本發(fā)明涉及鍍膜領(lǐng)域，具體來說，是一種帶材真空等離子體鍍膜系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有的技術(shù)對連續(xù)帶狀或板狀金屬產(chǎn)品進(jìn)行鍍膜加工的真空等離子體鍍膜設(shè)備，技術(shù)落后，能耗高，膜厚不均勻，產(chǎn)量低等缺點(diǎn)，加工該類產(chǎn)品的設(shè)備一般包括周期式真空等離子體鍍膜設(shè)備和連續(xù)式真空等離子體鍍膜設(shè)備兩種:

一、為周期式真空等離子體鍍膜設(shè)備，源于其生產(chǎn)加工產(chǎn)品的方式是以少量單次裝料的方式生產(chǎn)作為一生產(chǎn)周期，產(chǎn)品放置量比較少，尺寸較小，重量較輕，總結(jié)所得該種設(shè)備普遍存在以下缺點(diǎn)：1、生產(chǎn)效率低，每生產(chǎn)一爐次就要重新升溫和抽真空，生產(chǎn)周期比較長，產(chǎn)出少。2、能耗高，每生產(chǎn)一爐次都要重新升溫和抽真空，消耗大量的電能；同時氣體消耗量較高，每生產(chǎn)一爐次都要打開爐門把多余的工藝氣體放掉，然后再充入新的工藝氣體補(bǔ)充爐腔。3、工裝夾具復(fù)雜，要使?fàn)t內(nèi)的產(chǎn)品(如帶狀或平板狀)在旋轉(zhuǎn)的過程中保持平穩(wěn)和不碰到腔體內(nèi)壁，要設(shè)計(jì)復(fù)雜的工裝夾具來固定它。4、生產(chǎn)每一板狀(例如不銹鋼板)或帶狀(例如不銹鋼帶)產(chǎn)品利用率低，由于工裝夾具的關(guān)系，如帶狀產(chǎn)品或板狀產(chǎn)品總是要有和工裝連接的地方，而這些地方往往被擋住或有工藝連接孔，以至鍍膜沒有鍍到或者有工藝連接孔的地方就要必須去掉，造成了浪費(fèi)。5、靶材利用率低，由于工裝夾具較多，所以每次鍍膜會把工裝夾具給鍍上，消耗了不必要的靶材。6、再加工利用率低，產(chǎn)品再加工范圍窄，因?yàn)槿缙桨鍫町a(chǎn)品長度有限，寬度也比較窄，不能加工成形大件的產(chǎn)品，只能用于小件的加工成形。

二、為連續(xù)式真空等離子體鍍膜設(shè)備，就是在同一密封真空腔內(nèi)完成放卷、鍍膜和收卷連續(xù)加工工序的設(shè)備，鍍膜的工藝段和傳動的轉(zhuǎn)動動力段設(shè)計(jì)在同一個聯(lián)通的真空腔，為了減少真空腔的體積，往往要把中間鍍膜的部分的真空腔體盡量縮小，因而導(dǎo)致氣體流速和均勻性收到很大的影響，導(dǎo)致了加工時的鍍膜速度不高，顏色不均勻，同時一般工藝段為長方形，在抽真空的情況下，受大氣壓得擠壓，容易受力比較大，易變形，制作難度和用料成本比較大，難于大范圍推廣使用，不能擴(kuò)展其他功能，設(shè)備投入成本高，利用率低，產(chǎn)量低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種解決現(xiàn)有的周期式和連續(xù)式真空等離子體鍍膜設(shè)備所存在的對金屬帶材進(jìn)行鍍膜裝爐量少，并不能用于快速高效沉積均勻膜層，設(shè)備擴(kuò)展的功能較少，設(shè)備投入高，利用率低且能耗高等問題，提供一種主要用于帶材的真空等離子體鍍膜系統(tǒng)。

為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)中生產(chǎn)效率低，能耗高，工裝夾具復(fù)雜，產(chǎn)品利用率低，靶材利用率低，再加工利用率低和鍍膜速度不高，顏色不均勻，容易受力比較大，易變形，制作難度和用料成本比較大的缺陷本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：

