本發(fā)明涉及蒸鍍技術領域，尤其涉及一種掩膜組件及其組裝方法。

背景技術：

目前，OLED(Organic Light Emitting Diode，有機發(fā)光二極管)顯示裝置由于具有自發(fā)光、反應快、亮度高、輕薄等諸多優(yōu)點，而得到越來越廣泛的應用。

其中，OLED在制作時常采用蒸鍍工藝、噴墨打印工藝等方式，而在制作小尺寸有機電致發(fā)光二極管顯示面板(OLED Panel)的過程中，蒸鍍工藝中所使用的蒸鍍掩膜板(Mask)起到尤其重要的作用。傳統(tǒng)的蒸鍍掩膜板分為開口掩膜板(Open Mask)和精細金屬掩膜板(Fine Metal Mask，簡稱FMM)，包含有開口掩膜板的掩膜組件制作時技術難度較低，而包含有FMM的掩膜組件制作時技術難度極大。包含有FMM的掩膜組件通常由框架(Frame)、支撐條(Howling)以及FMM等組成。

然而，傳統(tǒng)的支撐條由于厚度較大，因而支撐條在張網時需要較大的張網力，而較大的張網力容易使支撐條變形，例如使支撐條彎曲(Howling Bending)，這樣便很難保證支撐條具有良好的直線度，從而影響了支撐條的張網精度(支撐條在框架上的實際位置與預設位置的差距)，而張網精度的降低會導致支撐條的遮擋精度(支撐條的實際遮擋區(qū)域與預設遮擋區(qū)域差距)降低。

技術實現要素：

本發(fā)明的實施例提供一種掩膜組件及其組裝方法，相對現有技術，可提高第一支撐條的張網精度和遮擋精度。

為達到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術方案：

一方面，提供一種掩膜組件，包括：框架，所述框架具有中空區(qū)域；掩膜板，所述掩膜板跨設于所述框架的中空區(qū)域，且所述掩膜板的相對兩端固定在所述框架上；第一支撐條，用于支撐所述掩膜板；所述第一支撐條包括層疊設置的第一子支撐條和第二子支撐條，所述第一子支撐條和所述第二子支撐條跨設于所述框架的中空區(qū)域，且所述第一子支撐條的相對兩端和所述第二子支撐條的相對兩端均固定在所述框架上；其中，所述第一子支撐條在所述第二子支撐條上的正投影位于所述第二子支撐條內；所述第二子支撐條的厚度小于所述第一子支撐條的厚度。

優(yōu)選的，所述掩膜組件包括至少兩個第一支撐條；所述第一支撐條之間相互平行。

優(yōu)選的，所述掩膜組件還包括：固定在所述框架上的輔助件，所述輔助件具有標記圖案。

進一步優(yōu)選的，所述輔助件包括兩個輔助條，兩個所述輔助條分別設置在所述框架的相對兩邊，每個所述輔助條背離所述框架的一側的兩端設置有孔洞。

優(yōu)選的，所述第一子支撐條的寬度比所述第二子支撐條的寬度小300μm-500μm。

優(yōu)選的，所述掩膜板為精細金屬掩膜板，所述精細金屬掩膜板包括多個相互平行的掩膜條。

進一步優(yōu)選的，所述第一支撐條與所述掩膜條相互垂直。

優(yōu)選的，所述掩膜組件還包括第二支撐條；所述第二支撐條跨設于所述框架的中空區(qū)域，且所述第二支撐條的相對兩端固定在所述框架上；其中，所述第二支撐條與所述第一支撐條交叉設置。

進一步優(yōu)選的，所述第二支撐條包括疊層設置的第三子支撐條和第四子支撐條；其中，所述第三子支撐條在所述第四子支撐條上的正投影位于所述第四子支撐條內；所述第四子支撐條的厚度小于所述第三子支撐條的厚度。

