本發(fā)明涉及一種加熱裝置，具體是指一種鍍膜機用基片加熱裝置。

背景技術(shù)：

鍍膜機一般是通過設(shè)置在鍍膜機內(nèi)的阻蒸設(shè)備來加熱靶材使其表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，并且使靶材的原子團或離子沉降在基片表面，通過成膜過程(散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。為了使基片的鍍膜質(zhì)量更好，人們在鍍膜機的鍍膜室內(nèi)設(shè)置了基片加熱裝置。

然而，現(xiàn)有的基片加熱裝置在為基片加熱時，不能根據(jù)基片的形狀來調(diào)節(jié)加熱角度和加熱的距離，導(dǎo)致基片加熱裝置對基片加熱的效果較差，從而嚴(yán)重的影響了基片的鍍膜質(zhì)量。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有的基片加熱裝置不能調(diào)節(jié)對基片的加熱角度的缺陷，提供一種鍍膜機用基片加熱裝置。

本發(fā)明的目的通過下述技術(shù)方案現(xiàn)實：一種鍍膜機用基片加熱裝置，主要由電極座，與電極座的電極接頭電連接的加熱管，以及設(shè)置在電極座上的支撐桿組成；在電極座與支撐桿之間還設(shè)置有能帶動電極座轉(zhuǎn)動的連接組件。

所述連接組件包括與支撐桿相連接的安裝座，和通過轉(zhuǎn)軸連接在安裝座上并能延轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動的支撐架；所述電極座與支撐架相連接。

所述支撐桿包括外桿，和設(shè)置在外桿上并能延外桿上下運動的伸縮桿，所述安裝座與伸縮桿相連接。

所述電極座上還設(shè)有防污板，所述防污板上分別設(shè)置有卡槽和開口。

進一步的，所述電極座上設(shè)置有螺栓，所述螺栓與卡槽活動連接。

所述安裝座上設(shè)置有用于鎖緊支撐架的螺釘。

所述外桿上設(shè)置有用于鎖緊伸縮桿的鎖緊螺釘。

更進一步的，所述外桿的下端還設(shè)置有安裝板，所述安裝板上使用絕緣板。

所述電極座上還設(shè)有透明擋板，所述透明擋板位于加熱管的上方。

本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點及有益效果：

(1)本發(fā)明設(shè)的連接組件能帶動設(shè)置有加熱管的電極座轉(zhuǎn)動，使加熱管能根據(jù)基片的形狀來改變對基片的加熱角度；從而確保了本發(fā)明對基片加熱的效果，有效的提高了基片鍍膜的質(zhì)量。

(2)本發(fā)明設(shè)置的支撐桿的伸縮桿能帶動電極座上下運動，從而確保了本發(fā)明能對基片加熱的距離進行調(diào)節(jié)。

(3)本發(fā)明所設(shè)置的防污板能有效的防止基片加熱裝置被靶材的原子團或離子污染；并且防污板通過卡槽與螺釘配合使用，能使防污板的安裝或拆卸更方便。

(4)本發(fā)明的連接組件的安裝座上設(shè)置的螺釘能很的對連接組件的支撐架進行固定，使支撐架的轉(zhuǎn)動角度保持在所需的角度上，從而提高了本發(fā)明對基片加熱的準(zhǔn)確性。

(5)本發(fā)明設(shè)置的支撐桿與設(shè)置在其上的鎖緊螺釘相配合，能使加熱裝置的加熱管準(zhǔn)確的保持在所需的高度，從而確保了本發(fā)明對加熱管與基片的距離調(diào)節(jié)的準(zhǔn)確性。

(6)本發(fā)明在支撐桿的底端上設(shè)置的安裝板能便于防污板的安裝與拆卸，而設(shè)置在安裝板上的絕緣板能使基片加熱裝置在使用時更安全。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的整體示意圖。

圖2為本發(fā)明的局部剖視圖。

圖3為本發(fā)明的防污板的結(jié)構(gòu)示意圖。

上述附圖中，附圖標(biāo)記對應(yīng)的部件名稱如下：

1—電極座，2—防污板，3—加熱管，4—伸縮桿，5—外桿，6—安裝板，7—絕緣板，8—透明擋板，9—支撐架，10—轉(zhuǎn)軸，11—安裝座，12—螺釘，13—安裝通孔，14—螺栓，15—鎖緊螺釘，16—卡槽，17—開口，18—電極接頭。