一種帶材真空等離子體鍍膜系統(tǒng)，包括真空獲得系統(tǒng)、若干真空連接管道和若干圓形結(jié)構(gòu)或橢圓形結(jié)構(gòu)的連續(xù)式鍍膜室，真空獲得系統(tǒng)通過真空連接管道與連續(xù)式鍍膜室連接；所述連續(xù)式鍍膜室包括放卷裝置、收卷裝置、發(fā)熱管機(jī)構(gòu)、進(jìn)出氣混氣裝置和設(shè)置在陰極靶上的過濾陰極靶發(fā)生裝置，放卷裝置、收卷裝置和發(fā)熱管機(jī)構(gòu)位于連續(xù)式鍍膜室內(nèi)部，進(jìn)出氣混氣裝置和過濾陰極靶發(fā)生裝置位于連續(xù)式鍍膜室側(cè)壁上；所述真空連接管道上設(shè)有第一閥門和第二閥門，第一閥門位于真空獲得系統(tǒng)出口處，第二閥門位于真空連接管道與連續(xù)式鍍膜室連接處的上方。

進(jìn)一步地，所述真空連接管道上還設(shè)有可調(diào)式百葉窗和固定百葉窗的連接真空管道，可調(diào)式百葉窗上設(shè)有調(diào)節(jié)電機(jī)，調(diào)節(jié)電機(jī)與可調(diào)式百葉窗連接；固定百葉窗的連接真空管道位于真空連接管道的閥門旁。在真空鍍膜室真空管道連接處設(shè)置了可調(diào)的百葉窗，可以調(diào)節(jié)真空鍍膜室的真空度，采用調(diào)節(jié)電機(jī)進(jìn)行調(diào)節(jié)百葉窗的開合角度，從而穩(wěn)定真空室內(nèi)的真空度，穩(wěn)定鍍膜的膜層。

進(jìn)一步地，所述進(jìn)出氣混氣裝置包括球狀密封外殼，位于球狀密封外殼上的連接工藝氣體混合的進(jìn)氣管、球狀分氣球一、球狀分氣球二和混合氣出氣管。采用球形混氣罐進(jìn)行混氣，然后通入到真空腔體，保證氣體的均勻性，保證膜層的成分均勻性。

進(jìn)一步地，所述過濾陰極靶發(fā)生裝置包括通過變壓器輸入的直流電源、水冷式靶座和連接法蘭，直流電源位于水冷式靶座外其上設(shè)有線圈；水冷式靶座與連接法蘭連接，連接處設(shè)有靶軸真空密封圈。

進(jìn)一步地，所述水冷式靶座上設(shè)有水冷套、固定板、圓錐形尖端點(diǎn)火電極和陰極靶材；水冷套與外部冷卻水管道連接，固定板位于端部且圓錐形尖端點(diǎn)火電極位于其上，陰極靶材位于兩個圓錐形尖端點(diǎn)火電極的中間。采用電磁場過濾系統(tǒng)，尖端接近放電的方法，保證陰極靶充分連續(xù)使用而不斷弧，靶材利用率高，過濾后，涂層顆粒小，均勻，膜層結(jié)合力強(qiáng)。

進(jìn)一步地，所述放卷裝置和收卷裝置上都設(shè)有漲縮頭、連接器、水冷式磁流體密封器、減速器、動力電機(jī)，漲縮頭、連接器、減速器、動力電機(jī)依次連接，水冷式磁流體密封器位于連接器后端。通過電氣控制控制帶材的張緊，水冷式磁流體密封器即用于大氣與真空室的隔離，使動力順利的輸入到收放卷裝置的漲縮頭上面而不至漏氣。

進(jìn)一步地，所述發(fā)熱管機(jī)構(gòu)包括若干預(yù)熱發(fā)熱管和若干保溫發(fā)熱管，預(yù)熱發(fā)熱管位于放卷裝置和收卷裝置上方。設(shè)置預(yù)熱發(fā)熱管和保溫用的保溫發(fā)熱管，用于帶材的預(yù)熱和保溫，提高膜層的結(jié)合力。

進(jìn)一步地，所述連續(xù)式鍍膜室還包括滾軸支撐架和若干導(dǎo)帶輥，滾軸支撐架位于放卷裝置和收卷裝置下方，保溫發(fā)熱管位于導(dǎo)帶輥之間，導(dǎo)帶輥為偏壓電源輸入導(dǎo)帶輥。導(dǎo)帶輥主要為控制帶材與陰極靶的距離和使帶材順利的從放卷裝置運(yùn)行到收卷裝置上，而偏壓電源輸入導(dǎo)帶輥既有導(dǎo)帶的功能又能使偏壓電壓的偏壓通過其加載到帶材上面，加速膜層的沉積速率和提高膜層的結(jié)合力。