優(yōu)選的，所述掩膜板為精細金屬掩膜板，所述精細金屬掩膜板包括多個相互平行的掩膜條，所述掩膜條與所述第二支撐條平行，所述第二支撐條設置在相鄰所述掩膜條之間的間隙位置處。

另一方面，提供一種掩膜組件的組裝方法，包括：將第一子支撐條跨設于框架的中空區(qū)域，并將所述第一子支撐條的相對兩端固定在所述框架上；將第二子支撐條設置在所述第一子支撐條上方，并將所述第二子支撐條的相對兩端固定在所述框架上，所述第一子支撐條在所述第二子支撐條上的正投影位于所述第二子支撐條內，所述第二子支撐條的厚度小于所述第一子支撐條的厚度；其中，所述第一子支撐條和所述第二子支撐條構成第一支撐條；將掩膜板跨設于所述框架的中空區(qū)域，并將所述掩膜板的相對兩端固定在所述框架上。

優(yōu)選的，在將第一子支撐條的相對兩端固定在框架上之后，將第二子支撐條的相對兩端固定在所述框架上之前，所述組裝方法還包括：將兩個輔助條分別設置在所述框架的相對兩邊，所述輔助條背離所述框架的一側的兩端設置有孔洞；將所述第二子支撐條的相對兩端固定在所述框架上，具體包括：根據所述孔洞確定所述第二子支撐條在所述框架上的固定位置，并固定所述第二子支撐條的相對兩端；將所述掩膜板的相對兩端固定在所述框架上，具體包括：根據所述孔洞確定所述掩膜板在所述框架上的固定位置，并固定所述掩膜板的相對兩端。

優(yōu)選的，在將第一子支撐條的相對兩端固定在框架上之前，所述組裝方法還包括：將第二支撐條跨設于所述框架的中空區(qū)域，并將所述第二支撐條的相對兩端固定在所述框架上。

進一步優(yōu)選的，在將第一子支撐條的相對兩端固定在框架上之前，所述組裝方法具體還包括：將第三子支撐條跨設于所述框架的中空區(qū)域，并將所述第三子支撐條的相對兩端固定在框架上；將第四子支撐條設置在所述第三子支撐條上方，并將所述第四子支撐條的相對兩端固定在所述框架上，所述第三子支撐條在所述第四子支撐條上的正投影位于所述第四子支撐條內，所述第四子支撐條的厚度小于所述第三支撐條的厚度；其中，所述第三子支撐條和所述第四子支撐條構成第二支撐條。

本發(fā)明實施例提供一種掩膜組件及其組裝方法，掩膜組件中的第一支撐條為雙層，第一支撐條包括層疊設置的第一子支撐條和第二子支撐條，由于第一子支撐條的厚度大于第二子支撐條的厚度，因而第一子支撐條與現有技術中支撐條的作用相同，可以用于起支撐掩膜板的作用。在此基礎上，由于第二子支撐條的厚度小于第一子支撐條的厚度，因而第二子支撐條在張網時所需的張網力較小，這樣便可以避免第二子支撐條變形，因而第二子支撐條具有較高的張網精度和遮擋精度。此外，第一子支撐條在第二子支撐條上的正投影位于第二子支撐條內，由于第二子支撐條具有較高的遮擋精度和張網精度，因而第一支撐條具有較高的張網精度和遮擋精度，因此相對于現有技術，本發(fā)明實施例提高了第一支撐條的張網精度和遮擋精度。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實施例提供的一種掩膜組件的結構示意圖一；

