本發(fā)明屬于真空行業(yè)技術(shù)，特別是為真空等離子體行業(yè)半導(dǎo)體、微電子技術(shù)領(lǐng)域提供一種線型磁控濺射鍍膜機(jī)。

背景技術(shù)：

在磁控濺射鍍膜機(jī)(sputter)、等離子體化學(xué)氣相沉積(pecvd)、離子束刻蝕(ibe)、反應(yīng)離子刻蝕及感應(yīng)耦合等離子體刻蝕(rie、drie、icp)、等離子體清洗(plasmacleaning)等設(shè)備中，如果設(shè)備用于批量生產(chǎn)目的，或樣片量比較大，其等離子體激發(fā)裝置多為矩形體形狀，磁控濺射鍍膜機(jī)為矩形磁控濺射靶，等離子體化學(xué)氣相沉積為矩形pecvd等離子體源或矩形等離子體發(fā)生器，離子束刻蝕為矩形離子源，感應(yīng)耦合等離子體刻蝕為矩形icp源。這些離子源需要固定安裝在真空腔體上，樣片需要在與離子源面對面的位置相對移動，才能使離子束均勻掃描到樣片表面的各個(gè)位置，達(dá)到均勻薄膜或均勻刻蝕目的。配合多樣片傳送機(jī)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)。

樣品傳輸有多種方法，如：輥軸傳動、輸送帶傳動……。但這些方法主驅(qū)動、從驅(qū)動機(jī)構(gòu)要放在真空外面，這就涉及到“過真空”問題，眾多機(jī)構(gòu)“過真空”必然會帶來真空漏氣問題，對工藝極其不利。同時(shí)，輔助機(jī)構(gòu)得在“過真空”轉(zhuǎn)臺下實(shí)現(xiàn)動態(tài)轉(zhuǎn)動，不但加劇了“動密封”時(shí)的漏氣性，也極大降低了設(shè)備的可靠性。

另外，如果傳輸鏈過長，主驅(qū)動力就越大，設(shè)備需求功率就大，這對設(shè)備生產(chǎn)提出了嚴(yán)格的要求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明著力于解決現(xiàn)有技術(shù)之不足，提供一種基于分段傳送的連續(xù)式線型磁控濺射鍍膜機(jī)。本發(fā)明的基本構(gòu)思是采用真空不銹鋼材料制作高性能鏈條，把部分驅(qū)動機(jī)構(gòu)放在真空室內(nèi)部，減少“過真空”問題，配合精密輔助連接機(jī)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)在真空室內(nèi)部連續(xù)輸送樣片的目的；同時(shí)，鏈條分段設(shè)計(jì)，分段驅(qū)動，減小主驅(qū)動設(shè)備的功耗。

本發(fā)明解決以上技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案如下：一種基于分段傳送的連續(xù)式線型磁控濺射鍍膜機(jī)，按功能分為三個(gè)接續(xù)性的真空室段，分別為進(jìn)樣室段、鍍膜段、出樣室段；

所述進(jìn)樣室段與鍍膜段之間設(shè)有真空隔離裝置，所述鍍膜段與出樣室段之間也設(shè)有真空隔離裝置；

所述進(jìn)樣室段、鍍膜段、出樣室段均設(shè)有樣片輸送裝置，各段中的樣片輸送裝置獨(dú)立運(yùn)行，且位于上段中的樣片輸送裝置截止于兩段之間的真空隔離裝置處，位于下段中的樣片輸送裝置起始于兩段之間的真空隔離裝置處；

所述進(jìn)樣室段、出樣室段均設(shè)有樣片裝載/卸載裝置；

所述鍍膜段設(shè)有加熱裝置；

其中，所述樣片輸送裝置，包括鏈條驅(qū)動電機(jī)、傳動機(jī)構(gòu)、鏈驅(qū)動軸、軸上鏈輪、鏈條，鏈條驅(qū)動電機(jī)與傳動機(jī)構(gòu)驅(qū)動連接，所述傳動機(jī)構(gòu)與鏈驅(qū)動軸驅(qū)動連接，所述鏈驅(qū)動軸上套設(shè)軸上鏈輪，所述軸上鏈輪嚙合鏈條，所述鏈條有兩根，平行設(shè)置，同步運(yùn)動，共同支撐樣片托盤；