進(jìn)一步地，所述連續(xù)式鍍膜室還包括真空室爐門和真空規(guī)管，真空室爐門通過爐門鉸鏈與連續(xù)式鍍膜室連接，真空室爐門上設(shè)有觀察窗，觀察窗可以觀察爐內(nèi)的工作情況，方便隨時調(diào)整設(shè)備的工況；真空規(guī)管位于連續(xù)式鍍膜室的側(cè)壁上，真空規(guī)管用于測量真空室的真空度和控制調(diào)節(jié)質(zhì)量流量計(jì)。

進(jìn)一步地，所述放卷裝置和收卷裝置采用恒張力控制輸出，plc集成控制，其數(shù)據(jù)顯示在控制屏上，使帶材在收放卷前后的整齊劃一。

本發(fā)明具有如下突出的有益效果：

1、本發(fā)明采用圓形的真空室結(jié)構(gòu)，結(jié)構(gòu)簡單，制作方便，同時真空所承受的大氣壓力受力均勻，強(qiáng)度高，圓形結(jié)構(gòu)，并把陰極靶放置于帶材的平面下面，可防止在離子濺射過程中所產(chǎn)生的較大顆?；驔]有沉積在帶材表面的金屬粉塵掉落在帶材的涂層面上，以保證產(chǎn)品的高質(zhì)量，同時圓形的機(jī)構(gòu)爐內(nèi)氣氛均勻，可以得到均勻的一致的膜層。

2、本發(fā)明利用獨(dú)立的可調(diào)式百葉窗，穩(wěn)定了真空度，使膜層均勻單一。

3、本發(fā)明采用導(dǎo)帶輥和偏壓輸入導(dǎo)帶輥的形式，既可以順利加載偏壓電源于工件，又能順利導(dǎo)帶，使帶材連續(xù)高效運(yùn)行并不走偏。

4、本發(fā)明采用預(yù)熱和保溫式的加熱管，使產(chǎn)品在鍍膜時能快速預(yù)熱和保溫，增加膜層的結(jié)合力。

5、本發(fā)明在一個真空鍍膜室里同時具有收、放卷裝置，同時該裝置采用漲縮頭、連接裝置、水冷式磁流體密封裝置、減速機(jī)、動力電機(jī)組成，使動力順利的輸入到收放卷裝置的漲縮頭上面而不至漏氣，保證了真空室的真空度，使鍍膜連續(xù)順利進(jìn)行。

6、本發(fā)明利用每個室連續(xù)式帶材鍍膜恒張力的設(shè)計(jì)應(yīng)用及張力控制系統(tǒng)的使用，使帶材在鍍膜前和鍍膜后都是整齊的一卷帶材，可防止卷材松散和參差不齊，防止帶材在吊裝和運(yùn)輸過程中進(jìn)行損壞。在控制系統(tǒng)內(nèi)的放卷位置設(shè)置的模擬卷徑大小結(jié)構(gòu)，能準(zhǔn)確模擬計(jì)算出帶材是否已經(jīng)走到該重新更換鋼帶卷的時候，該系統(tǒng)設(shè)計(jì)控制安裝簡單，使用方便，信息反饋及時，提高自動化程度。本發(fā)明每個真空鍍膜室爐門靠近收、放卷裝置的兩端的觀察孔設(shè)計(jì)，能作為帶材走偏和觀察鍍膜工藝過程中變化的視窗口，使人員進(jìn)行及時調(diào)整工藝和調(diào)節(jié)收放卷的恒張力系統(tǒng)。

7、本發(fā)明在真空室的進(jìn)氣管道前采用球形混器罐進(jìn)行混氣，然后通入到真空腔體，保證氣體的均勻性，保證膜層的成分均勻性。

8、本發(fā)明在真空室的陰極靶采用電磁場過濾系統(tǒng)，尖端接近放電的方法，保證陰極靶充分連續(xù)使用而不斷弧，靶材利用率高，過濾后，涂層顆粒小，均勻，膜層結(jié)合力強(qiáng)。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖：