圖2(a)為圖1中AA′向剖視示意圖；

圖2(b)為圖1中BB′向剖視示意圖；

圖3(a)為本發(fā)明實施例提供的一種掩膜組件的結構示意圖二；

圖3(b)為本發(fā)明實施例提供的一種掩膜組件的結構示意圖三；

圖4為本發(fā)明實施例提供的一種掩膜組件的結構示意圖四；

圖5為本發(fā)明實施例提供的一種掩膜組件的結構示意圖五；

圖6為本發(fā)明實施例提供的一種掩膜組件的結構示意圖六；

圖7為本發(fā)明實施例提供的一種掩膜組件的組裝方法的結構示意圖；

圖8為本發(fā)明實施例提供的一種在框架上固定第一子支撐條的結構示意圖；

圖9為本發(fā)明實施例提供的一種在框架上固定第一子支撐條和第二子支撐條的結構示意圖；

圖10為本發(fā)明實施例提供的一種在框架上固定輔助條的結構示意圖；

圖11本發(fā)明實施例提供的一種在框架上固定第二支撐條的結構示意圖；

圖12本發(fā)明實施例提供的一種在框架上固定第三子支撐條和第四子支撐條的結構示意圖。

附圖標記：

10-框架；20-掩膜板；201-掩膜條；30-第一支撐條；301-第一子支撐條；302-第二子支撐條；40-輔助件；401-標記圖案(孔洞)；402-輔助條；50-第二支撐條；501-第三子支撐條；502-第四子支撐條。

具體實施方式

下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

現有技術中常利用掩膜組件在待蒸鍍基板上形成圖案，為了確保待蒸鍍基板上有效區(qū)域(當待蒸鍍基板為顯示基板時，有效區(qū)域例如可以是顯示區(qū)域)形成的圖案準確、均勻，因而一般還會在有效區(qū)域的周圍也形成圖案，該部分圖案所在的區(qū)域稱為Dummy(虛擬)區(qū)域。為了能夠在待蒸鍍基板的有效區(qū)域和Dummy區(qū)域均形成圖案，因而掩膜組件的掩膜板的有效區(qū)域(與待蒸鍍基板的有效區(qū)域對應的區(qū)域)和Dummy區(qū)域(與待蒸鍍基板的Dummy區(qū)域對應的區(qū)域)均設置有圖案。而掩膜組件在制作過程中，需要支撐條對掩膜板進行支撐，以防止掩膜板下垂后，利用該掩膜組件形成的圖案不精確。支撐條對掩膜板支撐時，會與掩膜板有重疊區(qū)域，可對掩膜板進行遮擋?，F有技術中，為了避免支撐條影響Dummy區(qū)域，因而支撐條與掩膜板的相對設置位置以及支撐條在掩膜板上的遮擋區(qū)域都是預先設置的，這樣在制作掩膜組件時，可以根據預先設置的位置固定掩膜板和支撐條。然而，由于傳統(tǒng)的支撐條厚度較大，在張網時易發(fā)生變形，因而會影響支撐條的張網精度和遮擋精度。

基于此，本發(fā)明實施例提供一種掩膜組件，如圖1-圖6所示，包括:框架10，框架10具有中空區(qū)域；掩膜板20，掩膜板20跨設于框架10的中空區(qū)域，且掩膜板20的相對兩端固定在框架10上；第一支撐條30，用于支撐掩膜板20；第一支撐條30包括層疊設置的第一子支撐條301和第二子支撐條302，第一子支撐條301和第二子支撐條302跨設于框架10的中空區(qū)域，且第一子支撐條301的相對兩端和第二子支撐條302的相對兩端均固定在框架10上；其中，如圖2(a)和圖2(b)所示(附圖2(a)和附圖2(b)分別是圖1中AA′向和BB′向的剖視示意圖)，第一子支撐條301在第二子支撐條302上的正投影位于第二子支撐條302內；第二子支撐條302的厚度小于第一子支撐條301的厚度。

需要說明的是，第一，對于框架10中空區(qū)域的形狀不進行限定，例如可以是矩形，也可以是圓形，中空區(qū)域的形狀可以根據需要進行設置。

第二，對于掩膜板20的類型不進行限定，掩膜板20可以是如圖3(b)所示為精細金屬掩膜板，也可以是如圖3(a)所示為開口掩膜板。當掩膜板20為精細金屬掩膜板時，精細金屬掩膜板可以包括多個掩膜條201。