所述樣片裝載/卸載裝置為一電機(jī)帶動的動態(tài)連續(xù)裝載/卸載的裝置。

進(jìn)一步地，所述真空隔離裝置，包括一個(gè)殼體，所述殼體兩側(cè)設(shè)置有用于與真空室連通的通孔，所述殼體內(nèi)設(shè)置有可上下滑動的鎖身，所述鎖身包括一塊頂板，所述頂板兩側(cè)對稱設(shè)置有密封板，所述頂板設(shè)置有多個(gè)凸出所述頂板表面的滾珠，所述密封板對應(yīng)所述滾珠設(shè)置有多個(gè)圓錐形凹槽；兩個(gè)所述密封板之間設(shè)置有彈簧；所述鎖身設(shè)置有與所述殼體可滾動連接的導(dǎo)向軸承。

進(jìn)一步地，所述樣片輸送裝置中的鏈條驅(qū)動電機(jī)、傳動機(jī)構(gòu)、鏈驅(qū)動軸、軸上鏈輪、鏈條，都設(shè)置在真空室內(nèi)部，所述鏈條驅(qū)動電機(jī)采用真空密封電機(jī)。

進(jìn)一步地，所述樣片輸送裝置中的鏈條驅(qū)動電機(jī)和傳動機(jī)構(gòu)設(shè)置在真空室外部，所述鏈驅(qū)動軸穿過真空室壁進(jìn)入真空室中，所述軸上鏈輪、鏈條設(shè)置在真空室內(nèi)部。

進(jìn)一步地，所述樣片裝載/卸載裝置，包括有樣片架驅(qū)動電機(jī)、絲杠、樣片架、樣片托盤，所述樣片架驅(qū)動電機(jī)驅(qū)動連接絲杠，絲杠豎直設(shè)置，所述樣片架套設(shè)在絲杠上，所述樣片架是一可平行排放多層樣片托盤的架子，樣片托盤邊緣搭設(shè)在所述樣片架上。

進(jìn)一步地，所述樣片托盤的底部設(shè)置有防脫掛鉤，所述防脫掛鉤插設(shè)在所述鏈條的縫隙中；所述樣片托盤的側(cè)部設(shè)置有托盤導(dǎo)向輥；所述鏈條兩側(cè)設(shè)置有鏈條導(dǎo)向板。

進(jìn)一步地，所述加熱裝置包括連續(xù)設(shè)置的多個(gè)加熱模塊，設(shè)置在所述樣片托盤運(yùn)行路徑上，各所述加熱模塊底部由自動調(diào)高組件支撐，當(dāng)所述樣片托盤沒有經(jīng)過時(shí)，加熱模塊高于運(yùn)輸平面，當(dāng)所述樣片托盤經(jīng)過某塊加熱模塊時(shí)，該加熱模塊被所述樣片托盤壓住，與所述樣片托盤緊密接觸。

再進(jìn)一步地，所述自動調(diào)高組件包括粗調(diào)組件和精調(diào)組件，其中所述精調(diào)組件為一彈性橡膠件或一彈簧件。

再進(jìn)一步地，所述粗調(diào)組件中包括一組螺紋桿，各螺紋桿上帶有調(diào)高螺母，所述調(diào)高螺母支撐一塊支撐板，所述支撐板上支撐所述精調(diào)組件。

或者，所述粗調(diào)組件中包括一組立桿，所述立桿上設(shè)置有調(diào)高滑槽，所述滑槽中安裝螺栓，所述螺栓連接一塊支撐板，所述支撐板支撐所述精調(diào)組件。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明顯著的有益效果體現(xiàn)在：

1.本發(fā)明通過采用鏈條傳動機(jī)構(gòu)，大大減少了真空室壁上的穿孔數(shù)量，有效防止泄漏。

2.本發(fā)明通過采用真空隔離措施，把真空室分段，有效保障了鍍膜段的真空度。

3.本發(fā)明通過采用自動升降式樣片裝載/卸載結(jié)構(gòu)，可以實(shí)現(xiàn)多樣片連續(xù)生產(chǎn)。

4.本發(fā)明通過采用連續(xù)在線加熱裝置，可以沿樣片托盤運(yùn)行方向依次排列，實(shí)現(xiàn)梯度式逐級升溫。

本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說明書中闡述，并且部分的從說明書中變得顯而易見，或者通過實(shí)施本發(fā)明而了解。

附圖說明

附圖僅用于示出具體實(shí)施例的目的，而并不認(rèn)為是對本發(fā)明的限制，在整個(gè)附圖中，相同的參考符號表示相同的部件。

圖1為本發(fā)明設(shè)備的整體結(jié)構(gòu)立體圖；

圖2為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的真空隔離裝置的部分結(jié)構(gòu)剖視示意圖；