圖1是本發(fā)明一種帶材真空等離子體鍍膜系統(tǒng)實(shí)施例示意圖；

圖2為圖1帶材真空等離子體鍍膜系統(tǒng)的俯視示意圖；

圖3為帶材真空等離子體鍍膜系統(tǒng)主體的進(jìn)出氣混氣裝置示意圖；

圖4為帶材真空等離子體鍍膜系統(tǒng)主體的過濾陰極靶發(fā)生裝置示意圖；

圖5為帶材真空等離子體鍍膜系統(tǒng)的另一種實(shí)施例示意圖；

附圖中：1-連續(xù)式鍍膜室；2-真空連接管道；3-真空獲得系統(tǒng)；11-放卷裝置；12-收卷裝置；13-發(fā)熱管機(jī)構(gòu)；14-進(jìn)出氣混氣裝置；15-陰極靶；16-過濾陰極靶發(fā)生裝置；17-滾軸支撐架；18-導(dǎo)帶輥；19-真空室爐門；20-真空規(guī)管；111-漲縮頭；112-連接器；113-水冷式磁流體密封器；114-減速器；115-動力電機(jī)；131-預(yù)熱發(fā)熱管；132-保溫發(fā)熱管；141-球狀密封外殼；142-進(jìn)氣管；143-球狀分氣球一；144-球狀分氣球二；145-混合氣出氣管；161-直流電源；162-水冷式靶座；163-連接法蘭；164-線圈；165-水冷套；166-固定板；167-圓錐形尖端點(diǎn)火電極；168-陰極靶材；191-觀察窗；21-第一閥門；22-第二閥門；23-可調(diào)式百葉窗；24-連接真空管道；25-調(diào)節(jié)電機(jī)。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合附圖以及具體實(shí)施例來詳細(xì)說明本發(fā)明，在此以本發(fā)明的示意性實(shí)施例及說明用來解釋本發(fā)明，但并不作為對本發(fā)明的限定。

實(shí)施例1：

如圖1至圖4所示，一種帶材真空等離子體鍍膜系統(tǒng)，包括真空獲得系統(tǒng)3、真空連接管道2和圓形結(jié)構(gòu)或橢圓形結(jié)構(gòu)的連續(xù)式鍍膜室1，真空獲得系統(tǒng)3通過真空連接管道2與連續(xù)式鍍膜室1連接，真空獲得系統(tǒng)3是常規(guī)的抽真空裝置；連續(xù)式鍍膜室1包括放卷裝置11、收卷裝置12、發(fā)熱管機(jī)構(gòu)13、進(jìn)出氣混氣裝置14和設(shè)置在陰極靶15上的過濾陰極靶發(fā)生裝置16，放卷裝置11、收卷裝置12和發(fā)熱管機(jī)構(gòu)13位于連續(xù)式鍍膜室1內(nèi)部，進(jìn)出氣混氣裝置14和過濾陰極靶發(fā)生裝置15位于連續(xù)式鍍膜室1側(cè)壁上，進(jìn)出氣混氣裝置14包括球狀密封外殼141，位于球狀密封外殼141上的連接工藝氣體混合的進(jìn)氣管142、球狀分氣球一143、球狀分氣球二144和混合氣出氣管145，混合氣出氣管145用于連接進(jìn)氣管道142的工藝氣體入氣混合。

真空連接管道2上設(shè)有第一閥門21和第二閥門22，第一閥門21位于真空獲得系統(tǒng)3出口處，第二閥門22位于真空連接管道2與連續(xù)式鍍膜室1連接處的上方，真空連接管道2上還設(shè)有可調(diào)式百葉窗23和固定百葉窗的連接真空管道24，可調(diào)式百葉窗上23設(shè)有調(diào)節(jié)電機(jī)25，調(diào)節(jié)電機(jī)25與可調(diào)式百葉窗23連接；固定百葉窗的連接真空管道24位于真空連接管道2的閥門旁。

過濾陰極靶發(fā)生裝置16包括通過變壓器輸入的直流電源161、水冷式靶座162和連接法蘭163，直流電源161位于水冷式靶座162外其上設(shè)有線圈164；水冷式靶座162與連接法蘭163連接，連接處設(shè)有靶軸真空密封圈用于連接處的密封。水冷式靶座162上設(shè)有水冷套165、固定板166、圓錐形尖端點(diǎn)火電極167和陰極靶材168；水冷套165位于水冷式靶座162側(cè)壁上并與外部冷卻管道連接，固定板166位于端部且圓錐形尖端點(diǎn)火電極167位于其上，陰極靶材168位于圓錐形尖端點(diǎn)火電極167的中間。

放卷裝置11和收卷裝置12上都設(shè)有漲縮頭111、連接器112、水冷式磁流體密封器113、減速器114、動力電機(jī)115，漲縮頭111、連接器112、減速器114、動力電機(jī)115依次連接，水冷式磁流體密封器113位于連接器112后端。