第三，第一子支撐條301在第二子支撐條302上的正投影位于第二子支撐條302內，但對于第一子支撐條301的寬度與第二子支撐條302的寬度的差值不進行限定，應以第一子支撐條301能夠支撐掩膜板20，且第一子支撐條301在張網固定到框架10上的過程，即使第一子支撐條301變形，變形后的第一子支撐條301在第二子支撐條302上的正投影也應在第二子支撐條302內。

本領域技術人員應該明白，支撐條的厚度越小，支撐條在張網時所需要使用的張網力越小，而張網力越小，支撐條越不容易變形。本發(fā)明實施例中，由于第二子支撐條302的厚度小于第一子支撐條301的厚度，因而相對于第一子支撐條301，第二子支撐條302不易變形。為了防止第二子支撐條302變形，本發(fā)明實施例優(yōu)選，在第二子支撐條302能夠起到遮擋的條件下，第二子支撐條302的厚度應盡可能地薄。

在此基礎上，對于第一支撐條30的個數應根據需要進行設置，第一支撐條30的個數越多，掩膜板20的下垂量越小，此處設置的第一支撐條30應不影響掩膜組件的正常蒸鍍。

第四，掩膜板20和第一支撐條30可以通過焊接的方式固定在框架10上。

本發(fā)明實施例提供一種掩膜組件，掩膜組件中的第一支撐條30為雙層，第一支撐條30包括層疊設置的第一子支撐條301和第二子支撐條302，由于第一子支撐條301的厚度大于第二子支撐條302的厚度，因而第一子支撐條301與現有技術中支撐條的作用相同，可以用于起支撐掩膜板20的作用。在此基礎上，第一支撐條30還包括第二子支撐條302，由于第二子支撐條302的厚度小于第一子支撐條301的厚度，因而第二子支撐條302在張網時所需的張網力較小，這樣便可以避免第二子支撐條302變形，因而第二子支撐條302具有較高的張網精度和遮擋精度。此外，第一子支撐條301在第二子支撐條302上的正投影位于第二子支撐條302內，由于第二子支撐條302具有較高的遮擋精度和張網精度，因而第一支撐條30具有較高的張網精度和遮擋精度，因此相對于現有技術，本發(fā)明實施例提高了第一支撐條30的張網精度和遮擋精度。

由于第一支撐條30的個數越多，掩膜板20的下垂量越少，因而本發(fā)明實施例優(yōu)選的，如圖1以及圖3(a)-圖6所示，掩膜組件包括至少兩個第一支撐條30；第一支撐條30之間相互平行。

其中，掩膜組件可以包括兩個第一支撐條30，也可以包括三個或三個以上第一支撐條30。

本發(fā)明實施例的掩膜組件包括至少兩個第一支撐條30，因而相對于僅設置一個第一支撐條30，本發(fā)明實施例利用多個第一支撐條30對掩膜板20進行支撐，因此可以有效防止掩膜板20下垂。

由于第一支撐條30和掩膜板20在框架10上都有預設位置，為了確保掩膜組件在制作過程中，第一支撐條30和掩膜板20都能準確地固定到其對應的預設位置，因而本發(fā)明實施例優(yōu)選的，如圖3(a)-圖6所示，掩膜組件還包括：固定在框架10上的輔助件40，輔助件40具有標記圖案401(Align)。

其中，對于輔助件40和輔助件40上標記圖案401的形狀、設置位置以及標記圖案401的個數均不進行限定，以能將第一支撐條30和掩膜板20準確地固定到其對應的預設位置為準。

本發(fā)明實施例，由于掩膜組件還包括輔助件40，輔助件40上設置有標記圖案401，因而掩膜板20以及第二子支撐條302均可以根據該標記圖案401建立的坐標系進行張網，確定掩膜板20以及第二子支撐條302在框架10上的固定位置，并將掩膜板20和第二子支撐條302固定在框架10上。在此基礎上，由于掩膜板20和第二子支撐條302是根據同一標記圖案確定掩膜板20和第二子支撐條302在框架10上的固定位置并固定的，因而可以提高第二子支撐條302和掩膜板20的匹配精度，進而可以最大程度地保證第二子支撐條302的遮擋精度。