圖3為圖2的立體分解結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明設(shè)備從端部觀示意圖；

圖5為樣片架部分的局部放大圖；

圖6為樣片托盤和鏈條防護(hù)，以及加熱裝置的結(jié)構(gòu)圖；

圖7為圖6中防脫掛鉤的側(cè)視圖；

圖8為加熱裝置在設(shè)備內(nèi)的安裝圖；

圖9為鍍膜設(shè)備5在該設(shè)備中的布局圖。

i-進(jìn)樣室段，ii-鍍膜段，iii-出樣室段；

1-真空隔離裝置，11-殼體，101-通孔，12-鎖身，13-驅(qū)動裝置，201-頂板，202-密封板，203-導(dǎo)向軸承，2001-滾珠，2002-圓錐形凹槽，2003-密封圈，

2-樣片輸送裝置，21-鏈條驅(qū)動電機(jī)，22-傳動機(jī)構(gòu)，23-鏈驅(qū)動軸，24-軸上鏈輪，25-鏈條，251-鏈條導(dǎo)向板，26-鏈條漲緊機(jī)構(gòu)；

3-樣片裝載/卸載裝置，31-樣片架驅(qū)動電機(jī)，32-絲杠，33-樣片架，34-樣片托盤，331-托盤槽，341-防脫掛鉤，342-防污板，343-托盤導(dǎo)向輥；

4-加熱裝置，41-加熱模塊，42-自動調(diào)高組件，421-螺紋桿，422-調(diào)高螺母，423-支撐板，424-彈性部件；鍍膜設(shè)備5。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)的描述，其中，附圖構(gòu)成本申請一部分，并與本發(fā)明的實(shí)施例一起用于闡釋本發(fā)明。但本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該知道，以下實(shí)施例并不是對本發(fā)明技術(shù)方案作的唯一限定，凡是在本發(fā)明技術(shù)方案精神實(shí)質(zhì)下所做的任何等同變換或改動，均應(yīng)視為屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。

如圖1所示，本發(fā)明提供的鍍膜機(jī)，按功能劃分為三段，為進(jìn)樣室段i、鍍膜段ii、出樣室段iii，進(jìn)樣室段i用于裝樣片，鍍膜段ii用于真空鍍膜，出樣室段iii用于卸載樣片。因此，如果將進(jìn)樣室段i、鍍膜段ii、出樣室段iii都裝在同一真空室中，在裝樣片及卸載樣片時(shí)，勢必會有空氣泄露，影響鍍膜真空性。因此本發(fā)明設(shè)計(jì)一種真空隔離裝置1，將進(jìn)樣室段i、鍍膜段ii、出樣室段iii進(jìn)行分割，分成三段真空室，當(dāng)裝載樣片時(shí)，進(jìn)樣室段i和鍍膜段ii之間的真空隔離裝置1關(guān)閉，將進(jìn)樣室段i和鍍膜段ii分開；當(dāng)卸載樣片時(shí)，出樣室段iii和鍍膜段ii之間的真空隔離裝置1關(guān)閉，將出樣室段iii和鍍膜段ii分開，始終保證鍍膜段ii的真空度。

如圖2、圖3所示，真空隔離裝置1，其包括一個(gè)殼體11，所述殼體11兩側(cè)設(shè)置有用于與真空室連通的通孔101，所述殼體11內(nèi)設(shè)置有可上下滑動的鎖身12，所述鎖身12包括一塊頂板201，所述頂板201兩側(cè)對稱設(shè)置有密封板202，所述頂板201設(shè)置有多個(gè)凸出所述頂板201表面的滾珠2001，所述密封板202對應(yīng)所述滾珠2001設(shè)置有多個(gè)圓錐形凹槽2002。

真空隔離裝置1安裝在兩個(gè)真空室之間，所述殼體11分別與進(jìn)樣室段i和鍍膜段ii固定連接，且通孔101分別與進(jìn)樣室段i和鍍膜段ii的傳送口(圖中未示出)連通。當(dāng)鎖身12在殼體11的內(nèi)腔的下方時(shí)，所述進(jìn)樣室段i和所述鍍膜段ii之間連通，從而可進(jìn)行物體傳送。

