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一種少層MoS2薄膜的制備方法與流程

文檔序號(hào):12817454閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種少層MoS2薄膜的制備方法,以MoO3粉末和S粉末為前驅(qū)體,雙溫區(qū)管式爐為設(shè)備,具體步驟如下:(1)MoO3薄膜的沉積:將MoO3粉末置于石英舟一端,基底倒扣并置于石英舟另一端,通入惰性氣體,對(duì)MoO3進(jìn)行加熱,在基底上得到MoO3薄膜;(2)將步驟(1)制備的MoO3薄膜和S粉末分別放于雙溫區(qū)管式爐的兩個(gè)溫區(qū),通入惰性氣體,加熱MoO3薄膜和S粉末,完成MoO3薄膜的硫化,制備得到MoS2薄膜。本發(fā)明制備得到的MoS2呈現(xiàn)出三角形形狀,每個(gè)三角形形狀MoS2為單晶,由多個(gè)三角形相互連接起來能夠形成MoS2薄膜,具有少層結(jié)構(gòu)的MoS2薄膜面積大概為0.7cm×1cm。

技術(shù)研發(fā)人員:許婷婷;劉云云
受保護(hù)的技術(shù)使用者:鄭州大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日:2017.04.27
技術(shù)公布日:2017.07.07
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