進一步優(yōu)選的，如圖3(a)-圖6所示，輔助件40包括兩個輔助條402，兩個輔助條402分別設置在框架10的相對兩邊，每個輔助條402背離框架10的一側的兩端設置有孔洞(Align hole)401。

其中，輔助條402背離框架10的一側的兩端設置有空洞401，該空洞401相當于標記圖案。

此處，對于第一支撐條30與輔助條402的設置位置關系不進行限定，輔助條402可以和第一支撐條30垂直，輔助條402也可以和第一支撐條30平行。本發(fā)明實施例優(yōu)選，第一支撐條30與輔助條402垂直。

本發(fā)明實施例，輔助件40包括兩個輔助條402，每個輔助條402背離框架10的一側的兩端設置有孔洞401，相當于輔助件40上設置有四個標記圖案，因而在將掩膜板20和第二子支撐條302固定在框架10上時，可以根據這四個標記圖案建立坐標系，以便于更精確地確定掩膜板20在框架10上的固定位置以及第二子支撐條302在框架10上的固定位置。

當第一子支撐條301的寬度與第二子支撐條302的寬度的差值太小時，若第一子支撐301在張網過程中變形較大，則第一子支撐條301在第二子支撐條302上的正投影可能會超出第二子支撐條302的邊界，這樣便會影響第一支撐條30的遮擋精度；當第一子支撐條301的寬度與第二子支撐條302的寬度的差值太大時，或者，第一子支撐條301的寬度很小，這樣會影響第一子支撐條301對掩膜板20的支撐效果，或者，第二子支撐條302的寬度很大，這樣可能會遮擋掩膜板20的Dummy區(qū)域，導致掩膜板Dummy區(qū)域減小。

基于此，本發(fā)明實施例優(yōu)選的，第一子支撐條301的寬度比第二子支撐302條的寬度小300μm-500μm。

優(yōu)選的，如圖3(b)所示，掩膜板20為精細金屬掩膜板，精細金屬掩膜板包括多個相互平行的掩膜條(FMM Sheet)201。

其中，對于掩膜板20中包括的掩膜條201的個數不進行限定，可以根據需要進行相應設置。本發(fā)明說明書附圖3(b)中以設置四個掩膜條為例進行示意。

此外，對于掩膜條201和第一支撐條30的位置關系不進行限定，掩膜條201可以和第一支撐條30平行設置，也可以和第一支撐條30交叉設置。由于掩膜條201的長度遠大于其寬度，因而當第一支撐條30與掩膜條201交叉設置時，可以更好地對掩膜條201進行支撐，因而本發(fā)明實施例優(yōu)選第一支撐條30與掩膜條201交叉設置。進一步優(yōu)選的，如圖3(b)所示，第一支撐條30與掩膜條201相互垂直。

優(yōu)選的，如圖4-圖6所示，掩膜組件還包括第二支撐條50(Cover)；第二支撐條50跨設于框架10的中空區(qū)域，且第二支撐條50的相對兩端固定在框架10上；其中，第二支撐條50與第一支撐條30交叉設置。

其中，對于掩膜組件中設置的第二支撐條50的個數不進行限定，可以根據需要進行設置，可以設置一個，也可以設置兩個或兩個以上第二支撐條50。當掩膜組件包括兩個或兩個以上第二支撐條50時，優(yōu)選第二支撐條50之間相互平行。

此處，第一支撐條30和第二支撐條50共同對掩膜板20進行支撐，防止掩膜板20下垂。第一支撐條30和第二支撐條50至少應確保掩膜板20的下垂量在200μm以內。在此基礎上，本發(fā)明實施優(yōu)選第二支撐條50與第一支撐條30相互垂直。

