本發(fā)明屬于真空磁控濺射鍍膜領域，具體涉及一種絲狀樣品與片狀樣品混合磁控濺射鍍膜設備。

背景技術(shù)：

在真空鍍膜領域，對于半導體、微電子產(chǎn)品往往采用等離子體磁控濺射鍍膜。半導體、微電子等產(chǎn)品形狀各異，而在磁控濺射鍍膜機實驗設備中，為節(jié)省成本，往往需要多名實驗人員共用一臺實驗設備，而實驗人員的研究方向各異，鍍膜樣品有絲狀樣品(如金屬絲、熱電偶、光纖等)、片狀樣品兩種常見形態(tài)，如果實驗設備的功能單一，就會造成實驗成本的提升，給實驗人員操作帶來麻煩?，F(xiàn)有的設備都停留在單一化用途中，結(jié)構(gòu)簡單。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明主要是提供一種既能適應絲狀樣品鍍膜，也能適應片狀樣品鍍膜的混合磁控濺射鍍膜設備，該類設備能夠?qū)崿F(xiàn)在一臺設備上既能對絲狀樣品鍍膜，同時又能對片狀樣品鍍膜的需求，節(jié)省了時間和物質(zhì)成本，增強了資源利用。

本發(fā)明所采取的技術(shù)方案如下：一種絲狀樣品與片狀樣品混合磁控濺射鍍膜設備，該設備包括第一組驅(qū)動組件，所述第一組驅(qū)動組件包含上驅(qū)動電機、上驅(qū)動軸、上驅(qū)動盤、下驅(qū)動盤，所述上驅(qū)動盤與下驅(qū)動盤通過連接件連接，所述上驅(qū)動電機通過上驅(qū)動軸驅(qū)動所述上驅(qū)動盤和下驅(qū)動盤轉(zhuǎn)動；

所述上驅(qū)動盤、下驅(qū)動盤上對應設置穿絲孔，孔中穿接絲狀樣品，所述絲狀樣品上設置有驅(qū)動小齒輪，所述驅(qū)動小齒輪與固定大齒輪嚙合；

該設備還包括第二組驅(qū)動組件，所述第二組驅(qū)動組件包括下驅(qū)動電機、下驅(qū)動軸、大傘齒輪、小傘齒輪、片狀樣品安裝軸；所述下驅(qū)動電機通過下驅(qū)動軸驅(qū)動大傘齒輪旋轉(zhuǎn)，所述大傘齒輪與小傘齒輪嚙合，所述小傘齒輪套裝在片狀樣品安裝軸上，所述片狀樣品安裝軸安裝在所述上驅(qū)動盤上，或下驅(qū)動盤上，或者上驅(qū)動盤與下驅(qū)動盤之間的連接件上，隨所述上驅(qū)動盤和下驅(qū)動盤一起旋轉(zhuǎn)；所述片狀樣品安裝軸上安裝片狀樣品。

進一步講：在所述絲狀樣品的一端設置有所述驅(qū)動小齒輪?；蛘?，在所述絲狀樣品的上、下兩端都設置有驅(qū)動小齒輪，對應地在所述設備的上、下兩端都設置有固定大齒輪與之嚙合，上下同步運動能減少運行阻力，使運行平穩(wěn)，減小電機耗損。

進一步講：所述固定大齒輪通過固定座固定，固定座不隨裝置運動。

進一步講：所述絲狀樣品連接在穿絲連接件上，且通過所述穿絲連接件安裝所述驅(qū)動小齒輪。

進一步講：所述下驅(qū)動盤沿一環(huán)形滑軌旋轉(zhuǎn)，可增強其運動的穩(wěn)定性。

進一步講：在所述上驅(qū)動盤與下驅(qū)動盤之間，由上驅(qū)動盤通過上連接柱連接一中間驅(qū)動盤，中間驅(qū)動盤通過下連接柱連接到下驅(qū)動盤；在中間驅(qū)動盤上通過支撐板和軸承安裝所述片狀樣品安裝軸。通過中間驅(qū)動盤連接，一是可以縮短上下驅(qū)動盤之間的連接柱的長度，以中間驅(qū)動盤作為中間支撐，可以增強支撐力，二是利用中間驅(qū)動盤作為片狀樣品的安裝平臺，實現(xiàn)樣品的自轉(zhuǎn)。

