經(jīng)鍍膜完成鍍膜件從裝卸室的載物臺取出,此時(shí)裝卸室的載物臺為空,真空泵再次對裝卸室抽真空,第一隔離閥、第二隔離閥都處于打開狀態(tài),運(yùn)輸組件將鍍膜件從第二鍍膜室運(yùn)輸至裝卸室,同時(shí)。運(yùn)輸組件將空載物臺運(yùn)送至第一鍍膜室,如此反復(fù)可以將第一鍍膜室、第二鍍膜室保持真空狀態(tài)下降鍍膜件全部取出。

上述僅以實(shí)施例來進(jìn)一步說明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容,以便于讀者更容易理解,但不代表本發(fā)明的實(shí)施方式僅限于此,任何依本發(fā)明所做的技術(shù)延伸或再創(chuàng)造,均受本發(fā)明的保護(hù),本發(fā)明的保護(hù)范圍以權(quán)利要求書為準(zhǔn)。

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