發(fā)熱管機(jī)構(gòu)13包括若干預(yù)熱發(fā)熱管131和若干保溫發(fā)熱管132，預(yù)熱發(fā)熱管131位于放卷裝置11和收卷裝置12上方。

連續(xù)式鍍膜室1還包括滾軸支撐架17和若干導(dǎo)帶輥18，滾軸支撐架17位于放卷裝置11和收卷裝置12下方，保溫發(fā)熱管132位于導(dǎo)帶輥18之間，導(dǎo)帶輥18為偏壓電源輸入導(dǎo)帶輥18。

連續(xù)式鍍膜室1還包括真空室爐門19和真空規(guī)管20，真空室爐門19通過爐門鉸鏈與連續(xù)式鍍膜室1連接，真空室爐門19上設(shè)有觀察窗191，真空規(guī)管20位于連續(xù)式鍍膜室1的側(cè)壁上。

放卷裝置11和收卷裝置12采用恒張力控制輸出，plc集成控制，其數(shù)據(jù)顯示在控制屏上。

工作時，用叉車或者帶吊鉤的吊車或送料小車把它放到每個真空鍍膜室1的放卷裝置11上面，牽引引帶放到收卷裝置12上面，張緊，關(guān)上真空室爐門19，打開需要鍍膜的第一閥門21，打開真空獲得系統(tǒng)3，抽真空，當(dāng)真空度到達(dá)本底真空度后，通入工藝氣體，達(dá)到鍍膜時的真空度，啟動偏壓電源，再啟動陰極靶的弧電源，調(diào)節(jié)電流，調(diào)節(jié)氣體流量，調(diào)整真空度，啟動收放卷裝置12，運(yùn)行帶材，調(diào)節(jié)恒張力，開始鍍膜。當(dāng)運(yùn)行到達(dá)設(shè)定的卷徑后，停止收卷裝置12和放卷裝置11的動力電機(jī)115，停止收放卷，關(guān)閉陰極靶的弧電源，關(guān)閉偏壓電源，關(guān)閉氣體流量計(jì)，關(guān)閉工藝氣體，關(guān)閉第一閥門21，打開真空室爐門19，取走在收卷裝置12的已經(jīng)完成鍍膜的帶材，真空鍍膜室鍍膜完成。

連續(xù)式真空鍍膜室1的進(jìn)出氣混氣裝置14，采用多路進(jìn)氣到一個帶孔的球狀容器里，通過氣體的碰撞，相互混合，經(jīng)過多個帶孔的球狀容器相互混合，達(dá)到氣體按比例充分均勻，然后通入到連續(xù)式真空鍍膜室1里面，再參加反應(yīng)和鍍膜，使工件每處的膜層成分均勻。

連續(xù)真空鍍膜室1的過濾陰極靶發(fā)生裝置16是采用尖端弧光放電的原理，靶陰極靶材163表面點(diǎn)燃并表面汽化，陰極靶15表面的弧電源即通過通入電流維持陰極靶的連續(xù)工作，同時在已經(jīng)四周設(shè)置線圈164，線圈164通入經(jīng)過變壓的電流，形成電磁場，使陰極靶15表面汽化的形成的等離子體經(jīng)過所形成的電磁場進(jìn)行過濾大液滴，小液滴即噴射出去，鍍到帶材或工件上面，形成膜層，水冷管與水冷套主要目的是為了降溫，是線圈164和密封圈的溫度降到最低，提高了其使用壽命。

實(shí)施例2：

如圖3至圖5所示，如實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)，一個真空獲得系統(tǒng)3通過真空連接管道2與兩個連續(xù)式真空鍍膜室1連接。真空連接管道2上分流到連續(xù)式真空鍍膜室1部分的部件分為a和b，連續(xù)式真空鍍膜室1分為真空鍍膜室一和真空鍍膜室二。