本發(fā)明實施例，由于第一支撐條30和第二支撐條50交叉設置，共同對掩膜板20進行支撐，因而可以進一步更有效地對掩膜板20進行支撐，防止掩膜板20下垂。

優(yōu)選的，如圖5和圖6所示，第二支撐條50包括疊層設置的第三子支撐條501和第四子支撐條502；其中，第三子支撐條501在第四子支撐條502上的正投影位于第四子支撐條502內；第四子支撐條502的厚度小于第三子支撐條501的厚度。

其中，第三子支撐條501在第四子支撐條502上的正投影位于第四子支撐條502內，但對于第三子支撐條501的寬度與第四子支撐條502的寬度的差值不進行限定，應以第三子支撐條501能夠支撐掩膜板20，且第三子支撐條501在張網固定到框架10上的過程，即使第三子支撐條501變形，變形后的第三子支撐條501在第四子支撐條502上的正投影也應在第四子支撐條502內為準。

在此基礎上，由于第四子支撐條502的厚度小于第三子支撐條501的厚度，因而相對于第三子支撐條501，第四子支撐條502不易變形。為了防止第四子支撐條502變形，本發(fā)明實施例優(yōu)選，在第四子支撐條502能夠起到遮擋的條件下，第四子支撐條502的厚度應盡可能地薄。

本發(fā)明實施例，第二支撐條50包括層疊設置的第三子支撐條501和第四子支撐條502，由于第三子支撐條501的厚度大于第四子支撐條502的厚度，因而第三子支撐條501與現有技術中支撐條的作用相同，可以用于起支撐掩膜板20的作用。在此基礎上，由于第四子支撐條502的厚度小于第三子支撐條501的厚度，因而第四子支撐條502在張網時所需的張網力較小，這樣便可以避免第四子支撐條502變形，因而第四子支撐條502具有較高的張網精度和遮擋精度。此外，第三子支撐條501在第四子支撐條502上的正投影位于第四子支撐條502內，由于第四子支撐條502具有較高的遮擋精度和張網精度，因而第二支撐條50具有較高的張網精度和遮擋精度，因此相對于現有技術，本發(fā)明實施例提高了第二支撐條50的張網精度和遮擋精度。

進一步優(yōu)選的，如圖6所示，掩膜板20為精細金屬掩膜板，精細金屬掩膜板包括多個相互平行的掩膜條201，掩膜條201與第二支撐條50平行，第二支撐條50設置在相鄰掩膜條201之間的間隙位置處。

其中，對于掩膜板20中包括的掩膜條201的個數不進行限定，可以根據需要進行相應設置。本發(fā)明說明書附圖6中以掩膜板20包括四個掩膜條201為例進行示意。此外，附圖6中每個掩膜條201的虛線所包圍的區(qū)域為有效區(qū)域。

本發(fā)明實施例，第二支撐條50設置在相鄰掩膜條201之間的間隙位置處，這樣第二支撐條50便可以對相鄰掩膜條201之間的間隙進行遮擋。

本發(fā)明實施例還提供一種掩膜組件的組裝方法，如圖7所示，包括：

S100、如圖8所示，將第一子支撐條301跨設于框架10的中空區(qū)域，并將第一子支撐條301的相對兩端固定在框架10上。

其中，對于第一子支撐條301的個數不進行限定，可以根據需要進行相應設置。

在此基礎上，可以通過焊接的方式將第一子支撐條301固定在框架10上。

S101、如圖9所示，將第二子支撐條302設置在第一子支撐條301上方，并將第二子支撐條302的相對兩端固定在框架10上，第一子支撐條301在第二子支撐條302上的正投影位于第二子支撐條302內，第二子支撐條302的厚度小于第一子支撐條301的厚度；其中，第一子支撐條301和第二子支撐條302構成第一支撐條30。