具體實施方式

下面結(jié)合實施例對本發(fā)明作進一步地詳細說明，但本發(fā)明的實施方式并不限于此。

實施例

如圖1～3所示，本發(fā)明公開了一種鍍膜機用基片加熱裝置，主要由電極座1，與電極座1電連接的加熱管3，以及設(shè)置在電極座1上的支撐桿組成。如圖1、2所示在電極座1上設(shè)有防污板2，并且在電極座1與支撐桿之間還設(shè)置有能帶動電極座1轉(zhuǎn)動的連接組件；所述支撐桿如圖1、2所示，其包括外桿5和伸縮桿4。

實施時，本發(fā)明中所述的電極座1優(yōu)先采用了設(shè)有兩組電極接頭18的電極座，該電極座1上設(shè)有安裝相應(yīng)部件的螺紋孔。所述的加熱管3優(yōu)先采用了發(fā)熱速度快的鹵素?zé)艄軄韺崿F(xiàn)，加熱管3設(shè)置在電極座1上，加熱管3的電極端與電極座1的電極接頭18電連接，本發(fā)明所設(shè)置的加熱管3的數(shù)量與電極端與電極座1的電極接頭的組數(shù)相同。為了防止加熱管3被靶材的原子團或離子污染，本發(fā)明在位于加熱管3的上方電極座1上設(shè)置了透明擋板8，該透明擋板8優(yōu)先采用了耐高溫且傳熱效果好的透明石英板來實現(xiàn)，透明擋板8通過自攻螺釘固定在電極座1上。本發(fā)明所采用的兩組電極接頭的電極座，在使用時可根據(jù)需要更換為設(shè)置有不同組數(shù)電極接頭的電極座，而加熱管3的數(shù)量也可根據(jù)所采用的電極座的電極接頭的組數(shù)進行調(diào)整。

同時，如圖1、2所示，為了防止加熱裝置的主要部件被靶材的原子團或離子污染，本發(fā)明在電極座1上還設(shè)置了防污板2，該防污板2的結(jié)構(gòu)如圖3所示，該防污板2采用了耐高溫且易清潔的不銹鋼板來實現(xiàn)。為了便于防污板2的安裝和拆卸，本發(fā)明在電極座1上的螺紋孔上設(shè)置了螺栓14，所述的防污板2則通過設(shè)置在防污板2上的卡槽16安裝在螺栓14上，該卡槽16的卡口直徑略大于螺栓14的直徑，使防污板2的安裝或拆卸更方便。而防污板2如圖3所示，其上還設(shè)置有一個開口17，支撐桿貫穿該開口17后與開口17的內(nèi)壁相接觸，防污板2所設(shè)置的開口17能使防污板2更好的對加熱裝置進行防護。

本發(fā)明為了解決現(xiàn)有的基片加熱裝置不能對加熱角度進行調(diào)節(jié)的問題，在支撐桿與電極座1的連接處設(shè)置了可轉(zhuǎn)動的連接組件。所述的連接組件如圖2所示，其包括與支撐桿相連接的安裝座11，和通過轉(zhuǎn)軸10設(shè)置在安裝座11上并能延轉(zhuǎn)軸10轉(zhuǎn)動的支撐架9。所述的安裝座11上設(shè)有安裝通孔13，所述的支撐桿的一端則安裝在安裝座11的安裝通孔13內(nèi)，且該支撐桿的外壁與安裝通孔13的內(nèi)壁緊密接觸。所述的支撐架9上設(shè)置了多個螺紋孔，電極座1則通過與支撐架9上的螺紋孔相匹配的螺紋釘固定連接在支撐架9上，支撐架9延轉(zhuǎn)軸10轉(zhuǎn)動時便能帶動電極座1進行轉(zhuǎn)動，從而使設(shè)置在電極座1上的加熱管3的加熱角度發(fā)生變化。為了使加熱管3的加熱角度能保持在一個固定的位置上，本發(fā)明在安裝座11上設(shè)置了用于鎖緊支撐架9的螺釘12，所述的螺釘12優(yōu)先采用了便于擰動的蝴蝶螺釘來實現(xiàn)，使用時擰動螺釘12使螺釘12鎖緊支撐架9，支撐架9不再轉(zhuǎn)動，加熱管3的加熱角度也同時得到了固定。在需調(diào)節(jié)加熱管3的加熱角度時，則只需擰動螺釘12，使螺釘12不與支撐架9緊密接觸便能實現(xiàn)對加熱管3的加熱角度的調(diào)節(jié)。