當(dāng)鎖身12在驅(qū)動裝置13(例如氣缸或液壓缸)的推動下向殼體11的內(nèi)腔的上方滑動時(shí)，所述密封板202逐步遮擋所述通孔101，當(dāng)所述密封板202的頂面與所述殼體11的內(nèi)腔的頂面接觸時(shí)，所述密封板202完全覆蓋住所述通孔101，此時(shí)，所述密封板202停止向上的移動，而所述頂板201繼續(xù)向上移動，所述滾珠2001也在所述圓錐形凹槽2002內(nèi)繼續(xù)向上移動，由于所述圓錐形凹槽2002的截面尺寸逐步減小，因此所述滾珠2001就會推動所述密封板202向所述通孔101貼合，也就是說，所述滾珠2001會將所述密封板202在所述通孔101的軸向方向上推動，從而使得所述密封板202將所述通孔101密封。

當(dāng)需要兩個(gè)真空室連通時(shí)，所述鎖身12在驅(qū)動裝置13(例如氣缸或液壓缸)的拉動下向所述殼體11的內(nèi)腔的下方滑動，所述滾珠2001首先在所述頂板201的帶動下回退到所述圓錐形凹槽2002的最大截面尺寸位置處，之后，所述頂板201在下滑的過程中，所述滾珠2001通過所述圓錐形凹槽2002帶動所述密封板202下滑，從而使得所述密封板202離開所述通孔101的覆蓋位，也就能使得所述通孔101之間連通。

本發(fā)明所提供的真空隔離裝置與現(xiàn)有技術(shù)的最大改進(jìn)在于，本發(fā)明通過滾珠機(jī)械力來控制所述密封板202在所述通孔101的軸向方向上的位移，從而保障所述密封板202對所述通孔101的密封效果，這也就克服了現(xiàn)有的翻板式真空鎖需要依靠不同真空腔室的壓差來保障密封效果的缺陷，此外，對通孔101的形狀沒有要求，也就是說，不管通孔101是什么形狀，所述密封板202只需要對應(yīng)所述通孔101的形狀來制造，比通孔101的尺寸略大，能保障有效覆蓋即可，這也克服了現(xiàn)有真空插板閥對形狀尺寸要求較高的技術(shù)缺陷。

在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，兩個(gè)所述密封板202之間可設(shè)置有彈簧(圖中未示出)來連接，這樣，在所述鎖身12向下滑動過程中，當(dāng)所述滾珠2001回退到所述圓錐形凹槽2002的最大截面尺寸位置處時(shí)，兩個(gè)所述密封板202可在彈簧帶動下離開所述通孔101，靠近所述頂板201，從而利于所述鎖身12的向下移動。

在另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述鎖身12設(shè)置有與所述殼體11可滾動連接的導(dǎo)向軸承203，這樣可利于所述鎖身12的上下滑動。

在另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述通孔101和所述密封板202、所述頂板201均為矩形，這樣可使得兩個(gè)真空室間可傳送較大尺寸的物品。為了使得所述密封板202所受的壓力均勻，所述頂板201的側(cè)壁可沿長度方向均布有四對(共八個(gè))所述滾珠2001，對應(yīng)的，所述密封板202的側(cè)壁沿長度方向均布有四對(共八個(gè))所述圓錐形凹槽2002。

為了能夠更好的保障所述密封板202對所述通孔101的密封效果，所述密封板202還可進(jìn)一步設(shè)置有密封圈2003。

本發(fā)明所提供的真空隔離裝置，結(jié)構(gòu)緊湊，密封性好，能對相鄰的兩個(gè)真空室提供有效密封，并且對真空室的開口形狀適應(yīng)性強(qiáng)。

本發(fā)明的再一特點(diǎn)是，對于每個(gè)真空室段，對樣片的輸送都采用鏈條傳動方式，其一，鏈條設(shè)置在真空室內(nèi)部，相比于輥軸，可以盡大限度地減少真空室上開設(shè)各類安裝孔(因?yàn)槊扛佪S必須在真空室上開設(shè)穿軸孔，這樣就會增大真空室泄漏的可能性)；其二，因?yàn)殒湕l是采用精密金屬鏈條，相比于采用橡膠材質(zhì)的傳送帶，氣體含量少，也不容易變質(zhì)。