需要說明的是，第二子支撐條302的個數與第一子支撐條301的個數相同，每個第一子支撐條301上都設置有一個第二子支撐條302。

此處，第二子支撐條302的厚度小于第一子支撐條301的厚度，因而在張網過程中，第二子支撐條302受到的張網力小于第一子支撐條301受到的張網力，因而相對于第一子支撐條301，第二子支撐條302不易變形。

S102、如圖1所示，將掩膜板20跨設于框架10的中空區(qū)域，并將掩膜板20的相對兩端固定在框架10上。

其中，對于掩膜板20的類型不進行限定，掩膜板20可以是精細金屬掩膜板，也可以是開口掩膜板。當掩膜板20為精細金屬掩膜板時，精細金屬掩膜板可以包括多個掩膜條。掩膜條可以和第一支撐條30交叉，也可以和第一支撐條30平行，本發(fā)明實施例優(yōu)選第一支撐條30和掩膜條交叉，進一步優(yōu)選的，第一支撐條30和掩膜條相互垂直。

本發(fā)明實施例提供一種掩膜組件的組裝方法，掩膜組件中的第一支撐條30為雙層，第一支撐條30包括層疊設置的第一子支撐條301和第二子支撐條302，由于第一子支撐條301的厚度大于第二子支撐條302的厚度，因而第一子支撐條301與現有技術中支撐條的作用相同，可以用于起支撐掩膜板20的作用。在此基礎上，第一支撐條30還包括第二子支撐條302，由于第二子支撐條302的厚度小于第一子支撐條301的厚度，因而第二子支撐條302在張網時所需的張網力較小，這樣便可以避免第二子支撐條302變形，因而第二子支撐條302具有較高的張網精度和遮擋精度。此外，第一子支撐條301在第二子支撐條302上的正投影位于第二子支撐條302內，由于第二子支撐條302具有較高的遮擋精度和張網精度，因而第一支撐條30具有較高的張網精度和遮擋精度，因此相對于現有技術，本發(fā)明實施例提供的第一支撐條30提高了支撐條的張網精度和遮擋精度。

優(yōu)選的，在步驟S100之后，步驟S101之前，上述組裝方法還包括：

如圖10所示，將兩個輔助條402分別設置在框架10的相對兩邊，輔助條402背離框架10的一側的兩端設置有孔洞401；將第二子支撐條302的相對兩端固定在框架10上，具體包括：根據孔洞401確定第二子支撐條302在框架10上的固定位置，并固定第二子支撐條302的相對兩端；將掩膜板20的相對兩端固定在框架10上，具體包括：根據孔洞401確定掩膜板20在框架10上的固定位置，并固定掩膜板20的相對兩端。

其中，輔助條402上的孔洞401可以作為標記圖案。在此基礎上，根據孔洞401確定第二子支撐條302在框架10上的固定位置，具體可以是先根據孔洞401建立坐標系，再根據建立的坐標系確定第二子支撐條302在框架10上的固定位置。同理，對于掩膜板20，也是先根據孔洞401建立坐標系，再根據建立的坐標系確定第二子支撐條302在框架10上的固定位置。由于第二子支撐條302和掩膜板20都是根據該孔洞401建立坐標系，相當于第二子支撐條302和掩膜板20在同一坐標系下確定其在框架10上的固定位置。

此處，對于第一支撐條30與輔助條402的設置位置關系不進行限定，輔助條402可以和第一支撐條30垂直，輔助條402也可以和第一支撐條30平行。本發(fā)明實施例優(yōu)選，第一支撐條30與輔助條402垂直。