進一步講：所述大傘齒輪與小傘齒輪垂直嚙合，將水平面內(nèi)的旋轉(zhuǎn)運動轉(zhuǎn)變?yōu)樨Q直面內(nèi)的旋轉(zhuǎn)運動。

進一步講：所述絲狀樣品和片狀樣品沿所述上驅(qū)動盤和下驅(qū)動盤的周向布置有多個，且為間隔設置。多個所述驅(qū)動小齒輪同時與對應位置的一個固定大齒輪嚙合；多個所述小傘齒輪同時與對應位置的一個大傘齒輪嚙合。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明巧妙地運用機械結(jié)構(gòu)的組合與搭建，實現(xiàn)了鍍膜絲狀樣品和片狀樣品的同臺安裝；并且，每一種樣品都可實現(xiàn)兩種運動，一是以某一軸為中心的共同公轉(zhuǎn)，二是以各自的軸為中心的自轉(zhuǎn)，公轉(zhuǎn)可以實現(xiàn)樣品向鍍膜磁控濺射靶靠近，而自轉(zhuǎn)可使樣品在盡可能少的濺射靶的情況下完成全面濺射，所以節(jié)省了濺射靶的數(shù)量和安裝難度；而且，該設備可以同臺設置多個絲狀樣品和片狀樣品，間隔設置，可以充分利用空間。鍍膜時先用磁控濺射靶擋板擋住濺射口進行預濺射(因為開始濺射時不穩(wěn)定，靶面會有污物，所以用擋板擋住，濺射一會穩(wěn)定去表面雜物后再打開擋板開始正常濺射)。本發(fā)明只需要兩個電機，幾個齒輪機構(gòu)就可實現(xiàn)上述操作，結(jié)構(gòu)簡單易操作，節(jié)省成本。

本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點將在隨后的說明書中闡述，并且部分的從說明書中變得顯而易見，或者通過實施本發(fā)明而了解。

附圖說明

附圖僅用于示出具體實施例的目的，而并不認為是對本發(fā)明的限制，在整個附圖中，相同的參考符號表示相同的部件。

圖1為本發(fā)明鍍膜設備的結(jié)構(gòu)立體圖；

圖2為本發(fā)明鍍膜設備的縱剖圖；

圖3為本發(fā)明鍍膜設備的橫剖圖。

圖中標記：1-磁控靶，2-真空室門，3-磁控靶擋板，4-上驅(qū)動軸，5-上固定座，6-上固定大齒輪，7-上驅(qū)動盤，8-絲狀樣品，9-上驅(qū)動小齒輪，10-下驅(qū)動盤，11-下驅(qū)動小齒輪，12-下固定大齒輪，13-下固定座，14-環(huán)形滑軌，15-片狀樣品，16-上連接柱，17-中間驅(qū)動盤，18-下連接柱，19-支撐板，20-片狀樣品安裝軸，21-小傘齒輪，22-片狀樣品盤，23-下驅(qū)動軸，24-大傘齒輪。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進行詳細的描述，但本領域的技術(shù)人員應該知道，以下實施例并不是對本發(fā)明技術(shù)方案作的唯一限定，凡是在本發(fā)明技術(shù)方案精神實質(zhì)下所做的任何等同變換或改動，均應視為屬于本發(fā)明的保護范圍。

如圖1、2所示，該鍍膜設備設置在一真空室內(nèi)，磁控靶1可以安裝在真空室門2上，通過真空室門向鍍膜設備上的樣品進行濺射；磁控靶1可以設置幾個，從多方向?qū)悠愤M行全面濺射；在磁控靶靶頭上設置有磁控靶擋板3用于預濺射。

該鍍膜設備設置有公、自轉(zhuǎn)機構(gòu)，通過特殊的結(jié)構(gòu)設計實現(xiàn)絲狀樣品和片狀樣品的旋轉(zhuǎn)濺射。具體而言，包括一上驅(qū)動電機(圖中未示出)，上驅(qū)動電機連接一上驅(qū)動軸4，上驅(qū)動軸4垂向設置。一上固定座5，固定連接一上固定大齒輪6；上驅(qū)動軸4穿過上固定座5和上固定大齒輪6，連接一上驅(qū)動盤7。上驅(qū)動盤7邊緣設置一圈穿絲孔，各個絲狀樣品8通過上穿絲連接件安裝在穿絲孔中，在上穿絲連接件上安裝一上驅(qū)動小齒輪9，上驅(qū)動小齒輪9嚙合連接上固定大齒輪6。上驅(qū)動盤7通過中間連接件連接到下驅(qū)動盤10，下驅(qū)動盤10同樣設置一圈穿絲孔，通過下穿絲連接件安裝各個絲狀樣品8，下穿絲連接件上同樣安裝下驅(qū)動小齒輪11，下驅(qū)動小齒輪嚙合連接一下固定大齒輪12，下固定大齒輪12固定在一下固定座13上。絲狀樣品8被上、下兩端的驅(qū)動盤以及連接件連接，拉直，在上驅(qū)動電機的驅(qū)動下，上驅(qū)動盤7和下驅(qū)動盤10以上驅(qū)動軸4為中心同步旋轉(zhuǎn)，從而帶動絲狀樣品旋轉(zhuǎn)。

進一步地，為保證上驅(qū)動盤7和下驅(qū)動盤10運轉(zhuǎn)的平穩(wěn)性，除在他倆之間設置直連件以外，還可在下驅(qū)動盤10底部與下固定大齒輪12之間設置環(huán)形滑軌14，使下驅(qū)動盤10沿滑軌運行。