如圖4所示的實(shí)施例，樣片輸送裝置2，包括鏈條驅(qū)動電機(jī)21、傳動機(jī)構(gòu)22、鏈驅(qū)動軸23、軸上鏈輪24、鏈條25、鏈條漲緊機(jī)構(gòu)26等。鏈條驅(qū)動電機(jī)21輸出的動力通過所連接的傳動機(jī)構(gòu)22傳遞給鏈驅(qū)動軸23，鏈驅(qū)動軸23上套有軸上鏈輪24，軸上鏈輪24上嚙合連接鏈條25，鏈條漲緊機(jī)構(gòu)26用來給鏈條調(diào)節(jié)張力。同一根鏈驅(qū)動軸23上可以平行套設(shè)兩根鏈條25，同步行走。在采用鏈條輸送裝置下，如果采用普通電機(jī)驅(qū)動，電機(jī)設(shè)置在真空室外，此時(shí)鏈驅(qū)動軸23可以只從真空室的一端穿入即可，所以僅設(shè)置一個(gè)穿軸孔足以，或最多兩個(gè)，這大大降低了真空室上軸孔的安裝數(shù)量。如果采用真空密封電機(jī)，則整套裝置完全可以都設(shè)置在真空室里部，這樣在真空室壁上就一個(gè)穿軸孔都不用，更好。

如前所述，在兩段真空室之間，采用真空隔離裝置1隔離，所以每段真空室內(nèi)的鏈條到真空隔離裝置1處截止，在當(dāng)真空隔離裝置1打開時(shí)，上一段真空室內(nèi)的鏈條輸送樣片托盤穿過隔離裝置上的通孔自然過渡到下一段真空室中的鏈條上，由下一段真空室中的鏈條繼續(xù)傳動，這樣既可以在兩段真空室之間設(shè)置真空隔離裝置1，解決了兩段真空室之間的密封問題，同時(shí)又解決了由于鏈條過長帶來的傳動力不夠問題。

本發(fā)明的再一特點(diǎn)是，在進(jìn)樣室段i和出樣室段iii都設(shè)置有樣片裝載/卸載裝置3，顧名思義，樣片裝載是在進(jìn)樣室中，樣片卸載是在出樣室中，兩者的結(jié)構(gòu)相同，只是工作程序相反。如圖4所示的實(shí)施例，樣片裝載/卸載裝置3，是一動態(tài)連續(xù)供給或卸載裝置，包括有樣片架驅(qū)動電機(jī)31、絲杠32、樣片架33、樣片托盤34。樣片架驅(qū)動電機(jī)31驅(qū)動絲杠32旋轉(zhuǎn)，樣片架33套設(shè)在絲杠32上，絲杠32豎直設(shè)置，樣片架33在絲杠32旋轉(zhuǎn)的過程中發(fā)生升降運(yùn)行。如圖5所示，電機(jī)同時(shí)驅(qū)動兩根絲杠32，兩根絲杠上各自套設(shè)一樣片架33，樣片架33是一可平行排放多層托盤的架子，兩個(gè)樣片架的相對側(cè)設(shè)置有多層托盤槽331，樣片托盤34僅有邊緣搭設(shè)在托盤槽331中，其余部分騰空，驅(qū)動托盤行走的鏈條25設(shè)置在托盤底部，不與樣片架33發(fā)生干涉，當(dāng)鏈條25驅(qū)動樣片托盤34行走時(shí)，托盤逐漸脫離托盤槽331。進(jìn)樣時(shí)，樣片架33是逐漸下降，當(dāng)最底層樣片托盤被運(yùn)走后，上一層樣片托盤再下移到鏈條25上，被鏈條帶走。出樣過程與進(jìn)樣恰好相反，出樣時(shí)，樣片架33是逐漸上升的，最初的樣片托盤率先落于最高一層托盤槽中，然后樣片架33逐漸上升，依次從上至下承接托盤。進(jìn)、出樣連續(xù)供給，一次可加工多片樣片。

除此之外本發(fā)明還做了一些更進(jìn)一步的改進(jìn)：如圖6所示，其一，在整個(gè)運(yùn)行通道上，在鏈條兩側(cè)設(shè)置了鏈條導(dǎo)向板251，將鏈條限制在導(dǎo)向板的槽中運(yùn)行，保證了鏈條的運(yùn)行直線和防抖動性；其二，樣片托盤34的底部設(shè)置有防脫掛鉤341，如圖6、圖7所示，防脫掛鉤341為一金屬彈片，底部收縮，插入在鏈條25的縫隙中但不是很深，既可以防止運(yùn)行時(shí)托盤在鏈條上滑動，又可以在鏈條25在端部發(fā)生回轉(zhuǎn)時(shí)，能從縫隙中脫離出來；其三，在整個(gè)運(yùn)行通道上，在樣片托盤34的邊部上方還設(shè)置了防污板342，防污板342俯罩在托盤上方，防止防止濺射膜污染鏈條；其四，在樣片托盤34的側(cè)部設(shè)置托盤導(dǎo)向輥343，用于對樣片托盤的導(dǎo)向，防止托盤掉離鏈條。綜合以上幾點(diǎn)，更能保證托盤運(yùn)行的穩(wěn)定性。