真空鍍膜室一鍍膜完成后，關(guān)上真空鍍膜室二的真空室爐門，關(guān)閉第一閥門，打開第二閥門b，使真空鍍膜室二的氣體流入到真空鍍膜室一里，當(dāng)真空度達(dá)到平衡后，關(guān)閉第二閥門a后，打開第一閥門，對真空鍍膜室二進(jìn)行抽真空，同時打開真空鍍膜室一的真空室爐門19，裝卸帶材，當(dāng)真空鍍膜室二到達(dá)本底真空后，通入工藝氣體，達(dá)到鍍膜時的真空度，啟動偏壓電源，再啟動陰極靶的弧電源，調(diào)節(jié)電流，調(diào)節(jié)氣體流量，調(diào)整真空度，啟動收放卷裝置，運(yùn)行帶材，調(diào)節(jié)恒張力，開始鍍膜。當(dāng)運(yùn)行到達(dá)設(shè)定的卷徑后，停止收卷裝置11和放卷裝置12的動力電機(jī)115，停止收放卷，關(guān)閉陰極靶15的弧電源，關(guān)閉偏壓電源，關(guān)閉氣體流量計(jì)，關(guān)閉工藝氣體，真空鍍膜室鍍膜完成，關(guān)閉第一閥門，關(guān)上真空鍍膜室二的真空室爐門，打開第二閥門a，使真空鍍膜室一的氣體流入到真空鍍膜室二里面，當(dāng)真空度達(dá)到平衡后，關(guān)閉第二閥門b，打開真空鍍膜室三的爐門，取走在收卷裝置的已經(jīng)完成鍍膜的帶材，同時打開第一閥門對真空鍍膜室一進(jìn)行抽真空。真空鍍膜室一和真空鍍膜室二之間如上述相互交替運(yùn)行，共用一套真空獲得系統(tǒng)，此原理也可以應(yīng)用在多個真空鍍膜室上，節(jié)約了裝卸料所產(chǎn)生的時間，真空管道的交替放氣互通，減少了抽真空時間，而且真空獲得系統(tǒng)無需關(guān)閉，且不需在裝卸料期間空運(yùn)行，節(jié)約了能耗，提高了效率。

對實(shí)施例更詳細(xì)地?cái)U(kuò)展，連續(xù)式鍍膜室可為臥式的橢圓形結(jié)構(gòu)或立式的圓形結(jié)構(gòu)或立式的橢圓形結(jié)構(gòu)或臥式的圓形結(jié)構(gòu)。

綜上所述本發(fā)明的效果：

1、連續(xù)帶材連續(xù)的鍍膜方式，提高了生產(chǎn)效率，縮短了工藝周期?？梢愿鶕?jù)國內(nèi)帶狀產(chǎn)品的使用量來加工，如鍍膜不銹鋼、鍍膜薄膜，加工鍍膜的顏色可以多變，色彩鮮艷，防腐耐磨，色澤均勻，使其的使用范圍更廣，更多樣化，更高端化。

2、兩個真空鍍膜室交替抽真空的方式、真空放氣互換的方式和一個真空鍍膜室在鍍膜，另一個在裝卸料的工作方式，減少了真空泵的預(yù)抽真空和真空泵空載運(yùn)行，提高了真空泵的使用效率，提高了生產(chǎn)效率，節(jié)約抽真空的時間，減少了熱量散失和熱量得到了有效利用，節(jié)能效果明顯。

3、連續(xù)式的生產(chǎn)方式，減少了真空獲得設(shè)備的頻繁開關(guān)，提高了真空獲得設(shè)備的使用壽命和使用效率。

4、提高了自動化的程度，降低了勞動強(qiáng)度。該系統(tǒng)采用plc和觸摸屏控制集成系統(tǒng)，各個動作都可以通過plc系統(tǒng)逐一發(fā)出指令，使各動作連續(xù)有序進(jìn)行。

5、通用性及實(shí)用性強(qiáng)，該設(shè)備可以處理不同寬度的帶材，擴(kuò)大了設(shè)備的實(shí)用應(yīng)用范圍，減少了設(shè)備的投入成本。

6、球狀的混氣裝置，使進(jìn)入爐內(nèi)的氣體按比例均勻混合，保證各處膜層成分的均一性。

7、新型過濾弧和點(diǎn)火方式，增加了靶材的利用率，過濾了大液滴，使工件表面光潔均勻，同時也增加了膜層的結(jié)合力。

8、連續(xù)鍍膜室的圓形結(jié)構(gòu)，增加了鍍膜室真空受力強(qiáng)度，降低了板材的厚度，節(jié)約了用料，降低了設(shè)備的制造成本，同時圓形的結(jié)構(gòu)可以很好的處理了工藝氣體的均勻性，減少了真空腔內(nèi)的滯留層和死角，也使提高了抽氣速度，提高了真空泵的抽氣效率，從而增加了工藝氣體流動性，使鍍出來的膜層更均勻，結(jié)合力更好。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。