絲狀樣品8在由上驅(qū)動電機驅(qū)動下圍繞中心軸公轉(zhuǎn)的同時，同時由于其上、下兩端帶有驅(qū)動小齒輪(上驅(qū)動小齒輪9、下驅(qū)動小齒輪11)，小齒輪嚙合連接固定大齒輪(上固定大齒輪6、下固定大齒輪12)，小齒輪隨驅(qū)動盤(上驅(qū)動盤7、下驅(qū)動盤10)一同公轉(zhuǎn)，所以絲狀樣品8在做公轉(zhuǎn)的同時還做自轉(zhuǎn)。絲狀樣品8在運轉(zhuǎn)到磁控靶的位置時被濺射，同時因其自身旋轉(zhuǎn)，周面將全部被濺射到。

進一步講，絲狀樣品8只要能在驅(qū)動小齒輪與固定大齒輪的嚙合下自轉(zhuǎn)即可，如果動力足夠，旋轉(zhuǎn)相對平穩(wěn)，可以僅設置上驅(qū)動小齒輪9與上固定大齒輪6組合，或者僅設置下驅(qū)動小齒輪11與下固定大齒輪12組合，不必要上、下都設置。

本發(fā)明利用上、下驅(qū)動盤之間的空間實現(xiàn)片狀樣品15的安裝以及運動。如圖1、2所示的實施例中，上驅(qū)動盤7和下驅(qū)動盤10之間，由上驅(qū)動盤7通過上連接柱16連接一中間驅(qū)動盤17，中間驅(qū)動盤17通過下連接柱18連接到下驅(qū)動盤10，這樣上、中、下驅(qū)動盤三者就可同步旋轉(zhuǎn)。在中間驅(qū)動盤17上通過支撐板19和軸承安裝一片狀樣品安裝軸20，片狀樣品安裝軸20上套設一小傘齒輪21，片狀樣品安裝軸20端部安裝片狀樣品盤22。進一步講，兩個支撐板19一起支撐安裝軸具有平衡性。

作為另一種實施例，如果在空間足夠允許的情況下，也可以在上驅(qū)動盤7或下驅(qū)動盤10上直接通過支撐板19安裝片狀樣品安裝軸20、小傘齒輪21、片狀樣品安裝軸20等。

在下固定座13上安裝一下驅(qū)動電機(圖中未示出)，下驅(qū)動電機連接一下驅(qū)動軸23，下驅(qū)動軸23穿過下固定大齒輪12和下驅(qū)動盤10連接一大傘齒輪24。大傘齒輪24和小傘齒輪21嚙合，把大傘齒輪24的水平旋轉(zhuǎn)運動轉(zhuǎn)變?yōu)樾泯X輪21的豎直旋轉(zhuǎn)運動。當下驅(qū)動電機帶動下驅(qū)動軸23旋轉(zhuǎn)時，下驅(qū)動軸23上的大傘齒輪24與小傘齒輪21嚙合發(fā)生力的傳遞，小傘齒輪21又帶動片狀樣品安裝軸20旋轉(zhuǎn)，從而帶動片狀樣品盤22及安裝其上的片狀樣品15一起旋轉(zhuǎn)。

由于片狀樣品安裝軸20安裝在中間驅(qū)動盤17上，而中間驅(qū)動盤17通過連接件連接在上驅(qū)動盤7、下驅(qū)動盤10之間，因此它可以在上驅(qū)動電機的帶動下與上驅(qū)動盤7、下驅(qū)動盤10一起繞上驅(qū)動軸4做公轉(zhuǎn)，又可以在下驅(qū)動電機的帶動下經(jīng)過齒輪變向以片狀樣品安裝軸20為軸心做自轉(zhuǎn)，當片狀樣品15公轉(zhuǎn)到磁控靶的位置時被濺射，同時因自身旋轉(zhuǎn)又能使表面濺射全面。

上固定座5、上驅(qū)動盤7、下固定座13、下驅(qū)動盤10這些件上下對置，中間由連接件連接，形成一柱臺式結(jié)構(gòu)，由于上驅(qū)動盤7和下驅(qū)動盤10為圓形，所以在圓盤上可以設置多個穿絲孔，對應地可以設置多根絲狀樣品8，絲狀樣品上多個上驅(qū)動小齒輪9共同嚙合上固定大齒輪6，多個下驅(qū)動小齒輪11共同嚙合下固定大齒輪12，絲狀樣品8沿圓盤公、自轉(zhuǎn)，一次性可進行多個樣品的鍍膜。同理，在中間驅(qū)動盤17上也可安裝多個片狀樣品安裝軸20和小傘齒輪21，多個小傘齒輪21共同由一大傘齒輪24嚙合驅(qū)動，在各個片狀樣品安裝軸20上對應安裝片狀樣品15，多個片狀樣品15沿盤公、自轉(zhuǎn)，一次性可進行多個樣品的鍍膜。將所有的絲狀樣品8和片狀樣品15的安裝位置間隔開來，如圖3所示，就可形成多形狀多數(shù)量的樣品濺射臺。

值得說明的是，以上所述實施例僅為本發(fā)明較佳的具體實施方式，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。