進一步地，為了實現(xiàn)對基片的加熱距離的調(diào)節(jié)，本發(fā)明所述的支撐桿采用了伸縮式支撐桿來實現(xiàn)，所述的支撐桿如圖1、2所示，其包括外桿5和伸縮桿4。所述的外桿5一端上設(shè)置有用于鎖緊伸縮桿4的鎖緊螺釘15，另一端上設(shè)置有安裝板6；而所述的伸縮桿4則設(shè)置在外桿5內(nèi)并能延外桿5的內(nèi)壁上下運動，該伸縮桿4的上端則穿過防污板2上的開口17后安裝在安裝座11上的安裝通孔13內(nèi)，該伸縮桿4并與開口17的內(nèi)壁緊密接觸，因此，伸縮桿4運動時能帶動安裝座11及設(shè)置在安裝座11上的部件與伸縮桿4一起運動，而通過擰動鎖緊螺釘15便能對伸縮桿4的運動狀態(tài)進行控制，從而使本發(fā)明實現(xiàn)了對基片加熱距離的調(diào)節(jié)。

其中，所述的安裝板6通過螺紋釘連接在外桿5上，該安裝板6上同時設(shè)置了兩個以上用于安裝的通孔，安裝板6則通過貫穿安裝板6上的通孔的螺桿安裝在蒸發(fā)室的安裝臺上。為了確保本發(fā)明使用時的安全性，在安裝板6與蒸發(fā)室的安裝臺之間還設(shè)置了絕緣板7，該絕緣板7則優(yōu)先采用了耐高溫的陶瓷絕緣板來實現(xiàn)。

本發(fā)明在使用時，電極座1的通過電線與外部的電源相連接來為加熱管3提供工作電壓，用于連接電極座1與外部的電源的電線則貫穿如圖2所示的各部件中心通孔。本發(fā)明運行時，當(dāng)我們需要改變對基片加熱的角度時，我們只需通過轉(zhuǎn)動支撐架9使支撐架9帶動與其相連接的電極座1轉(zhuǎn)動，便能使安裝在電極座1上的加熱管3對基片的加熱角度發(fā)生變化。在加熱管3對基片的加熱角度調(diào)節(jié)到我們所需的角度時，我們通過擰緊設(shè)置在安裝座11上的螺釘12，使螺釘12與支撐架9緊密接觸，支撐架9則不會轉(zhuǎn)動，此時加熱管3對基片的加熱角度便能保持在所需的加熱角度。

同時，本發(fā)明能通過調(diào)節(jié)支撐桿的伸縮桿4的上下運動的距離實現(xiàn)對加熱管3與基片的距離進行調(diào)節(jié)。當(dāng)需要縮短加熱管3與基片距離時，我們便使伸縮桿4向上運動，在加熱管3與基片的距離達到所需的距離時，鎖緊設(shè)置在外桿5上的鎖緊螺釘15，便能使熱管3與基片距離保持在所需的距離上。當(dāng)需要增加加熱管3與基片距離時，我們便使伸縮桿4向下運動，在加熱管3與基片的距離達到所需的距離時，鎖緊設(shè)置在外桿5上的鎖緊螺釘15，便能使熱管3與基片距離保持在所需的距離上。而設(shè)置在電極座1上的防污板2能很好的防止基片加熱裝置被靶材的原子團或離子污染。從而本發(fā)明很好的解決了現(xiàn)有的基片加熱裝置不能對基片加熱的角度和距離進行調(diào)節(jié)，以及不能有效的防止基片加熱裝置被靶材的原子團或離子污染的問題。

如上所述，便可很好的實現(xiàn)本發(fā)明。