本發(fā)明的再一特點(diǎn)是，樣片的鍍膜過程是一動態(tài)連續(xù)升溫加熱鍍膜的過程。如圖1、圖6、圖8所示，本發(fā)明提供一加熱裝置4，該加熱裝置4是利用樣片托盤的連續(xù)運(yùn)行特性，設(shè)置在真空室中樣片運(yùn)行的下方空間中，該加熱裝置4包括連續(xù)設(shè)置的多個(gè)加熱模塊41，各加熱模塊沿運(yùn)行方向依次排列，逐級升溫。如圖6所示，每一加熱模塊高度可調(diào)，在沒有被樣片托盤壓住時(shí)高度高于運(yùn)輸平面，當(dāng)托盤壓在該塊加熱模塊上時(shí)，該加熱模塊被壓低，不高于運(yùn)輸平臺以保證正常運(yùn)輸，且同時(shí)與所述托盤緊密接觸。因此，在每塊加熱模塊下方設(shè)置一自動調(diào)高組件42支撐加熱模塊。

所述自動調(diào)高組件42包括粗調(diào)組件和精調(diào)組件。粗調(diào)組件中包括一組螺紋桿421，螺紋桿上帶有調(diào)高螺母422，一組螺紋桿中至少包含兩個(gè)螺紋桿，螺紋桿上通過調(diào)高螺母422共同支撐一塊支撐板423，支撐板423上支撐加熱模塊41；通過調(diào)整螺紋桿421的旋接高度或者調(diào)高螺母422的旋接高度，都可以調(diào)整支撐板423的高度，進(jìn)而調(diào)整加熱模塊的高度。粗調(diào)組件的作用下，可以粗略調(diào)整加熱模塊適應(yīng)輸送平臺的高度，使加熱模塊在自然狀態(tài)下略高于輸送平面。精調(diào)組件設(shè)置在支撐板423上，支撐加熱模塊41。精調(diào)組件采用一組彈性部件424，彈性部件可選擇一種耐磁控濺射高溫真空環(huán)境的彈性橡膠件或金屬彈簧件，如聚酰亞胺等梯形聚合物用有機(jī)硅橡膠改性的橡膠件，或者inconelx-750、gh4145、inconel718、gh4169彈簧等。在精調(diào)組件的作用下，可以精確調(diào)整加熱模塊適應(yīng)樣片托盤的高度，使樣片托盤經(jīng)過時(shí)，下壓加熱模塊，且緊貼加熱模塊，等托盤走過去后再自行彈起高于輸送平面。在粗調(diào)組件和精調(diào)組件的作用下，達(dá)到了托盤在運(yùn)行過程始終與加熱模塊接觸，持續(xù)升溫的目的。

進(jìn)一步地，自動調(diào)高組件42，也可采取除上述實(shí)施例外的其他調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)，如其中的粗調(diào)組件可以采用一組立桿，立桿上設(shè)置調(diào)高滑槽，滑槽上采用螺栓安裝支撐板423。

進(jìn)一步地，為了減小加熱模塊41的熱傳導(dǎo)作用，在加熱模塊41底部與精調(diào)組件之間，可夾設(shè)陶瓷墊片等高溫絕熱材料，阻止熱量的流失。

進(jìn)一步地，加熱模塊41，為一平板加熱塊，在其內(nèi)部加入加熱絲，加熱絲溫度由溫控器控制，實(shí)現(xiàn)梯度溫度。將連續(xù)的多塊加熱模塊按一定的溫度梯度排列，將使樣片獲得持續(xù)升溫。

如圖9所示，在真空室的上方和下方間隔設(shè)置磁控濺射靶，或等離子體發(fā)生器，或離子源等鍍膜設(shè)備5，對真空室中運(yùn)行的樣片進(jìn)行轟擊。采用精密鏈條驅(qū)動，并配合氣體的連接機(jī)構(gòu)、遮擋機(jī)構(gòu)、檢測機(jī)構(gòu)及控制機(jī)構(gòu)，便可以實(shí)現(xiàn)樣品的穩(wěn)定、慢速、平穩(wěn)運(yùn)動，保證樣品的成膜均勻性與成膜效果。