需要說明的是，對于第一子支撐條301如何固定在框架10上不進行限定，示例的，可以在框架10上形成孔洞，作為第一子支撐條301固定在框架10上的標記圖案。

本發(fā)明實施例，由于框架10的兩端設置有輔助條402，輔助條402上設置有孔洞401，孔洞401用于作為標記圖案，因而掩膜板20以及第二子支撐條302均可以根據該孔洞401建立的坐標系，確定掩膜板20以及第二子支撐條302在框架10上的固定位置，并將掩膜板20和第二子支撐條302固定在框架10上。在此基礎上，由于掩膜板20和第二子支撐條302是根據同一標記圖案確定掩膜板20和第二子支撐條302在框架10上的固定位置并固定，因而可以提高第二子支撐條302和掩膜板20的匹配精度，進而可以最大程度地保證第二子支撐條302的遮擋精度。

優(yōu)選的，在步驟S100之前，上述組裝方法還包括：如圖11所示，將第二支撐條50跨設于框架10的中空區(qū)域，并將第二支撐條50的相對兩端固定在框架10上。

其中，對于掩膜組件中設置的第二支撐條50的個數不進行限定，可以根據需要進行設置，可以設置一個，也可以設置兩個或兩個以上第二支撐條50。當掩膜組件包括兩個或兩個以上第二支撐條50時，優(yōu)選第二支撐條50之間相互平行。

在此基礎上，當掩膜板20為精細金屬掩膜板，且精細金屬掩膜板包括多個掩膜條時，本發(fā)明實施例優(yōu)選，掩膜組件包括多個第二支撐條50，第二支撐條50與掩膜條平行，且每個第二支撐條50設置在相鄰掩膜條的間隙位置處。

此處，第二支撐條50與后續(xù)步驟S100中設置的第一子支撐條301可以相互平行，也可以相互交叉。由于第二支撐條50與第一子支撐條301相互交叉，對掩膜板20的支撐效果較好，因而本發(fā)明實施例優(yōu)選第二支撐條50與待形成的第一子支撐條301相互交叉。進一步優(yōu)選的，第二支撐條50與第一子支撐條301相互垂直。

此外，第二支撐條50可以根據框架10上設置的孔洞建立坐標系，并將第二支撐條50固定在框架10上。

本發(fā)明實施例，通過設置第二支撐條50，可用于支撐掩膜板20。

進一步優(yōu)選的，在步驟S100之前，上述組裝方法具體還包括：如圖12所示，將第三子支撐條501跨設于框架10的中空區(qū)域，并將第三子支撐條501的相對兩端固定在框架10上；將第四子支撐條502設置在第三子支撐條501上方，并將第四子支撐條502的相對兩端固定在框架10上，第三子支撐條501在第四子支撐條502上的正投影位于第四子支撐條502內，第四子支撐條502的厚度小于第三支撐條501的厚度；其中，第三子支撐條501和第四子支撐條502構成第二支撐條50。

其中，第三子支撐條501的個數與第四子支撐條502的個數相同，每個第三子支撐條501上都設置有一個第四子支撐條502。

此處，第四子支撐條502的厚度小于第三支撐條501的厚度，因而在張網過程中，第四子支撐條502受到的張網力小于第三子支撐條501受到的張網力，因而相對于第三子支撐條501，第四子支撐條502不易變形。

本發(fā)明實施例，由于第三子支撐條501的厚度大于第四子支撐條502的厚度，因而第三子支撐條501與現有技術中支撐條的作用相同，可以用于起支撐掩膜板20的作用。在此基礎上，由于第四子支撐條502的厚度小于第三子支撐條501的厚度，因而第四子支撐條502在張網時所需的張網力較小，這樣便可以避免第四子支撐條502變形，因而第四子支撐條502具有較高的張網精度和遮擋精度。此外，第三子支撐條501在第四子支撐條502上的正投影位于第四子支撐條502內，由于第四子支撐條502具有較高的遮擋精度和張網精度，因而第二支撐條50具有較高的張網精度和遮擋精度，因此相對于現有技術，本發(fā)明實施例提高了第二支撐條50的張網精度和遮擋精度。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實施方式，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發(fā)明揭露的技術范圍內，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內。因此，本發(fā)明的保護范圍應以所述權利要求的保護范圍為準。